JPS61243179A - 金属管内面の被膜形成装置 - Google Patents
金属管内面の被膜形成装置Info
- Publication number
- JPS61243179A JPS61243179A JP8444785A JP8444785A JPS61243179A JP S61243179 A JPS61243179 A JP S61243179A JP 8444785 A JP8444785 A JP 8444785A JP 8444785 A JP8444785 A JP 8444785A JP S61243179 A JPS61243179 A JP S61243179A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pipe
- inside surface
- raw material
- metal tube
- film
- Prior art date
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- Pending
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- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、金Ｎ管の内面に被膜を形成させ、耐食性、耐
摩耗性を改善する化学気相蒸着法による金属管内面の被
膜形成装置ｋＫ関する。
摩耗性を改善する化学気相蒸着法による金属管内面の被
膜形成装置ｋＫ関する。
金属材料の性質を改善する方法の一つとして、その表面
に様々な材質の被膜を形成せしめ、耐食性、耐摩耗性な
どを付与することが従来から行なわれている。その被膜
の形成法としては、溶射法、イオンプレーティングやス
パッタリングなどの物理的蒸着法（以下ＰＶＤという）
、化学気相蒸着法（以下ＣＶＤという）などがある。
に様々な材質の被膜を形成せしめ、耐食性、耐摩耗性な
どを付与することが従来から行なわれている。その被膜
の形成法としては、溶射法、イオンプレーティングやス
パッタリングなどの物理的蒸着法（以下ＰＶＤという）
、化学気相蒸着法（以下ＣＶＤという）などがある。
しかし、従来からの被！ｌＩ！形成法では長尺の金属管
内面に均一な膜を形成することが困難である。たとえば
化学プラントの配管の金属管の耐腐食性を向上させるた
め、その内面Ｋ ｓｔＯ，被膜を形成させる方法がある
が、短尺の金属管に被覆したものを継ぎ足して使用する
他はなかった。
内面に均一な膜を形成することが困難である。たとえば
化学プラントの配管の金属管の耐腐食性を向上させるた
め、その内面Ｋ ｓｔＯ，被膜を形成させる方法がある
が、短尺の金属管に被覆したものを継ぎ足して使用する
他はなかった。
本発明者は、従来の被膜形成法についているいろ研究を
行った結果、従来法では次のような欠点があることが分
った。
行った結果、従来法では次のような欠点があることが分
った。
（υ 溶射法にはグラダマ法と１１！爆法とがあるが、
プラズマ溶射法ではプラズマトーチな発生するためのノ
ズルが金ｌｓ管の内部深くに入りにくく長尺金属管内面
のコーティングは不可能である。
プラズマ溶射法ではプラズマトーチな発生するためのノ
ズルが金ｌｓ管の内部深くに入りにくく長尺金属管内面
のコーティングは不可能である。
線爆溶射法では緻密な被膜を得ることが困難であり、耐
腐食性が問題とされる用途では全く使用忙耐えない。
腐食性が問題とされる用途では全く使用忙耐えない。
（２）ＰＶＤ法はいずれも高価な高真空反応設備を必要
とし、経済性に劣ること、また技術的忙は金ＳＶの内面
へのコーティングは一般に難しく、％に小口径長尺金属
管の場合は、実質的忙不可能である。その理由はＰＶＤ
法がイオンをその運動エネルギーや電界の作用などによ
り所望の金属管上に蒸着させるので、小口径の金属管の
入口近傍にだけ農が性成してしまうからである。
とし、経済性に劣ること、また技術的忙は金ＳＶの内面
へのコーティングは一般に難しく、％に小口径長尺金属
管の場合は、実質的忙不可能である。その理由はＰＶＤ
法がイオンをその運動エネルギーや電界の作用などによ
り所望の金属管上に蒸着させるので、小口径の金属管の
入口近傍にだけ農が性成してしまうからである。
（３１ＣＶｌ）法は原料ガスの拡散効果忙より、比較的
複雑な形状の金属管にも均一に緻密な膜を形成しうるが
、従来の方法は金属管を反応器の中に入れ、そこへ原料
ガスを送り込む方式であるため、金属管が長尺化する忙
伴って反応器も大型化し、設備が高額になるという欠点
があった。
