JPS61246360A - 真空蒸着装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、電子ビーム蒸着法により絶縁物基板上に薄膜
を形成する真空蒸着装置に関するものである◎ 従来の技術 従来より、小型球状、棒状、または角状基体の全周に均
一に薄膜を形成する電子ビーム蒸着法においては、第３
図に示すような構造の蒸着装置が一般に用いられている
。第３図は、電子銃４より放出された電子ビームがルツ
ボ６内の蒸着材料６を加熱し回転ドラム７内の基体に蒸
着する構造である。

発明が解決しようとする問題点 このような従来の構成では、ある種の金属又は合金を蒸
着材料として選択した場合に、電子ビームによって生じ
る反射電子、放電により基体がチャージアップされ、形
成された薄膜上にキズ状の欠陥が発生するという問題が
あった。

本発明はこのような問題点を解決するもので、電子ビー
ム蒸着において、被蒸着基体のチャージアップを防止し
、蒸着膜に生じる欠陥をなくすことを目的としたもので
ある。

問題点を解決するための手段 この問題点を解決するために本発明は、基体攪拌用の回
転ドラム内側に導体ピンを取付けるか導体球を投入する
ことにより、基体のチャージアップを防止するようにし
たものである。

作　　用 この構成により、チャージアップにより発生する薄膜上
の欠陥を著しく低下させることができる。

実施例 第１図に本発明の一実施例による真空蒸着装置の回転ド
ラム部分を示しておシ、第１図に示すように回転ドラム
１の内部に銅製の導体ピン２が複数取付けられている。

また被蒸着基体３としてアルミナ碍子を投入している。

このようにして、電子ビーム蒸着によりＮｉＣｒを蒸着
し、抵抗器を製作した場合の過負荷エージングにおける
不良率の推移は、第２図のようになるＯ この第２図の不良率推移比較より明らかなように、画構
成を用いることにより、薄膜の欠陥を著しく低減させる
ことができる。

なお、上記実施−例においては、回転ドラム１内面に導
体ピン２を取付けた場合を示したが、回転ドラム１内に
複数の導体球を投入した構成としてもよい。

発明の効果 以上のように本発明によれば、チャージアップによる薄
膜の欠陥を少なくすることができる０

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例による真空蒸着装置の回転ド
ラムを示す斜視図、第２図は蒸着品を用いて抵抗器を製
作した場合の不良率を示す図、第３図は一般的な電子ビ
ーム蒸着方法を示す概略図である。 １・・・・・・回転ドラム、２・・・・・・導体ピン、
３・・・・・・被蒸着基体。 代理人の氏名　弁理士　中　尾　敏　男　ほか１名第１
図 第２図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 　電子ビーム蒸着法により薄膜が形成される被蒸着基体
   を投入する回転ドラム内に、導体を配設した真空蒸着装
   置。