JPS61235150A - Manufacture of substrate for electric circuit wiring - Google Patents

Manufacture of substrate for electric circuit wiring

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JPS61235150A
JPS61235150A JP60077247A JP7724785A JPS61235150A JP S61235150 A JPS61235150 A JP S61235150A JP 60077247 A JP60077247 A JP 60077247A JP 7724785 A JP7724785 A JP 7724785A JP S61235150 A JPS61235150 A JP S61235150A
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cured
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は電気回路を形成する配線基板の製造に利用する
。特に、製造工程が簡単であり、絶縁層に両表面に貫通
するピンホールがない配線基板の製造方法に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Field of Application] The present invention is utilized for manufacturing a wiring board forming an electric circuit. In particular, the present invention relates to a method of manufacturing a wiring board that has a simple manufacturing process and has no pinholes penetrating both surfaces of the insulating layer.

〔概 要〕〔overview〕

電気回路用のプリント基板の製造方法において、片面に
接着剤が塗布されたリケイ用フィルムを用いて、接着剤
層を転写することにより形成する操作を少なくとも3回
重ねて行うことにより、三つの接着剤層が積層構造によ
り形成され、両表面を貫通するピンホールがないように
したものである。
In a method for manufacturing printed circuit boards for electrical circuits, three adhesive layers are formed by repeating the process of forming an adhesive layer at least three times using a adhesive film coated with an adhesive on one side. The agent layer is formed in a laminated structure, and there are no pinholes penetrating both surfaces.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

表面に金属層が形成された電気回路用の配線基板は、金
属層に樹脂で作られた接着剤を塗布し、この接着剤を硬
化することにより製造する。
A wiring board for an electric circuit having a metal layer formed on its surface is manufactured by applying an adhesive made of resin to the metal layer and curing the adhesive.

金属層が両面に形成されるものでは、その一方の面は接
地電位の配線に使用され、両面の金属層が共に薄い金属
箔であるときには、フレキシブル基板であり、接地電位
の金属層が厚い金属板であるときには、硬質の回路基板
となる。この両面に金属層が形成された電気回路用基板
では、絶縁層に貫通するピンホールがあると、両面の耐
電圧が小さくなる。
If the metal layer is formed on both sides, one side is used for wiring at ground potential, and if the metal layers on both sides are both thin metal foils, it is a flexible board, and the metal layer at ground potential is thick metal. When it is a board, it becomes a hard circuit board. In this electric circuit board in which metal layers are formed on both sides, if there is a pinhole penetrating the insulating layer, the withstand voltage on both sides becomes small.

これを改良するものとして、絶縁層を多層構造にして、
一つの層の中では貫通するピンホールがあっても、両表
面を貫通するピンホールを無くする技術が知られている
がピンホールを皆無にすることはできずに通常フィルム
層を導入することにより対応している。
To improve this, the insulating layer has a multilayer structure,
Even if there are pinholes that penetrate within one layer, there are known techniques to eliminate pinholes that penetrate both surfaces, but since pinholes cannot be completely eliminated, it is usually necessary to introduce a film layer. This is supported by

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problem that the invention seeks to solve]

しかし、多層構造の絶縁層を形成するには、接着剤の塗
布および硬化の工程を層の数だけ繰り返すことが必要で
あり、製造工数が大きくなり、その製品はおのずと高価
になる欠点がある。
However, in order to form an insulating layer with a multilayer structure, it is necessary to repeat the steps of applying and curing the adhesive as many times as there are layers, which increases the number of manufacturing steps and has the disadvantage that the product is naturally expensive.

本発明はこれを改良するもので、多層構造の絶縁層を含
む電気回路用基板を小さい製造工数で製造することがで
きる方法を提供することを目的とする。
The present invention improves this and aims to provide a method that can manufacture an electric circuit board including a multilayered insulating layer with a small number of manufacturing steps.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

本発明の第一の発明は、金属箔に多層の絶縁層を形成す
る方法であって、この絶縁層を表面平滑なピンホールの
ないリケイフィルム上にBステージ状態で形成し転写す
ることで、リケイフィルム面の平滑なピンホールのない
面が多層構造の絶縁内に二層以上有することにより、電
気絶縁性特に貫層耐電圧に優れた絶縁層が形成されるこ
とを特徴とする。
The first invention of the present invention is a method of forming a multilayer insulating layer on metal foil, and by forming and transferring this insulating layer in a B-stage state on a pinhole-free RIKEN film with a smooth surface, By having two or more smooth, pinhole-free surfaces of the RIKEI film in the multilayered insulation, an insulating layer with excellent electrical insulation properties, especially translayer withstand voltage, is formed.

