JPS61271048A - 成膜装置 - Google Patents
成膜装置Info
- Publication number
- JPS61271048A JPS61271048A JP60112064A JP11206485A JPS61271048A JP S61271048 A JPS61271048 A JP S61271048A JP 60112064 A JP60112064 A JP 60112064A JP 11206485 A JP11206485 A JP 11206485A JP S61271048 A JPS61271048 A JP S61271048A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- film
- liq
- film forming
- control part
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Coating Apparatus (AREA)
- Liquid Deposition Of Substances Of Which Semiconductor Devices Are Composed (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、例えば半導体技術分野並びに光学技術分野等
において、デバイスのｔ要な構成要素となる有ａ薄膜の
成膜装置に関し、特に、有機物質の単分子層を液面−Ｌ
に形成し、この中分子層を基板に移しとることにより、
該基板上に単分子膜又はその累積膜を形成させる成膜装
置に関する。
において、デバイスのｔ要な構成要素となる有ａ薄膜の
成膜装置に関し、特に、有機物質の単分子層を液面−Ｌ
に形成し、この中分子層を基板に移しとることにより、
該基板上に単分子膜又はその累積膜を形成させる成膜装
置に関する。
［従来の技術］
従来、半導体技術分野並びに光学技術分野における素材
利用は、もっばら比較的取扱いが容易な無機物を対象に
して進められて来た。
利用は、もっばら比較的取扱いが容易な無機物を対象に
して進められて来た。
しかしながら、最近の有機化学分野の技術進歩は目覚ま
しく、無機物を凌ぐ新しい機能要材として、論理素ｒ−
、メモリー素ｆ、光電変検素ｆ等の集積回路デバイスや
、マイクロレンズ・アレイ、光導波路笠の光学デバイス
の機能を荷う部分（丁として薄膜部分〕の一部又は全部
を従来の無機薄ｊＩＱに代えて、有機薄膜で構成しよう
とする提案がなされている。
しく、無機物を凌ぐ新しい機能要材として、論理素ｒ−
、メモリー素ｆ、光電変検素ｆ等の集積回路デバイスや
、マイクロレンズ・アレイ、光導波路笠の光学デバイス
の機能を荷う部分（丁として薄膜部分〕の一部又は全部
を従来の無機薄ｊＩＱに代えて、有機薄膜で構成しよう
とする提案がなされている。
このようなデバイスの′Ｅ要な構成要素である有ａ薄膜
は中介子累積法を用いて作製される。中分子−累積法（
別名ラングミュア・プロジェット法、ＬＢ法）とは、親
木基・疎水基をもった分子の親水性、疎水性を利用して
秩序よく水の上に展開して単分子膜を形成した後、これ
を基板表面に移しとる方法で、基板上に単分子膜あるい
は中介そを積層した単分子累積膜（これらをＬＢ膜とい
う）の形成が可能である。
は中介子累積法を用いて作製される。中分子−累積法（
別名ラングミュア・プロジェット法、ＬＢ法）とは、親
木基・疎水基をもった分子の親水性、疎水性を利用して
秩序よく水の上に展開して単分子膜を形成した後、これ
を基板表面に移しとる方法で、基板上に単分子膜あるい
は中介そを積層した単分子累積膜（これらをＬＢ膜とい
う）の形成が可能である。
従来この種の装置は、第２図に示すように浅くて広い角
型の液槽１の内側に枠２が水平に水面３を仕切るように
置かれている。枠２は二次元シリンダとして機能し、枠
２の内側には方形の浮子４が浮かべられ、浮ｆ４の幅は
枠２の内すより僅かに狭く造ってあり、二次元ピストン
として左右に滑らかに移動できるようになっている。浮
子４を左右に移動させるためにワイヤー５を介して浮子
４はモーターなどを利用した巻き取り装置６と結ばれて
いる。
型の液槽１の内側に枠２が水平に水面３を仕切るように
置かれている。枠２は二次元シリンダとして機能し、枠
２の内側には方形の浮子４が浮かべられ、浮ｆ４の幅は
枠２の内すより僅かに狭く造ってあり、二次元ピストン
として左右に滑らかに移動できるようになっている。浮
子４を左右に移動させるためにワイヤー５を介して浮子
４はモーターなどを利用した巻き取り装置６と結ばれて
いる。
中分子膜の形成の際には、膜の構成物質をベンゼン、ク
ロロホルム等の揮発性溶媒に溶かし、水面３北に滴下す
る。溶媒が揮発した後には、二次元系の挙動を示す単分
子膜が水面３上に残される。分子の面密度が低い時は、
二次元気体の気体膜と呼ばれる。浮ｆ４を右方向へ移動
させることで中分子が展開する水面３の広がりを縮めて
面密度を増加させて行くと、分子間の相互作用が強まり
