JPS61235553A - 有色ｉｐパタ−ン被膜の形成方法 - Google Patents
有色ｉｐパタ−ン被膜の形成方法Info
- Publication number
- JPS61235553A JPS61235553A JP7776785A JP7776785A JPS61235553A JP S61235553 A JPS61235553 A JP S61235553A JP 7776785 A JP7776785 A JP 7776785A JP 7776785 A JP7776785 A JP 7776785A JP S61235553 A JPS61235553 A JP S61235553A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- colored
- pattern
- mask
- accessory
- forming
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は時計用バンド、文字板、ライター、アクセサリ
−等の装身具の表面への、金属パターンマスクによる有
色ＩＰパターン被膜の形成方法に関するものである。
−等の装身具の表面への、金属パターンマスクによる有
色ＩＰパターン被膜の形成方法に関するものである。
従来の装身具の表面に有色ＩＰパターン被膜を形成する
ための方法としては、エポキシ系の熱硬化性樹脂を、キ
シレン、トルエン等の有機溶剤にて印刷特性にあった粘
土に溶解させた物を、スクリーン印刷の手法で装身具の
表面に、所望のパターンマスクを形成し、加熱乾燥させ
る方法と、金属の薄板をフォトエツチング法により、所
望の金属パターンマスクに形成し、装身具の表面に金属
パターンマスクを密着させた状態で、有色ＩＰ、＜ター
ン被膜を形成する方法とが知られていた。
ための方法としては、エポキシ系の熱硬化性樹脂を、キ
シレン、トルエン等の有機溶剤にて印刷特性にあった粘
土に溶解させた物を、スクリーン印刷の手法で装身具の
表面に、所望のパターンマスクを形成し、加熱乾燥させ
る方法と、金属の薄板をフォトエツチング法により、所
望の金属パターンマスクに形成し、装身具の表面に金属
パターンマスクを密着させた状態で、有色ＩＰ、＜ター
ン被膜を形成する方法とが知られていた。
従来の有機マスク法で、有色ＩＰパターン被膜を形成す
る場合においては、溶剤として使用する有機溶剤が安全
衛生上や消防法による規制等による取扱い上の支障が多
く、また有機パターンマスク中の含有ガスの放出により
、良好な有色ＩＰパターン被膜形成に悪影響を与えるこ
とが知られている。更には、ＩＰにおいて、装身具がプ
ラスチックの様な非電導体の場合には、チャージアップ
しやすいとの欠点を有していた。一方金属パターンマス
ク法で有色ＩＰパターン被膜を形成する場合において、
金属パターンマスクを装身具表面に密着させた場合には
、有色ＩＰパターン被膜の拡大ができず、拡大比に、対
応した数の金属パターンマスクを準備しなければならな
かった。また蒸発源と装身具との間に配置される金属パ
ターンマスクが、前記装身具との距離を５ ｍｍを超え
て配置された場合には真空蒸着法においては問題無いが
ＩＰ法においては、蒸発源より加熱された蒸発粒子は、
真空槽内部に残留する気体分子と衝突、散乱されるので
、鮮明な有色ＩＰパターン被膜が得られず、ひどい場合
には有色ＩＰパターンが、まったく識別できず、単なる
有色ＩＰ被膜のみの形成となってしまうという欠点を持
っていた。この様な現象は、まわりこみ現象と呼ばれ、
真空度の悪い条件、装身具に電位をかけた条件の場合に
顕著になることが知られている。そしてＩＰ手法におい
て、最もまわりこみ現象の少ないものは真空蒸着法であ
る。本発明の目的は、従来技術の欠点ヲナクシ、金属パ
ターンマスク法忙よる有色ＩＰパターン被膜の形成方法
を改良して、商品価値の高い装身具を低コストで無公害
な手法で生産することにある。
る場合においては、溶剤として使用する有機溶剤が安全
衛生上や消防法による規制等による取扱い上の支障が多
く、また有機パターンマスク中の含有ガスの放出により
、良好な有色ＩＰパターン被膜形成に悪影響を与えるこ
とが知られている。更には、ＩＰにおいて、装身具がプ
ラスチックの様な非電導体の場合には、チャージアップ
しやすいとの欠点を有していた。一方金属パターンマス
ク法で有色ＩＰパターン被膜を形成する場合において、
金属パターンマスクを装身具表面に密着させた場合には
、有色ＩＰパターン被膜の拡大ができず、拡大比に、対
応した数の金属パターンマスクを準備しなければならな
かった。また蒸発源と装身具との間に配置される金属パ
ターンマスクが、前記装身具との距離を５ ｍｍを超え
て配置された場合には真空蒸着法においては問題無いが
ＩＰ法においては、蒸発源より加熱された蒸発粒子は、
真空槽内部に残留する気体分子と衝突、散乱されるので
、鮮明な有色ＩＰパターン被膜が得られず、ひどい場合
には有色ＩＰパターンが、まったく識別できず、単なる
有色ＩＰ被膜のみの形成となってしまうという欠点を持
っていた。この様な現象は、まわりこみ現象と呼ばれ、
真空度の悪い条件、装身具に電位をかけた条件の場合に
顕著になることが知られている。そしてＩＰ手法におい
て、最もまわりこみ現象の少ないものは真空蒸着法であ
る。本発明の目的は、従来技術の欠点ヲナクシ、金属パ
ターンマスク法忙よる有色ＩＰパターン被膜の形成方法
