JPS6124095A - Memory device for semiconductor - Google Patents

Memory device for semiconductor

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JPS6124095A
JPS6124095A JP14238184A JP14238184A JPS6124095A JP S6124095 A JPS6124095 A JP S6124095A JP 14238184 A JP14238184 A JP 14238184A JP 14238184 A JP14238184 A JP 14238184A JP S6124095 A JPS6124095 A JP S6124095A
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JP
Japan
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data line
common data
potential
mosfet
circuit
Prior art date
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Application number
JP14238184A
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Japanese (ja)
Inventor
Takashi Watanabe
渡辺 丘
Hideaki Takahashi
秀明 高橋
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Hitachi Microcomputer System Ltd
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Hitachi Microcomputer Engineering Ltd
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Publication date
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Publication of JPS6124095A publication Critical patent/JPS6124095A/en
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Abstract

PURPOSE:To absorb leak current flowing into a common data line by setting an MOSFET whose source is connected with the earthing point of a circuit, and whose gate and drain are connected to the common data line. CONSTITUTION:MOSFET Q15 absorbing leak current is provided between a common data line and an earth potential point. The gate and drain of MOSFET Q15 are connected to the common data line CD, the source is connected to the earth potential of circuit, and the conductance of MOSFET is designed to have a character of variable conductance complying with the potential of common data line CD. When the potential of common data line CD happens to become suddenly higher, the potential of common data line CD can be lowered at a comparative high speed by enlarging conductance, and or when the potential is comparatively low, the supplied current should be limited to comparatively smaller value. Therefore, when the common data line falls to a specified level, current thereof can be made smaller and low in consuming power.

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 この発明は、半導体記憶装置に関するもので、例えば、
FAMO3(フローティングゲート・アバランシェイン
ジェクシコン・絶縁ゲート電界効るEFROM (エレ
クトリカリ・プログラマブル・リード・オンリー・メモ
リ)装置に利用して有効な技術に関するものである。
[Detailed Description of the Invention] [Technical Field] The present invention relates to a semiconductor memory device, for example,
The present invention relates to a technology effective for use in FAMO3 (floating gate, avalanche injector, and insulated gate electric field EFROM (electrically programmable read only memory) devices).

(背景技術〕 FAMO3(フローティング・アバランシュインジェク
シs 7 M OS F E T )のような半導体素
子を記憶素子(メモリセル)とするEPROM装置が公
知である(例えば、特開昭54−152933号公報参
照)。
(Background Art) An EPROM device using a semiconductor element such as FAMO3 (Floating Avalanche Injection S7 MOS FET) as a memory element (memory cell) is known (e.g., Japanese Patent Laid-Open No. 152933/1983). reference).

E F R0Mmm!ニ#イT、例、tば、第1図ニ示
すようなセンスアンプ回路が用いられている。このセン
スアンプ回路は、メモリセルのアドレッシングにより共
通データ線CDに現れた記憶情報をゲート接地型増幅M
O3FETQI 4のソースに供給して、そのドレイン
出力を差動型のセンスアンプSAに伝えるものである。
E F R0 Mmm! For example, a sense amplifier circuit as shown in FIG. 1 is used. This sense amplifier circuit uses memory information appearing on the common data line CD by addressing the memory cells to be amplified by a common gate type M.
It is supplied to the source of the O3FET QI 4, and its drain output is transmitted to the differential sense amplifier SA.

