JPS61243403A - ランダム位相板 - Google Patents
ランダム位相板Info
- Publication number
- JPS61243403A JPS61243403A JP8511585A JP8511585A JPS61243403A JP S61243403 A JPS61243403 A JP S61243403A JP 8511585 A JP8511585 A JP 8511585A JP 8511585 A JP8511585 A JP 8511585A JP S61243403 A JPS61243403 A JP S61243403A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- phase plate
- random phase
- sheet
- random
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Landscapes
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
- Holo Graphy (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、屈折率の異なる領域をランダムに有するフィ
Ｖレムないしシート状のプラスチックからなり、大型の
ものも容易に、かつ、尚精度にしかも効率よく作製でき
るランダム位相板に関する。
Ｖレムないしシート状のプラスチックからなり、大型の
ものも容易に、かつ、尚精度にしかも効率よく作製でき
るランダム位相板に関する。
従来の技術
立体記録方式、多重記録方式ないし高密度メモリ方式な
どとしてホログラフィ記録方式が情報産業分野等より大
きな注目を集めている。
どとしてホログラフィ記録方式が情報産業分野等より大
きな注目を集めている。
このホログラフィ記録方式においてはその使用光のコヒ
ーレンス性の故にホログラムに基づいて−ム ・
＋ 、 “削＃’＋Ａ＃＾ → え・ −／Ｐ
Ｉ＋ −７／ｆ蜂妄が生じ、これが高密度記録を妨
げる原因となるためにその雑音の発生を防止すべく種々
の対策が講じられている。その対策の−にランダムフェ
ーズサンプリング方式があり、この方式は理論上程々の
利点を有している。
ーレンス性の故にホログラムに基づいて−ム ・
＋ 、 “削＃’＋Ａ＃＾ → え・ −／Ｐ
Ｉ＋ −７／ｆ蜂妄が生じ、これが高密度記録を妨
げる原因となるためにその雑音の発生を防止すべく種々
の対策が講じられている。その対策の−にランダムフェ
ーズサンプリング方式があり、この方式は理論上程々の
利点を有している。
ところで、ランダムフェーズサンプリング方式ではラン
ダム位相板がサンプリングメツシュとともに必須構成部
品、となる。
ダム位相板がサンプリングメツシュとともに必須構成部
品、となる。
従来、そのランダム位相板としてはガラス板に幾層もの
蒸着膜を設けたものが知られていた。
蒸着膜を設けたものが知られていた。
発明が解決しようとする問題点
しかしながら、グラス板に蒸着膜を設けてなるランダム
位相板には、蒸着膜の不均一性に起因してその位相精度
に劣ること、作製方式に起因して大型サイズのものが得
に＜＜、かつ、作製に要する労力が多くて高価であるこ
となどの問題があった。
位相板には、蒸着膜の不均一性に起因してその位相精度
に劣ること、作製方式に起因して大型サイズのものが得
に＜＜、かつ、作製に要する労力が多くて高価であるこ
となどの問題があった。
問題点を解決するための手段
本発明は、上記の問題点の克服を目的としてな１、ｔも
のであり、毘７）ふ届枡塩域をランダムに有するプラス
チックからなるものを提供するものである。
のであり、毘７）ふ届枡塩域をランダムに有するプラス
チックからなるものを提供するものである。
すなわち、本発明のランダム位相板は、屈折率の異なる
領域をランダムに有するプラスチックのフィｒレムない
しシートからなるものである。
領域をランダムに有するプラスチックのフィｒレムない
しシートからなるものである。
作 用
本発明のランダム位相板では、ランダムに位置する屈折
率の異なる領域に基づいて、これを透過したレーザ光等
のコヒーレント光はその各領域における異なった光学距
離によりランダムに位相が異ったものと表る。
率の異なる領域に基づいて、これを透過したレーザ光等
のコヒーレント光はその各領域における異なった光学距
離によりランダムに位相が異ったものと表る。
発明の構成要素の開示
本発明において用いられるプラスチックとしては、例え
ばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブタジェンのよ
うなポリオレフィン、ポリ塩化ビニ？し、ポリ塩化ビニ
リデン、ポリビニ？レアＰレコーｔし、ポリビニツレア
セクー？し、ポリスチレンのようなビニ？し系ポリマ、
ポリメチワレメタクリレート、ポリエチ？レメタクリレ
ート、ポリブチ？レアクリレート、２−エチルヘキシタ
レアクリレートのようなメタクリｐし酸ないしアクリ！
し酸のエステＰし系ボリザ、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリエチレンテレフレート、ポリブチレンテレフタ
レートのようなエステＰし系ポリマ、ナイロン６、ナイ
ロン６．６、ナイａン６，１０のよりなアミド系ポリマ
、セｔレローストリアセテートのようなセｔレロース系
ポリマ、ポリカーボネート、ポリアセター？し、ボリサ
ｐレホンなどをあげることができるが、本発明において
はこれらに限定されずフィシレムないしシート形成性を
有するもの、望ましくけ透明性の良好なものでおれば用
いうる。
ばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブタジェンのよ
うなポリオレフィン、ポリ塩化ビニ？し、ポリ塩化ビニ
リデン、ポリビニ？レアＰレコーｔし、ポリビニツレア
セクー？し、ポリスチレンのようなビニ？し系ポリマ、
ポリメチワレメタクリレート、ポリエチ？レメタクリレ
ート、ポリブチ？レアクリレート、２−エチルヘキシタ
レアクリレートのようなメタクリｐし酸ないしアクリ！
し酸のエステＰし系ボリザ、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリエチレンテレフレート、ポリブチレンテレフタ
レートのようなエステＰし系ポリマ、ナイロン６、ナイ
ロン６．６、ナイａン６，１０のよりなアミド系ポリマ
、セｔレローストリアセテートのようなセｔレロース系
ポリマ、ポリカーボネート、ポリアセター？し、ボリサ
ｐレホンなどをあげることができるが、本発明において
はこれらに限定されずフィシレムないしシート形成性を
有するもの、望ましくけ透明性の良好なものでおれば用
いうる。
本発明の位相板は、前記プラスチックのフィタレムない
しシートからなるものである。その厚さとしては、通常
１０μｍ〜３−１好ましくは５０〜５００μｍが適当で
あるが、これに限定されない。
しシートからなるものである。その厚さとしては、通常
１０μｍ〜３−１好ましくは５０〜５００μｍが適当で
あるが、これに限定されない。
また、本発明の位相板は第１図のように屈折率・ の異
なる領域２ 、２’ 、 ２’・−・・全ランダムに有
するフィ・レムないしシート１である。
なる領域２ 、２’ 、 ２’・−・・全ランダムに有
するフィ・レムないしシート１である。
このようなフィ・レムないレシートの製造は、例えば異
なる屈折率を有する２種以上のポリマをブレンドし、こ
れを押出流延方式などくより成形し不屈性率の異なる部
分をモザイク状に有するフィルムないしシートとするこ
とＫより、あるいは延伸フィＩレムを局所的に熱処理、
溶剤処理等の物理的処理を施して屈折率を変化せしめた
延伸フィ・レムとすることＫよシ行うことができる。そ
の際、屈折率の異なる各領域の大きさとしては１０ 〜
１０２閤２、好ましくは１０−４〜ｌＯ−とすることが
適当である。該領域の大きさく断面積）が１０−２未満
であると屈折率の異なる物質同士の境界領域が多くなっ
て実質上、ランダム位相板としての機能が低下するし、
他方１０２− を超えると位相のランダム性がラフなも
のとなって好ましくガい。また、該領域の断面形態とし
て情正方形、矩形、円形などを該領域の配置分布性など
の点で望ましい例としてあげることができる。
なる屈折率を有する２種以上のポリマをブレンドし、こ
れを押出流延方式などくより成形し不屈性率の異なる部
分をモザイク状に有するフィルムないしシートとするこ
とＫより、あるいは延伸フィＩレムを局所的に熱処理、
溶剤処理等の物理的処理を施して屈折率を変化せしめた
延伸フィ・レムとすることＫよシ行うことができる。そ
の際、屈折率の異なる各領域の大きさとしては１０ 〜
１０２閤２、好ましくは１０−４〜ｌＯ−とすることが
適当である。該領域の大きさく断面積）が１０−２未満
であると屈折率の異なる物質同士の境界領域が多くなっ
て実質上、ランダム位相板としての機能が低下するし、
他方１０２− を超えると位相のランダム性がラフなも
のとなって好ましくガい。また、該領域の断面形態とし
て情正方形、矩形、円形などを該領域の配置分布性など
の点で望ましい例としてあげることができる。
なお、本発明の位相板は支持基板に貼合せるなどして実
用途に供することもできる。
用途に供することもできる。
第２図は本発明のランダム位相板の適用例としてホログ
ラム作製の模式図を表わし次ものである。
ラム作製の模式図を表わし次ものである。
００図にゝｌ、−，”ｉ（８カ”う″°”位相板である
・そｏ８（他の符号はそれぞれ次のものである。すなわ
ち、３はレーザー発振器等の光源、４はビームスプリッ
タ、５け鏡、６はビームスプレッダ、７けレンズ、９は
サンプリングメツシュ、１０け感光材料、１１ｉ！ｉ被
写体である。
・そｏ８（他の符号はそれぞれ次のものである。すなわ
ち、３はレーザー発振器等の光源、４はビームスプリッ
タ、５け鏡、６はビームスプレッダ、７けレンズ、９は
サンプリングメツシュ、１０け感光材料、１１ｉ！ｉ被
写体である。
発明の効果
本発明によれば、プラスチックのフィシレムないしシー
トからなるランダム位相板としたので、大型サイズのも
のも容易に、かつ、効率的にしかも位相精度にすぐれる
ものとして得ることができる。
トからなるランダム位相板としたので、大型サイズのも
のも容易に、かつ、効率的にしかも位相精度にすぐれる
ものとして得ることができる。
実施例
実施例１
ポリメチルメタクリレート（’ｎ、 ＝ １．４９）／
ポリスチレン（ηや＝１．５９）： ２／１ （重量比
）のブレンド物１２００℃ で押出す押出流延方式で厚
さ２００μｍのフィ・レムを形成した。
ポリスチレン（ηや＝１．５９）： ２／１ （重量比
）のブレンド物１２００℃ で押出す押出流延方式で厚
さ２００μｍのフィ・レムを形成した。
このフィルムはポリメチタレメタクリレート母材中にポ
リスチレンがモザイク状に分布して適度な不均一性を有
したものであり、ランダム位相板として機能するもので
あった。
リスチレンがモザイク状に分布して適度な不均一性を有
したものであり、ランダム位相板として機能するもので
あった。
実施例２
厚さ２００μｍのポリカーボネートフィルムを１６０℃
の温度で２倍に延伸（長さ方向）したのちこれｉ、２０
０℃に／ＪＯ熱されたランダムな凹凸を有する金属板と
冷却された平滑な金属板とではさみつけて部分的に該フ
ィｒレムの延伸状態を緩和させ、ついでさらに１６０℃