を改良して、商品価値の高い装身具を低コストで無公害
な手法で生産することにある。
〔問題点を解決するための手段〕
この発明は、蒸発源と装身具との間に配設した貫通孔を
設けた金属パターンマスクが、前記装身具との距離が０
．５ ｍｍ以上で、５ｍ以下の範囲であることを特徴と
している。
設けた金属パターンマスクが、前記装身具との距離が０
．５ ｍｍ以上で、５ｍ以下の範囲であることを特徴と
している。
以下、図面に基づいて本発明の詳細な説明する。
第１因は、本発明の一実施例であり、装身具の前面に金
属パターンマスクを置き、ＩＰにより装身具の表面に、
所望の有色ＩＰパターン被膜を形成する方法の部分断面
図である。第２図は、ＩＰ装置の全体を示す説明図であ
る。
属パターンマスクを置き、ＩＰにより装身具の表面に、
所望の有色ＩＰパターン被膜を形成する方法の部分断面
図である。第２図は、ＩＰ装置の全体を示す説明図であ
る。
第１図において、蒸発源４と装身具１との間に金属パタ
ーンマスク３が配設され、装身具１と金属パターンマス
ク６との距離すは５闘≧ｈ≧０．５ ｍｍであり、蒸発
源４よりの蒸発粒子４ａが金属パターンマスク６を通過
して装身具１に有色ＩＰパターン被膜２を形成する。
ーンマスク３が配設され、装身具１と金属パターンマス
ク６との距離すは５闘≧ｈ≧０．５ ｍｍであり、蒸発
源４よりの蒸発粒子４ａが金属パターンマスク６を通過
して装身具１に有色ＩＰパターン被膜２を形成する。
更に第２図において、装身具１と金属パターンマスク６
は陰極６に着脱容易に固定され、回転自由な回転支持具
７に固定されている。またＩＰ装置においては、真空槽
８を排気するだめの排気口１０、プラズマの生成及び蒸
発金属と反応させるガス導入口１１、電子を放出する陽
極９、金属を加熱蒸発させる蒸発源４、蒸発金属のイオ
ン化を促進し安定なプラズマを生成するイオン化電極５
により構成されている。
は陰極６に着脱容易に固定され、回転自由な回転支持具
７に固定されている。またＩＰ装置においては、真空槽
８を排気するだめの排気口１０、プラズマの生成及び蒸
発金属と反応させるガス導入口１１、電子を放出する陽
極９、金属を加熱蒸発させる蒸発源４、蒸発金属のイオ
ン化を促進し安定なプラズマを生成するイオン化電極５
により構成されている。
次に具体例として、材質が５ＵＳ３０４よりなる時計用
バンド表面Ｋ、所望の有色ＩＰパターン被膜を形成する
方法をのべ、本実施例をより詳細に説明する。
バンド表面Ｋ、所望の有色ＩＰパターン被膜を形成する
方法をのべ、本実施例をより詳細に説明する。
装身具１である時計用バンドと金属パターンマスク６と
の距離すが３ｍｍとなる様に、回転支持具７に固定され
た陰極６に、装身具１と金属パターンマスク６を取付け
る。その後、真空槽８を３、５ Ｘ １０−’ Ｔｏｒ
ｒまで排気口１０より真空ポンプ（図示せず）にて排気
した後、アルゴンガスをガス導入口１１より３ Ｘ １
０−３Ｔｏｒｒまで入れ、陰極６に電源（図示せず）よ
り５０■の電圧を印加し、ボンバードクリーニングをす
る。そして高純度チタンを電子ビーム法により蒸発源４
より加熱蒸発させ、イオン化電極５に４０Ｖの電圧を印
加しプラズマを発生させた。そして徐々にガス導入口１
１より窒素ガスを導入し５０ ｍｌ ／ ｍｉｎの流量
を保った。この状態で陰極乙に２５Ｖの電圧を印加し、
２５分間窒化チタン被膜の生成を行ったところ、鮮明な
有色ＩＰパターン被膜２を得ることができた。尚、前記
以外忙も種々の実験を行ったところ、装身具１と金属パ
ターンマスク３との距離が０．５ ｍｍ以上で５鵬以下
の場合には、前記同様の鮮明で、拡大比が０より２０％
の有色ＩＰパターン被膜を得ることができた。また装身
具１と金属パターンマスク３との距離が０．５ ｍｍ未
満の場合には、鮮明な有色ＩＰパターン被膜が得られた
が、有色ＩＰパターン被膜の拡大は殆どされなかった。
の距離すが３ｍｍとなる様に、回転支持具７に固定され
た陰極６に、装身具１と金属パターンマスク６を取付け
る。その後、真空槽８を３、５ Ｘ １０−’ Ｔｏｒ
ｒまで排気口１０より真空ポンプ（図示せず）にて排気
した後、アルゴンガスをガス導入口１１より３ Ｘ １
０−３Ｔｏｒｒまで入れ、陰極６に電源（図示せず）よ
り５０■の電圧を印加し、ボンバードクリーニングをす
る。そして高純度チタンを電子ビーム法により蒸発源４
より加熱蒸発させ、イオン化電極５に４０Ｖの電圧を印
加しプラズマを発生させた。そして徐々にガス導入口１
１より窒素ガスを導入し５０ ｍｌ ／ ｍｉｎの流量
を保った。この状態で陰極乙に２５Ｖの電圧を印加し、
２５分間窒化チタン被膜の生成を行ったところ、鮮明な
有色ＩＰパターン被膜２を得ることができた。尚、前記
以外忙も種々の実験を行ったところ、装身具１と金属パ
ターンマスク３との距離が０．５ ｍｍ以上で５鵬以下
の場合には、前記同様の鮮明で、拡大比が０より２０％
の有色ＩＰパターン被膜を得ることができた。また装身
具１と金属パターンマスク３との距離が０．５ ｍｍ未
満の場合には、鮮明な有色ＩＰパターン被膜が得られた
が、有色ＩＰパターン被膜の拡大は殆どされなかった。
また装身具１と金属パターンマスク３との距離が５ ｍ
ｍを超えた場合、距離が広がるにつれて有色ＩＰパター
ン被膜の拡大はされてゆ（が、鮮明な有色ＩＰパターン
被膜は得られず、有色ＩＰパターンがまったく識別出来
なくなりて行き、単なる有色ＩＰ被膜のみの形成となっ