このような読み出し回路においては、次のような問題が
生じる。すなわち、チップ非選択時において、上記増@
MO5FETQ14等からリーク電流が流れ込むこと等
によって共通データ線の電位が異常に上昇すると、その
放電経路がないため共通データ線CDはこの高電位を維
持し続ける。そして、このメモリアレイのデータ線選択
動作において、データ線選択信号線と共通データ線CD
との容量カップリングにより共通データ線CDの電位を
更に上昇させるので、ロウレベル記憶情報の読み出し速
度を極端に遅らせてしまうものとなる。なお、上記増幅
MO3FETQI 4においてリーク電流が生じる原因
の1つとしては、素子特性の劣化等の他に次のことが考
えられる。すなわち、共通データ線CDにおける寄生容
量を実質的に減らしてその信号変化速度を速くするため
に、上記共通データ線CDに結合されるカラム選択回路
を構成するスイッチMO3FETの数を減らすことが行
われる。この場合、分割された各共通データ線の信号は
、上記のような増幅MO3FETを通して共通にセンス
アンプ回路の入力端子に供給される。このようにメモリ
アレイと共通データ線を分割した場合、選択状態のメモ
リアレイにおける読み出し動作によって、上記非選択の
メモリアレイ側の増幅MO3FETに不所望な電流供給
動作を行わせてしまう。
In such a readout circuit, the following problems occur. In other words, when the chip is not selected, the above increase @
If the potential of the common data line rises abnormally due to leakage current flowing from MO5FETQ14 or the like, the common data line CD continues to maintain this high potential because there is no discharge path. In the data line selection operation of this memory array, the data line selection signal line and the common data line CD
Since the potential of the common data line CD is further increased due to capacitive coupling with the common data line CD, the reading speed of low-level storage information is extremely slowed down. In addition to deterioration of element characteristics, one of the causes of leakage current in the amplification MO3FET QI 4 is as follows. That is, in order to substantially reduce the parasitic capacitance in the common data line CD and increase its signal change speed, the number of MO3FET switches constituting the column selection circuit coupled to the common data line CD is reduced. . In this case, the signals of each divided common data line are commonly supplied to the input terminal of the sense amplifier circuit through the amplifying MO3FET as described above. When the memory array and the common data line are divided in this way, a read operation in the selected memory array causes the amplification MO3FET in the non-selected memory array to perform an undesired current supply operation.

〔発明の目的〕[Purpose of the invention]

この発明の目的は、安定した西、速読み出しを実現した
半導体記憶装置を提供することにある。
An object of the present invention is to provide a semiconductor memory device that achieves stable and fast reading.

この発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、
この明細書の記述および添付図面から明らかになるであ
ろう。
The above and other objects and novel features of this invention include:
It will become clear from the description of this specification and the accompanying drawings.

〔発明の概要〕  ・・ 本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を簡単に説明すれば、下記の通りである。
[Summary of the Invention] A brief overview of typical inventions disclosed in this application is as follows.

すなわち、共通データ線にゲートとドレインが結合され
、回路の接地点にソースが接続されたMOSFETを設
けることによって、共通データ線に流れ込むリーク電流
を吸収するものである。
That is, by providing a MOSFET whose gate and drain are coupled to the common data line and whose source is connected to the ground point of the circuit, leakage current flowing into the common data line is absorbed.

〔実施例〕〔Example〕

第2図には、この発明をEFROM装置に適用した場合
のメモリアレイ部の一実施例の回路図が示されている。
FIG. 2 shows a circuit diagram of an embodiment of a memory array section when the present invention is applied to an EFROM device.

同図の各回路素子及び回路ブロックは、公知のMO3半
導体集積回路の製造技術によって、特に制限されないが
、単結晶シリコンのような1個の半導体基板上において
形成される。
Each circuit element and circuit block in the figure is formed on a single semiconductor substrate such as, but not limited to, single crystal silicon using a known MO3 semiconductor integrated circuit manufacturing technique.

この実施例のEFROM装置は、図示しない外部端子か
ら供給されるX、 Yアドレス信号(図示せず)を受け
るアドレスバッファを通して形成された相補アドレス信
号がアドレスデコーダDCHに供給される。同図では、
アドレスバッファとアドレスデコーダとが同じ回路ブロ
ックXADB・DCR,YADB−DCRとしてそれぞ
れ示されている。特に制限されないが、上記アドレスバ
ッファXADH,YADBは、内部チップ選択信号cl
lにより活性化され、外部端子からのアドレス信号を取
り込み、外部端子から供給されたアドレス信号と同相の
内部アドレス信号と逆相のアドレス信号とからなる相補
アドレス信号を形成する。
In the EFROM device of this embodiment, a complementary address signal formed through an address buffer receiving X, Y address signals (not shown) supplied from an external terminal (not shown) is supplied to an address decoder DCH. In the same figure,
An address buffer and an address decoder are shown as the same circuit blocks XADB-DCR and YADB-DCR, respectively. Although not particularly limited, the address buffers XADH and YADB are connected to the internal chip selection signal cl.
It is activated by 1, takes in an address signal from an external terminal, and forms a complementary address signal consisting of an internal address signal in phase with the address signal supplied from the external terminal and an address signal in opposite phase.