複雑な形状の金属管にも均一に緻密な膜を形成しうるが
、従来の方法は金属管を反応器の中に入れ、そこへ原料
ガスを送り込む方式であるため、金属管が長尺化する忙
伴って反応器も大型化し、設備が高額になるという欠点
があった。
本発明は、従来からの被膜形成法の有するこのような欠
点を改善することを目的とするもので、被膜を形成させ
る金属管ＫＣＶＤ法を用いる金属管内面の被膜形成装置
である。
点を改善することを目的とするもので、被膜を形成させ
る金属管ＫＣＶＤ法を用いる金属管内面の被膜形成装置
である。
すなわち、被膜を形成させる金属管の一端に原料ガス導
入口、他端にガス排出口を接合し、さらＫその金属の外
側に移動可能な加熱手段を設けたことを特徴とする。
入口、他端にガス排出口を接合し、さらＫその金属の外
側に移動可能な加熱手段を設けたことを特徴とする。
以下、図を用い本発明の詳細な説明する。
図面は本発明の実施例に用いる装置の説明断面図である
。
。
金属管１の両端には、たとえば溶接などにより、原料ガ
ス供給管３，３′を具備する入口側フランジ２と、ガス
排出口５を具備する出口側フランジ４とが接続されてい
る。原料ガス供給管は適当な流量制御手段６，６′を経
て原料ガスソースＴ ｅ ７ ’ ＶＣ，、ｆｘがれて
いる。またガス排出口はそのまま、もしくは真空ポンプ
８を経て排ガス処理設備９につながっている。管１の外
側には管の軸方向に移動可能なヒーター１０が設けられ
ており、管の各部分を順次ＣＶＤ温度に加熱し、被膜形
成を行えるようになっている。
ス供給管３，３′を具備する入口側フランジ２と、ガス
排出口５を具備する出口側フランジ４とが接続されてい
る。原料ガス供給管は適当な流量制御手段６，６′を経
て原料ガスソースＴ ｅ ７ ’ ＶＣ，、ｆｘがれて
いる。またガス排出口はそのまま、もしくは真空ポンプ
８を経て排ガス処理設備９につながっている。管１の外
側には管の軸方向に移動可能なヒーター１０が設けられ
ており、管の各部分を順次ＣＶＤ温度に加熱し、被膜形
成を行えるようになっている。
この装置を用い、たとえばｓｔＯ謙９を管の内面に形成
させるＫは、原料ガスとして鳥などをキャリヤーガスと
する＆α４と水蒸気とをそれぞれ原料ガス供給管３，３
′から管１内に導入しながら、加熱部が所定の温度（２
００℃以上）Ｋ調節されたヒーター１０を管の入口側か
ら出口側へとゆっくりと移動させることＫより、ｓｔ偽
被被膜管内面Ｋ（入口側から出口側へ）７１１１次形成
される。なお必要に応じ、ヒーター１０の移動を繰り返
せば厚い被膜が得られる。あるいはヒーター１０の移動
速度をゆっくりすることでも同じ目的が達せられる。こ
のようにして被膜を形成した後、冷却し、７う／ジ２，
４を除去（たとえば切断）すれば、内面が＆Ｏ８罠より
均一に被覆された管が得られる。
させるＫは、原料ガスとして鳥などをキャリヤーガスと
する＆α４と水蒸気とをそれぞれ原料ガス供給管３，３
′から管１内に導入しながら、加熱部が所定の温度（２
００℃以上）Ｋ調節されたヒーター１０を管の入口側か
ら出口側へとゆっくりと移動させることＫより、ｓｔ偽
被被膜管内面Ｋ（入口側から出口側へ）７１１１次形成
される。なお必要に応じ、ヒーター１０の移動を繰り返
せば厚い被膜が得られる。あるいはヒーター１０の移動
速度をゆっくりすることでも同じ目的が達せられる。こ
のようにして被膜を形成した後、冷却し、７う／ジ２，
４を除去（たとえば切断）すれば、内面が＆Ｏ８罠より
均一に被覆された管が得られる。
本発明によれは、大型の反応器を用いずにヒーターの移
動距離さえ十分にとれば、長尺や短尺の金属管の内面に
均−忙被膜を形成することができるので、従来のＣＶＤ
法よりも安価な設備で、しかも緻密かつ均一な被膜が得
られるという効果がある。
動距離さえ十分にとれば、長尺や短尺の金属管の内面に
均−忙被膜を形成することができるので、従来のＣＶＤ
法よりも安価な設備で、しかも緻密かつ均一な被膜が得
られるという効果がある。
図面は本発明の実施例に用いる装置の説明断面図である
。 付号 １・・・金属管 ６．６・・・流量制御手段
２・・・入口側フランジ ７，７′・・・原料ガスソ
ース３．３′・・・原料ガス導入管 ８・・・真空ポン
プ４・・・出口側フランジ ９・・・排ガス処理設備
５・・・ガス排出口 １０・・・移動式外熱ヒータ
ー特許出願人 電気化学工業株式会社 手続補正書（方民） 昭和６０年５月１６日 特許庁長官 志 賀 学 殿 １事件の表示 昭和６０年特許願第８４４４７号 ２発明の名称 金属管内面の被膜形成装置 ３補正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 東京都千代田区有楽町１丁目４番１号名 称