てしまった。
ｍを超えた場合、距離が広がるにつれて有色ＩＰパター
ン被膜の拡大はされてゆ（が、鮮明な有色ＩＰパターン
被膜は得られず、有色ＩＰパターンがまったく識別出来
なくなりて行き、単なる有色ＩＰ被膜のみの形成となっ
てしまった。
以上の説明で明らかな様Ｋ、本発明の有色ＩＰパターン
被膜の形成方法によれば次の様な効果がある。
被膜の形成方法によれば次の様な効果がある。
（１）所望パターンを形成する方法として、金属パター
ンマスクを使用しているので、有機マスク使用時に問題
となる塗布、剥離による工数増及び安全衛生上の問題が
解消される。
ンマスクを使用しているので、有機マスク使用時に問題
となる塗布、剥離による工数増及び安全衛生上の問題が
解消される。
（′２Ｊ １２手法を利用するにあたり、蒸発源及び導
入ガスの稽類を変化させることにより、種々の色調変化
を付与することができ、商品価値の高い商品を提供する
ことができる。
入ガスの稽類を変化させることにより、種々の色調変化
を付与することができ、商品価値の高い商品を提供する
ことができる。
（３）金属パターンマスクと装身具との距離を０．５ｍ
ｍ以上で、５ｍｍ以下の範囲で変化させることにより、
同一パターン形状にて有色ＩＰパターン′被膜を鮮明な
状態で拡大することが出来る。その上パターンの大きさ
及び色調変化の組合せにより、商品価値の高い商品を提
供することができる。
ｍ以上で、５ｍｍ以下の範囲で変化させることにより、
同一パターン形状にて有色ＩＰパターン′被膜を鮮明な
状態で拡大することが出来る。その上パターンの大きさ
及び色調変化の組合せにより、商品価値の高い商品を提
供することができる。
すなわち、本発明によれば、商品価値の高い装身具を、
低コストで、無公害な手法で生産することができ、産業
上の利用分野において多大な効果が認められる。
低コストで、無公害な手法で生産することができ、産業
上の利用分野において多大な効果が認められる。
第１図は本発明の一実施例で装身具の表面に所望の有色
ＩＰパターン被膜を形成する方法を示す部分断面図、第
２図は本発明で使用したＩＰ装置の全体を示す説明図で
ある。 １・・・・・・装身具、２・・・・・・有色ＩＰパター
ン被膜、３・・・・・・金属パターンマスク、４・・・
・・・蒸発源、４ａ・・・・・・蒸発粒子、５・・・・
・・イオン化電極、６・・・・・・陰極、７・・・・・
・回転支持具、８・・・・・・真空槽、９・・・・・・
陽極、１０・・・・・・排気口、１１・・・・・・ガス
導入口。
ＩＰパターン被膜を形成する方法を示す部分断面図、第
２図は本発明で使用したＩＰ装置の全体を示す説明図で
ある。 １・・・・・・装身具、２・・・・・・有色ＩＰパター
ン被膜、３・・・・・・金属パターンマスク、４・・・
・・・蒸発源、４ａ・・・・・・蒸発粒子、５・・・・
・・イオン化電極、６・・・・・・陰極、７・・・・・
・回転支持具、８・・・・・・真空槽、９・・・・・・
陽極、１０・・・・・・排気口、１１・・・・・・ガス
導入口。
Claims (1)
- 装身具の表面に有色ＩＰパターン被膜を形成する方法に
おいて、貫通孔を設けた金属パターンマスクと装身具と
の距離が０．５ｍｍ以上で５ｍｍ以下の範囲であること
を特徴とした有色ＩＰパターン被膜の形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7776785A JPS61235553A (ja) | 1985-04-12 | 1985-04-12 | 有色ｉｐパタ−ン被膜の形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7776785A JPS61235553A (ja) | 1985-04-12 | 1985-04-12 | 有色ｉｐパタ−ン被膜の形成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61235553A true JPS61235553A (ja) | 1986-10-20 |
Family
ID=13643091
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7776785A Pending JPS61235553A (ja) | 1985-04-12 | 1985-04-12 | 有色ｉｐパタ−ン被膜の形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61235553A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7583020B2 (en) | 2002-12-12 | 2009-09-01 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light-emitting device, film-forming method and manufacturing apparatus thereof, and cleaning method of the manufacturing apparatus |
| KR100955595B1 (ko) * | 2001-12-12 | 2010-05-03 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | 막 형성장치와 막 형성 방법 및 클리닝 방법 |