アドレスデコーダDCR(X)は、その相補アドレス信
号に従つたメモリアレイM−ARYOのワード線Wの選
択信号を形成する。
Address decoder DCR(X) forms a selection signal for word line W of memory array M-ARYO according to its complementary address signal.

アドレスデコーダDCR(Y)は、その相補アドレス信
号に従ったメモリアレイM−ARYのデータ線りの選択
信号を形成する。
Address decoder DCR(Y) forms a selection signal for the data line of memory array M-ARY according to its complementary address signal.

上記メモリアレイM−ARYOは、代表として示さJt
ている複数のFAMO3l・ランジスタ(不揮発性メモ
リ素子・・MOSFETQI・−Q 6 )と、ワード
線Wl、W2及びデータIJID1〜Dxsとにより構
成されている。メモリアレイM−ARYOにおいて、同
じ行に配置されたFAMOSトランシ;スタQlへQ3
 (Q4−Q6)のコントロールゲートは、それぞれ対
応するワード線Wl  (W2)に接続され、同じ列に
配置されたF A M OSトランジスタQl、Q4〜
Q3.Q6のドレインは、それぞれ対応するデータ線D
1〜Dnに接続されている。上記FAMOSトランジス
タの共通ソース線C8は、特に制限されないが、書込み
信号weを受けるディブレンジョン型MO3FETQI
Oを介して接地されている。このMOSFETQIOは
、書き込み時に上記内部制御信号iiのロウレベルによ
ってそのコンダクタンスが比較的ボざくされる。これに
より、共通ソースaC3の電位は、MO3FETQIO
のコンダクタンスが比較的小さくされることによりて比
較的高い電位にされる。この共通ソース線C5の電位が
比較的高くされるとFAMO3)ランジスタのしきい値
電圧は比較的高くされる。したがって、データ線に書き
込み高電圧が供給され、ワード線が非選択とされること
によって非選択とされたFAMOSトランジスタの実効
的なしきい値電圧が高されるため、それに流れるリーク
電流が小さくできる。これによって、外部端子から供給
される書き込み電流が効率よく選択されたFAMO3)
ランジスタに供給されるので、効率的な書き込み動作を
行うことができる。なお、読み出し動作時には、上記制
御信号71のハイレベルによってMO3FETQIOの
コンダクタンスは、比較的大きくされる。これにより、
読み出し速度を速くするものである。
The above memory array M-ARYO is shown as a representative Jt
It is composed of a plurality of FAMO3l transistors (nonvolatile memory elements...MOSFETQI...-Q6), word lines Wl, W2, and data IJID1 to Dxs. In memory array M-ARYO, FAMOS transistor Q3 arranged in the same row;
The control gates of (Q4-Q6) are connected to the corresponding word line Wl (W2), respectively, and the F A M OS transistors Ql, Q4 to Q4 arranged in the same column
Q3. The drain of Q6 is connected to the corresponding data line D.
1 to Dn. The common source line C8 of the FAMOS transistors is, but is not particularly limited to, a debension type MO3FET QI that receives the write signal we.
It is grounded via O. The conductance of this MOSFET QIO is relatively blurred by the low level of the internal control signal ii during writing. As a result, the potential of the common source aC3 becomes MO3FETQIO
By making the conductance relatively small, it is brought to a relatively high potential. When the potential of this common source line C5 is made relatively high, the threshold voltage of the transistor FAMO3) is made relatively high. Therefore, by supplying a write high voltage to the data line and making the word line non-selected, the effective threshold voltage of the non-selected FAMOS transistor is increased, so that the leakage current flowing therein can be reduced. As a result, the write current supplied from the external terminal is efficiently selected in FAMO3).
Since it is supplied to the transistor, efficient write operations can be performed. Note that during the read operation, the high level of the control signal 71 makes the conductance of the MO3FET QIO relatively large. This results in
This increases the read speed.