、二次元液体の液体膜を経て、二次元固体膜へと変化す
る。この固体膜になると分子の配列配向はきれいにそろ
い、半導体等を構成する材料に要求される高度の秩序性
及び均一な超薄膜性を持つにいたる。
ロロホルム等の揮発性溶媒に溶かし、水面３北に滴下す
る。溶媒が揮発した後には、二次元系の挙動を示す単分
子膜が水面３上に残される。分子の面密度が低い時は、
二次元気体の気体膜と呼ばれる。浮ｆ４を右方向へ移動
させることで中分子が展開する水面３の広がりを縮めて
面密度を増加させて行くと、分子間の相互作用が強まり
、二次元液体の液体膜を経て、二次元固体膜へと変化す
る。この固体膜になると分子の配列配向はきれいにそろ
い、半導体等を構成する材料に要求される高度の秩序性
及び均一な超薄膜性を持つにいたる。
？ｎ分子膜を水面３上から基板７表面上に移し取る方法
として、水面３上の中分子膜に累積操作に好適な・定の
表面圧を保持しながら、基板ホルダー８に取付けた基板
７を垂直方向９に北上することにより中分子膜を移しと
る垂直浸漬法がある。
として、水面３上の中分子膜に累積操作に好適な・定の
表面圧を保持しながら、基板ホルダー８に取付けた基板
７を垂直方向９に北上することにより中分子膜を移しと
る垂直浸漬法がある。
［発明が解決しようとする問題点］
Ｌ記の如き従来の装置では、基板が展開液面に接触する
のは基板ホルダーが１回り下動するにつき１回だけなの
で、非能率的であるうえに、厳密には１回毎にＥ下動の
速度や接面時間などの成膜条件が異なり、製品の均一性
という点からも問題がある。
のは基板ホルダーが１回り下動するにつき１回だけなの
で、非能率的であるうえに、厳密には１回毎にＥ下動の
速度や接面時間などの成膜条件が異なり、製品の均一性
という点からも問題がある。
本発明は、これらの問題点を解決し、能率的で製品の均
一性を増す成膜装置を提供することを目的とする。
一性を増す成膜装置を提供することを目的とする。
［問題点を解決するための手段］
Ｅ記問題点を解決するために講じられた手段を、本発明
の一実施例に対応する第１図で説明すると、複数の液槽
１ａ〜１ｄと、基板ホルダー８に保持された複数の基板
７ａ〜７ｄを同時に異なる液槽１ｄ〜１ｄに対して上下
させる基板コントロール部１２とを有することを特徴と
する成膜装置である。
の一実施例に対応する第１図で説明すると、複数の液槽
１ａ〜１ｄと、基板ホルダー８に保持された複数の基板
７ａ〜７ｄを同時に異なる液槽１ｄ〜１ｄに対して上下
させる基板コントロール部１２とを有することを特徴と
する成膜装置である。
北記の液槽１ａ〜１ｄは、それぞれ独立した液槽を装置
内で等間隔に配首してもよければ、大型槽を枠などによ
り等分に仕切ってもよい。
内で等間隔に配首してもよければ、大型槽を枠などによ
り等分に仕切ってもよい。
［作 用］
各基板７ａ〜７ｄは、基板コントロール部１２の上下動
により一斉に液槽１ａ−１ｄへ降下され、単分子層が移
しとられる。従って、各基板７ａ〜７ｄには、異なる液
槽１ａ−１ｄの水面上に展開された単分子膜が、同一の
上下動条件下で移し取られることになり、上下動条件が
各液槽１ａ〜１ｄについて異なることにより成膜状態の
不均一化を防止できる。
により一斉に液槽１ａ−１ｄへ降下され、単分子層が移
しとられる。従って、各基板７ａ〜７ｄには、異なる液
槽１ａ−１ｄの水面上に展開された単分子膜が、同一の
上下動条件下で移し取られることになり、上下動条件が
各液槽１ａ〜１ｄについて異なることにより成膜状態の
不均一化を防止できる。
なお、本発明における成膜原理自体は、従来例で説明し
た単分子累積法（ＬＢ法）と同様である。
た単分子累積法（ＬＢ法）と同様である。
［実施例］
以下、本発明を、実施例とその図面を参照して詳細に説
明する。
明する。
第１図は、本発明に係る成膜装置の一実施例を示す斜視
図である。第１図において、成膜装置は円形槽を備え、
その円形槽が放射状の枠２によって４つの円形の液槽１
ａ〜１ｄに仕切られている。円形の中心位置には、塔状
の基板コントロール部１２が立設され、その頂端からほ
ぼ水平に四方へ伸ばされた４木のアーム状の基板ホルダ
ー８の先端部に、成膜が行われる基板７ａ〜７ｄを保持
している。この基板コントロール部１２は回動および上
下動可能で、８０度ずつ回動しては上下動することによ
り、前記各扇形液槽１ａ〜１ｄの水面３ａ〜３ｄから順
次に単分子層を各基板７ａ〜７ｄに移しとって、累結膜
を形成する。
図である。第１図において、成膜装置は円形槽を備え、
その円形槽が放射状の枠２によって４つの円形の液槽１
ａ〜１ｄに仕切られている。円形の中心位置には、塔状
の基板コントロール部１２が立設され、その頂端からほ
ぼ水平に四方へ伸ばされた４木のアーム状の基板ホルダ
ー８の先端部に、成膜が行われる基板７ａ〜７ｄを保持
している。この基板コントロール部１２は回動および上
下動可能で、８０度ずつ回動しては上下動することによ
り、前記各扇形液槽１ａ〜１ｄの水面３ａ〜３ｄから順
次に単分子層を各基板７ａ〜７ｄに移しとって、累結膜