-
1985
- 1985-04-12 JP JP7776785A patent/JPS61235553A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100955595B1 (ko) * | 2001-12-12 | 2010-05-03 | 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 | 막 형성장치와 막 형성 방법 및 클리닝 방법 |
| US7763320B2 (en) | 2001-12-12 | 2010-07-27 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Film formation apparatus and film formation method and cleaning method |
| US7583020B2 (en) | 2002-12-12 | 2009-09-01 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light-emitting device, film-forming method and manufacturing apparatus thereof, and cleaning method of the manufacturing apparatus |
| US8709540B2 (en) | 2002-12-12 | 2014-04-29 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light-emitting device, film-forming method and manufacturing apparatus thereof, and cleaning method of the manufacturing apparatus |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4572842A (en) | Method and apparatus for reactive vapor deposition of compounds of metal and semi-conductors | |
| US7327089B2 (en) | Beam plasma source | |
| US4389299A (en) | Sputtering device | |
| GB1483966A (en) | Vapourized-metal cluster ion source and ionized-cluster beam deposition | |
| JPS6254078A (ja) | 陰極スパツタリング処理により基板に薄層を被着する装置 | |
| GB2419894A (en) | Sputter coating system | |
| JPS61235553A (ja) | 有色ｉｐパタ−ン被膜の形成方法 | |
| JPS5489983A (en) | Device and method for vacuum deposition compound | |
| EP0099725A3 (en) | High pressure, non-local thermal equilibrium arc plasma generating apparatus for deposition of coatings upon substrates | |
| EP0095384A3 (en) | Vacuum deposition apparatus | |
| JPS6350463A (ja) | イオンプレ−テイング方法とその装置 | |
| RU93018049A (ru) | Способ нанесения вакуумных металлизированных покрытий на диэлектрические подложки | |
| JP3079802B2 (ja) | プラズマ銃 | |
| JPS6318056A (ja) | ア−ク式蒸発源 | |
| RU2029795C1 (ru) | Способ нанесения декоративных покрытий | |
| JPS54100988A (en) | Ion plating device | |
| JPH0256897A (ja) | 蛍光体薄膜の製造方法および薄膜ｅｌ素子 | |
| JP2905512B2 (ja) | 薄膜形成装置 | |
| JPS6053113B2 (ja) | 被膜の形成方法 | |
| JPH04124257A (ja) | イオンプレーティングによるＴｉＯ膜の色彩調整方法 | |
| JP2957620B2 (ja) | 均一色度のＴｉＮ膜とその形成方法 | |
| JPS62109972A (ja) | イオンプレ−テイング装置 | |
| JPS5677379A (en) | Metal film depositing apparatus | |
| RU94042112A (ru) | Способ плазмохимического нанесения покрытия | |
| JPS6320444A (ja) | イオンプレ−テイング |