上記各データ線D1〜Dnは、上記アドレスデコーダD
CR(Y)によりて形成された選択信号を受けるカラム
(列)選択スイッチMO3FETQ7〜Q9を介して、
共蓮データ1llcDに接続される。共通データ線CD
には、外部端子I10から入力される書込み信号を受け
る書込み用のデータ入力バッファDIBの出力端子が接
続される。
Each of the data lines D1 to Dn is connected to the address decoder D.
Through column selection switches MO3FETQ7 to Q9 that receive the selection signal formed by CR(Y),
Connected to common lotus data 1llcD. common data line CD
is connected to the output terminal of a write data input buffer DIB that receives a write signal input from an external terminal I10.

また、上記共通データllCDは、センスアンプSAの
入力段回路を構成し、次に説明するレベルリミッタ機能
を持つ増@MO3FETQ14のソース側に接続される
Further, the common data llCD constitutes an input stage circuit of the sense amplifier SA, and is connected to the source side of an increase @MO3FETQ14 having a level limiter function, which will be described next.

上記増@MO5FETQ14のゲートには、ディブレラ
シランWMO5FETQI 1とエンハンスメント型M
O3FETQ12とで構成され、そのコンダクタンス比
に従って形成された電源電圧Vccの分圧電圧がバイア
ス電圧として供給される。
The gate of the above enhancement @MO5FETQ14 is equipped with dibrera silane WMO5FETQI 1 and enhancement type M
A divided voltage of the power supply voltage Vcc formed according to its conductance ratio is supplied as a bias voltage.

この増11M03FETQ14のドレイン側には、負荷
としてそのゲートとドレインが電源電圧VCCに接続さ
れたエンハンスメント型MO8FETQ13が設けられ
る。そして、上記増1111MO3FETQ14のドレ
イン出力信号は、基準電圧Vrefを判定レベルする差
動型メセンスアンプSAによってセンスされる。
An enhancement type MO8FETQ13 whose gate and drain are connected to the power supply voltage VCC is provided as a load on the drain side of the 11M03FETQ14. The drain output signal of the 1111 MO3FET Q14 is sensed by the differential mesense amplifier SA which sets the reference voltage Vref to a determination level.

メモリセルの記憶情報の続み出し時において、アドレス
デコーダX−DCR,Y−DCRによって選択されたメ
モリセルには、上記MO3FETQ14を介してバイア
ス電圧が与えられる6選択されたメモリセルは、書込み
データに従って、ワード線選択レベルに対して、高いし
きい値電圧か又は低いしきい値電圧を持つものである。
When the stored information of the memory cell continues, a bias voltage is applied to the memory cell selected by the address decoders X-DCR and Y-DCR through the MO3FETQ14.6 The selected memory cell receives the write data. Accordingly, it has a high threshold voltage or a low threshold voltage with respect to the word line selection level.

選択されたメモリセルがワード線選択レベルにかかわら
ずにオフ状態にされている場合、共通データ線CDは、
MO5FETQI 4からの電流供給によって比較的ハ
イレベルにされる。一方、選択されたメモリセルがワー
ド線選択レベルによってオン状態にされている場合、共
通データ1JllcDは比較的ロウレベルにされる。こ
の場合、共通データII CD (D ハイレヘ)Lt
は、MO3FETQ14のゲート電圧が上記MO3FE
TQI 1.Ql 2のコンダクタンス比に従って、比
較的低くされ“Cいることによって比較的低いレベルに
される。
If the selected memory cell is turned off regardless of the word line selection level, the common data line CD is
The current is supplied from MO5FETQI4 to a relatively high level. On the other hand, when the selected memory cell is turned on by the word line selection level, the common data 1JllcD is set to a relatively low level. In this case, common data II CD (D Hirehe) Lt
is, the gate voltage of MO3FETQ14 is
TQI 1. According to the conductance ratio of Ql2, it is made relatively low and is brought to a relatively low level by "C".

共通データ線CDのロウレベルは、MO3FBTQI 
4.Ql 3とメモリセルを構成するMOSFETとの
゛寸法比を適当に設定することによって比較的高いレベ
ルにされる。このような共通データmCDのハイレベル
とロウレベルとを制限すると、この共通データ線CD等
に信号変化速度を制限する浮遊容量等の容量が存在する
にかかわらずに、読み出しの高速化を図ることができる
。すなわち、複数のメモリセルからのデータを次々に読
み出すような場合において共通データ線CDの一方のレ
ベルが他方のレベルへ変化させられるまでの時間を短く
することができる。
The low level of the common data line CD is MO3FBTQI
4. A relatively high level can be achieved by appropriately setting the size ratio between Q13 and the MOSFET constituting the memory cell. By restricting the high level and low level of the common data mCD, it is possible to speed up reading even though there is a stray capacitance or the like that limits the signal change speed on the common data line CD. can. That is, when data is read out from a plurality of memory cells one after another, the time required for one level of the common data line CD to change to the other level can be shortened.