を形成する。
Ｌ記の成膜装置は、基板コントロール部１２の上Ｆ動１
回で、４枚の基板７ａ〜７ｄに同時に単分子層を移しと
るので、従来の装置に比較して４倍の速度で処理するこ
とができ、能率的である。また、その４枚に関する限り
、Ｊ：、下動の速度および処理時間が同一同条件である
ので、製品が均一化される。
回で、４枚の基板７ａ〜７ｄに同時に単分子層を移しと
るので、従来の装置に比較して４倍の速度で処理するこ
とができ、能率的である。また、その４枚に関する限り
、Ｊ：、下動の速度および処理時間が同一同条件である
ので、製品が均一化される。
本発明において、液槽数も基板ホルダ一本数も特に限定
されるものではなく、液槽数と基板ホルダ一本数が同一
である必要もない。
されるものではなく、液槽数と基板ホルダ一本数が同一
である必要もない。
第３図は、そのような別の一実施例を示す斜視図である
。第３図において、円形槽は放射状の枠２により、８つ
の扇形の液槽１ａ−１ｈに仕切られ、その円形中心位置
に塔状の基板コントロール部ｆ２が立設され、その頂端
からほぼ水モに四方へ伸ばされたアーム状の基板ホルダ
ー８の先端部に、成膜が行われる基板７ａ〜７ｄが保持
されている。アームの本数が液槽数の半分なので、基板
７ａ〜７ｄは液槽１ａ−１ｈの１つ置きに配置され、基
板コントロール部１２の上ド動により、対応する水面３
ａ 、 ３ ｃ ＋ ３ ｅ ＋ ３ ｇから単
分子層を移しとり、次に４５度回動して水面３ｂ、３ｄ
。
。第３図において、円形槽は放射状の枠２により、８つ
の扇形の液槽１ａ−１ｈに仕切られ、その円形中心位置
に塔状の基板コントロール部ｆ２が立設され、その頂端
からほぼ水モに四方へ伸ばされたアーム状の基板ホルダ
ー８の先端部に、成膜が行われる基板７ａ〜７ｄが保持
されている。アームの本数が液槽数の半分なので、基板
７ａ〜７ｄは液槽１ａ−１ｈの１つ置きに配置され、基
板コントロール部１２の上ド動により、対応する水面３
ａ 、 ３ ｃ ＋ ３ ｅ ＋ ３ ｇから単
分子層を移しとり、次に４５度回動して水面３ｂ、３ｄ
。
３ｆ、３ｈから単分子層を累積する。この装置は、処理
速度の能率性と製品の均一性に関しては、第一の実施例
と同じ効果を有するが、分子群の種類や膜圧などの条件
が異なる２つの層を累積させる場合に特に好都合である
。
速度の能率性と製品の均一性に関しては、第一の実施例
と同じ効果を有するが、分子群の種類や膜圧などの条件
が異なる２つの層を累積させる場合に特に好都合である
。
「発明の効果」
以上説明したとおり、本発明によれば、複数の液槽に複
数の基板を上下動させることにより、能率的で、製品の
均一性を高める成膜装置を提供することができる。
数の基板を上下動させることにより、能率的で、製品の
均一性を高める成膜装置を提供することができる。
第１図は本発明の一実施例の斜視図、第２図は従来例の
斜視図、第３図は本発明の別な一実施例の斜視図である
。 ｌａ〜１ｈ・・・液槽、２・・・枠、 ３ａ〜３ｈ・・・水面、７ａ〜７ｄ・・・基板、８・・
・基板ホルダー、１２・・・基板コントロール部。
斜視図、第３図は本発明の別な一実施例の斜視図である
。 ｌａ〜１ｈ・・・液槽、２・・・枠、 ３ａ〜３ｈ・・・水面、７ａ〜７ｄ・・・基板、８・・
・基板ホルダー、１２・・・基板コントロール部。
Claims (1)
- I ）複数の液槽と、基板ホルダーに保持された複数の
基板を同時に異なる液槽に対して上下動させる基板コン
トロール部とを有することを特徴とする成膜装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60112064A JPS61271048A (ja) | 1985-05-27 | 1985-05-27 | 成膜装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60112064A JPS61271048A (ja) | 1985-05-27 | 1985-05-27 | 成膜装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61271048A true JPS61271048A (ja) | 1986-12-01 |
Family
ID=14577143
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60112064A Pending JPS61271048A (ja) | 1985-05-27 | 1985-05-27 | 成膜装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61271048A (ja) |
-
1985
- 1985-05-27 JP JP60112064A patent/JPS61271048A/ja active Pending
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