と１８０℃の加熱金属板（平滑物）ではさみつけて緩和
処理を行い、ランダム位相板を得た。
の温度で２倍に延伸（長さ方向）したのちこれｉ、２０
０℃に／ＪＯ熱されたランダムな凹凸を有する金属板と
冷却された平滑な金属板とではさみつけて部分的に該フ
ィｒレムの延伸状態を緩和させ、ついでさらに１６０℃
と１８０℃の加熱金属板（平滑物）ではさみつけて緩和
処理を行い、ランダム位相板を得た。
実施例３
厚さ１００μｍのボリサｔレホンフィｔレムを１８０℃
で１．５倍に延伸したのちこのフィ・レム上にクロロホ
ｔレムをランダムに噴緋して局部的にそＯ配向を緩和し
、ついで酢酸エチ・し、酢酸エチル／エタノ−・しく１
／１：重量比）混合溶媒で同様の緩和処理を行ってラン
ダム位相板を得た。
で１．５倍に延伸したのちこのフィ・レム上にクロロホ
ｔレムをランダムに噴緋して局部的にそＯ配向を緩和し
、ついで酢酸エチ・し、酢酸エチル／エタノ−・しく１
／１：重量比）混合溶媒で同様の緩和処理を行ってラン
ダム位相板を得た。
第１図は本発明のランダム位相板の構造例を表わした部
分断面料視図、第２図はホログラム作製の模式図である
。 １ニブラスチツクのフィ・レムないしシート、２゜２′
、２“・・・・二相折率の異なる領域、８：ランダム位
相板、９：サンプリングメツシュ。
分断面料視図、第２図はホログラム作製の模式図である
。 １ニブラスチツクのフィ・レムないしシート、２゜２′
、２“・・・・二相折率の異なる領域、８：ランダム位
相板、９：サンプリングメツシュ。
Claims (1)
- １、屈折率の異なる領域をランダムに有するプラスチッ
クのフィルムないしシートからなることを特徴とするラ
ンダム位相板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8511585A JPS61243403A (ja) | 1985-04-19 | 1985-04-19 | ランダム位相板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8511585A JPS61243403A (ja) | 1985-04-19 | 1985-04-19 | ランダム位相板 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61243403A true JPS61243403A (ja) | 1986-10-29 |
Family
ID=13849627
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8511585A Pending JPS61243403A (ja) | 1985-04-19 | 1985-04-19 | ランダム位相板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61243403A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0949515A3 (en) * | 1998-04-08 | 2002-03-27 | Toppan Printing Co., Ltd. | Light scattering film and liquid crystal display device |
| WO2006082678A1 (ja) * | 2005-01-06 | 2006-08-10 | National University Corporation Kobe University | 光情報記録装置（反射型ホログラフィックメモリ装置） |
| JP2009237920A (ja) * | 2008-03-27 | 2009-10-15 | Kobe Univ | 情報記憶媒体およびそれを用いた認証システム |
-
1985
- 1985-04-19 JP JP8511585A patent/JPS61243403A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0949515A3 (en) * | 1998-04-08 | 2002-03-27 | Toppan Printing Co., Ltd. | Light scattering film and liquid crystal display device |
| WO2006082678A1 (ja) * | 2005-01-06 | 2006-08-10 | National University Corporation Kobe University | 光情報記録装置（反射型ホログラフィックメモリ装置） |
| JPWO2006082678A1 (ja) * | 2005-01-06 | 2008-06-26 | 国立大学法人神戸大学 | 光情報記録装置（反射型ホログラフィックメモリ装置） |
| JP4568811B2 (ja) * | 2005-01-06 | 2010-10-27 | 国立大学法人神戸大学 | 光情報記録装置（反射型ホログラフィックメモリ装置） |
| US8120826B2 (en) | 2005-01-06 | 2012-02-21 | National University Corporation Kobe University | Optical information recorder (reflection holographic memory device) |
| JP2009237920A (ja) * | 2008-03-27 | 2009-10-15 | Kobe Univ | 情報記憶媒体およびそれを用いた認証システム |
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