しかしながら、前述のように増幅MO3FETQ14等
から流れるリーク電流によって共通データ線CDの電位
が一旦高くされると、MO3FETQ14はオフ状態に
される。したがって、共通データ線CDは、上記高電位
を維持し続けることになってしまう、そこで、この実施
例では、共通データ線と回路の接地電位点との間に上記
リーク電流を吸収するMO3FETQI 5が設けられ
る。
However, as described above, once the potential of the common data line CD is raised by the leakage current flowing from the amplifying MO3FETQ14 etc., the MO3FETQ14 is turned off. Therefore, the common data line CD continues to maintain the above-mentioned high potential.Therefore, in this embodiment, MO3FET QI 5 that absorbs the above-mentioned leakage current is installed between the common data line and the ground potential point of the circuit. provided.

このMO3FETQI 5のゲート及びドレインは、上
記共通データ線CDに結合され、そのソースは回路の接
地電位に結合される。このMOSFETは、上記共通デ
ータ線CDにゲート及びトレインが結合されることによ
って、そのコンダクタンスは、上記共通データ線CDの
電位に従った可変コンダクタンス特性を持つようにされ
る。したがって、上記のように共通データ線CDの電位
が急激に高くなった場合は、そのコンダクタンスが大き
くされることによって比較的速い速度で共通データ線C
Dの電位を低下させる。また、共通データ線CDの電位
が比較的低い場合には、そのコンダクタンスが比較的小
さくされるため、MO3FETQ14から供給される電
流を比較的小さい電流値、例えば2pA程度に制限させ
る。
The gate and drain of this MO3FET QI 5 are coupled to the common data line CD, and its source is coupled to the ground potential of the circuit. This MOSFET has its gate and train coupled to the common data line CD, so that its conductance has a variable conductance characteristic in accordance with the potential of the common data line CD. Therefore, when the potential of the common data line CD suddenly increases as described above, the conductance of the common data line CD increases and the common data line C
Lower the potential of D. Further, when the potential of the common data line CD is relatively low, its conductance is made relatively small, so that the current supplied from the MO3FETQ14 is limited to a relatively small current value, for example, about 2 pA.

なお、上記増幅用のMO3FETQ14は、ゲート接地
型ソース入力の増幅動作を行い、その出力信号をセンス
アンプSAに伝える。そして、このセンスアンプSAの
出力信号は、データ出カバソファDOBを介して上記外
部端子I10から送タイミング発生回路TGは、外部端
子CE、OB、PGM及び■ρpに供給されるチップイ
ネーブル信号、アウトプットイネーブル信号、プログラ
ム信号及び書込み用高電圧に応じて、内部制御信号ce
、we等のタイミング信号、及びアドレスデコーダに選
択的に供給する書き込み用高電圧Vpp/’読み出し用
低電圧Vcc等を形成する。
Note that the MO3FET Q14 for amplification performs an amplification operation of the gate-grounded source input, and transmits its output signal to the sense amplifier SA. The output signal of the sense amplifier SA is sent from the external terminal I10 via the data output buffer DOB. Depending on the enable signal, program signal and write high voltage, the internal control signal ce
, we, etc., and a write high voltage Vpp/'read low voltage Vcc, etc., which are selectively supplied to the address decoder.

〔効 果〕〔effect〕

(11共通データ線にゲート及びドレインが結合された
リーク電流を吸収するMOSFETを設けることによっ
て、共通データ線の電位が異常高くなった時にそれに流
れる電流を大きくして、高速に共通データ線CDのレベ
ルを所望のレベルまで低下゛させることができる。これ
によって、選択状態にされたメモリセルからの論理“0
” (ロウレベル)読み出しを高速に行うことができる
という効果が得られる。
(11) By providing a MOSFET whose gate and drain are coupled to the common data line to absorb leakage current, when the potential of the common data line becomes abnormally high, the current flowing therein is increased and the common data line CD is quickly connected. The level can be lowered to a desired level.This allows the logic “0” from the selected memory cell to be lowered to the desired level.
” (Low level) reading can be performed at high speed.