（３２９） ！気化学工業株式会社図 面 ５補正の内容 別厭のとおり９ふ％’４＋ｚｉ！４男；俸菅浅り図面の
浄書（内容変更なし） 〜τ−゛−″゛ ＼ 乙Ｃ）、 １１． ！・、′
。 付号 １・・・金属管 ６．６・・・流量制御手段
２・・・入口側フランジ ７，７′・・・原料ガスソ
ース３．３′・・・原料ガス導入管 ８・・・真空ポン
プ４・・・出口側フランジ ９・・・排ガス処理設備
５・・・ガス排出口 １０・・・移動式外熱ヒータ
ー特許出願人 電気化学工業株式会社 手続補正書（方民） 昭和６０年５月１６日 特許庁長官 志 賀 学 殿 １事件の表示 昭和６０年特許願第８４４４７号 ２発明の名称 金属管内面の被膜形成装置 ３補正をする者 事件との関係 特許出願人 住 所 東京都千代田区有楽町１丁目４番１号名 称
（３２９） ！気化学工業株式会社図 面 ５補正の内容 別厭のとおり９ふ％’４＋ｚｉ！４男；俸菅浅り図面の
浄書（内容変更なし） 〜τ−゛−″゛ ＼ 乙Ｃ）、 １１． ！・、′
Claims (1)
- １）被膜を形成させる金属管の一端に原料ガス導入管、
他端にガス排出口を接合し、さらにその金属管の外側に
移動可能な加熱手段を設けたことを特徴とする化学気相
蒸着法による金属管内面の被膜形成装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8444785A JPS61243179A (ja) | 1985-04-22 | 1985-04-22 | 金属管内面の被膜形成装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8444785A JPS61243179A (ja) | 1985-04-22 | 1985-04-22 | 金属管内面の被膜形成装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61243179A true JPS61243179A (ja) | 1986-10-29 |
Family
ID=13830860
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8444785A Pending JPS61243179A (ja) | 1985-04-22 | 1985-04-22 | 金属管内面の被膜形成装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61243179A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5077092A (en) * | 1989-06-30 | 1991-12-31 | Texas Instruments Incorporated | Method and apparatus for deposition of zinc sulfide films |
| JP2017179472A (ja) * | 2016-03-30 | 2017-10-05 | 株式会社デンソー | 部材の製造方法、および、部材の製造装置 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58177461A (ja) * | 1982-04-08 | 1983-10-18 | Toho Kinzoku Kk | 化学蒸着法によるパイプの製法 |
-
1985
- 1985-04-22 JP JP8444785A patent/JPS61243179A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58177461A (ja) * | 1982-04-08 | 1983-10-18 | Toho Kinzoku Kk | 化学蒸着法によるパイプの製法 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5077092A (en) * | 1989-06-30 | 1991-12-31 | Texas Instruments Incorporated | Method and apparatus for deposition of zinc sulfide films |
| JP2017179472A (ja) * | 2016-03-30 | 2017-10-05 | 株式会社デンソー | 部材の製造方法、および、部材の製造装置 |
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