(2)共通データ線にゲート及びドレインが結合された
MOSFETを用いているので、共通データ線の電位に
従った吸収電流を形成できる。したがって、共通データ
線が一定のレベルまで低下した時には、その電流を小さ
くできるから低消費電力とすることができるという効果
が得られる。
(2) Since a MOSFET whose gate and drain are connected to the common data line is used, an absorption current can be generated according to the potential of the common data line. Therefore, when the common data line drops to a certain level, the current can be reduced, resulting in an effect that power consumption can be reduced.

以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具
体的に説明したが、この発明は上記実施例に限定される
ものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可
能であることはいうまでもない。例えば、複数ビットの
信号を並列的に書込み/読み出すEPROM装置にあっ
ては、上記第2図のメモリアレイM−ARYとセンスア
ンプSA及びデータ出カバソファ及びデータ入カバンフ
ァ等を複数個設けることによって構成できるものである
。上記EPROM装置を構成する各回路ブロックの具体
的回路構成は、種々の変形を採ることができるものであ
る。
Although the invention made by the present inventor has been specifically explained above based on Examples, it goes without saying that this invention is not limited to the above Examples and can be modified in various ways without departing from the gist thereof. Nor. For example, an EPROM device that writes/reads multiple-bit signals in parallel can be configured by providing a plurality of memory arrays M-ARY, sense amplifiers SA, data output buffers, data input buffers, etc. shown in FIG. 2 above. It is possible. The specific circuit configuration of each circuit block constituting the above-mentioned EPROM device can be modified in various ways.

〔利用分野〕[Application field]

以上の説明では主として本願発明者によりてなされた発
明をその背景となった技術分野であるEPROM装置に
通用した場合について説明したが、これに限定されるも
のではなく、MNOS<メタル・ナイトライド・オキサ
イド・セミコンダクタ)のような記憶素子を用いて電気
的な消去を行うことができるEEPROM、固定ROM
装置等の半導体記憶装置に広く利用できるものである。
In the above explanation, the invention made by the inventor of the present application was mainly applied to an EPROM device, which is the technical field behind the invention, but it is not limited to this, and the invention is not limited to this. EEPROM, fixed ROM that can be electrically erased using a memory element such as oxide semiconductor
It can be widely used in semiconductor storage devices such as devices.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は、この発明に先立って考えられている読み出し
動作の一例を示す回路、 第2図は、この発明が適用されたEPROM装置の一実
施例を示す回路図である。 XADB−DCR,YADB−DCR・・アドレスバッ
ファ・アドレスデコーダ、M−ARYO。
FIG. 1 is a circuit diagram showing an example of a read operation considered prior to the present invention, and FIG. 2 is a circuit diagram showing an embodiment of an EPROM device to which the present invention is applied. XADB-DCR, YADB-DCR...Address buffer/address decoder, M-ARYO.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、記憶情報に従ってゲートに結合されるワード線の選
択レベルに対して高いしきい値電圧又は低いしきい値電
圧を持つようにされた記憶素子がマトリックス配置され
て構成されたメモリアレイと、このメモリアレイのデー
タ線にカラム選択回路を介して結合される共通データ線
と、この共通データ線にそのゲート、ドレインが結合さ
れ、そのソースが回路の接地電位点に接続され、上記共
通データ線に流れ込むリーク電流を吸収するMOSFE
Tとを含むことを特徴とする半導体記憶装置。 2、上記記憶素子は、FAMOSトランジスタであるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の半導体記憶
装置。
[Scope of Claims] 1. A memory element configured in a matrix arrangement, which has a threshold voltage higher or lower than a selected level of a word line coupled to a gate according to stored information. a common data line coupled to the data line of this memory array via a column selection circuit, its gate and drain coupled to this common data line, and its source connected to the ground potential point of the circuit. , a MOSFE that absorbs the leakage current flowing into the common data line.
1. A semiconductor memory device comprising: T. 2. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the memory element is a FAMOS transistor.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61131296A (en) * 1984-11-29 1986-06-18 Toshiba Corp Semiconductor storage device

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