本発明の第二の発明は、両面が金属層である多層の絶縁
層を有する電気回路配線基板を製造する方法であって、
単位当たりの絶縁層を薄くすることにより従来方式に比
べ、絶縁層そのものを薄くすることができ、このことに
より他の機能、特に熱伝導性を良くすることができる。
A second invention of the present invention is a method for manufacturing an electric circuit wiring board having a multilayer insulating layer with metal layers on both sides,
By making the insulating layer thinner per unit, the insulating layer itself can be made thinner than in conventional methods, and this can improve other functions, especially thermal conductivity.

また片面の金属箔をベース材として使用すれば寸法安定
性のよい片面鋼張基板ができることを特徴とする。
Another feature is that if a single-sided metal foil is used as a base material, a single-sided steel-clad substrate with good dimensional stability can be produced.

本発明の第三の発明は、引き裂く外力に対して強靭な多
層の絶縁層を形成する方法であって、絶縁層の1層ない
し、3層にウィスカー等皮膜の強度を良くする物質を混
入することもでき、また皮膜強度の強い樹脂を複合化す
ることも任意にできる。
The third aspect of the present invention is a method for forming a multilayer insulating layer that is strong against external forces that tear it apart, in which a substance that improves the strength of the film, such as whiskers, is mixed into one or three of the insulating layers. It is also possible to optionally combine a resin with strong film strength.

リケイフィルムを透明にすることにより接着剤層の目視
検査を可能にすることができる。
By making the RIKAY film transparent, visual inspection of the adhesive layer can be made possible.

〔作 用〕[For production]

片面に接着剤が塗布されたリケイ用フィルムは極めて均
一に多量に製造することができる。また、片面に接着剤
が塗布されたリケイ用フィルムはその取扱いが容易であ
り、このリケイ用フィルムの接着剤層を転写する工程は
、軟性の接着剤を一様に塗布する工程に比べてはるかに
簡単であって工数が小さい、その上透明フィルムをリケ
イフィルム用いれば接着絶縁層の検査が容易にできる長
所もある。
The adhesive film coated on one side can be produced very uniformly and in large quantities. In addition, Rikei film with adhesive applied on one side is easy to handle, and the process of transferring the adhesive layer of Rikei film is much easier than the process of uniformly applying a soft adhesive. It has the advantage that it is simple and requires less man-hours, and if the transparent film is used, the adhesive insulating layer can be easily inspected.

したがって、本発明によれば、多層の絶縁層を有する電
気回路配線基板を小さい工数で安価に製造することがで
きる。
Therefore, according to the present invention, an electric circuit wiring board having multiple insulating layers can be manufactured at low cost with a small number of man-hours.

ピンホールのない薄い絶縁層はBステージを経て作成す
ることは非常に難しいため、通常、100μm以上の厚
さが信頼性の点から必要であることが知られている。本
発明者等は鋭意検討を加えた結果、溶剤型フェスを用い
る場合に溶剤を蒸発乾燥しBステージ状態の樹脂薄膜を
製造する際に、樹脂薄膜形成時の蒸発収縮等によってピ
ンホールが発生するが、リケイフィルム上では蒸発が一
方向のみ起こるため、フィルムに接する面の樹脂薄膜に
ピンホールが発生しないことを発見した。これにより、
転写法を用いてピンホールのない絶縁層を作成すること
ができ、しかもこれを3回繰り返すことによりその効果
が確実になる。
Since it is very difficult to create a thin insulating layer without pinholes through the B stage, it is known that a thickness of 100 μm or more is usually required from the viewpoint of reliability. As a result of extensive studies, the inventors of the present invention found that when using a solvent-based FES, pinholes occur due to evaporation shrinkage during the formation of the resin thin film when the solvent is evaporated and dried to produce a B-stage resin thin film. However, the researchers discovered that because evaporation occurs only in one direction on Rikei film, pinholes do not occur in the resin thin film on the surface that is in contact with the film. This results in
A pinhole-free insulating layer can be created using the transfer method, and repeating this three times ensures the effect.

〔実施例1〕 リケイフィルムの厚さ60μmのポリプロピレンフィル
ム(東し■製トレファンフィルム)に厚さ20μmにな
るようにフレキシブル用エポキシ樹脂を塗工し、乾燥さ
せてBステージ状態にする(第一の工程)。
[Example 1] Flexible epoxy resin is coated on a 60 μm thick polypropylene film (Torephan Film manufactured by Toshi Corporation) of Rikei Film to a thickness of 20 μm, and dried to bring it to the B stage state. Step 1).

次に、第一の工程で得たBステージ状態のエポキシ樹脂
を厚さ35μmの銅箔の処理面に張り合わせ加熱硬化さ
せる(第二の工程)。
Next, the epoxy resin in the B stage state obtained in the first step is laminated onto the treated surface of a 35 μm thick copper foil and cured by heating (second step).

次に、第二の工程で得た銅箔張り合わせエポキシ樹脂の
樹脂面に第一の工程で得たエポキシ樹脂を張り合わせ、
加熱硬化させる(第三の工程)。
Next, the epoxy resin obtained in the first step is laminated on the resin surface of the copper foil laminated epoxy resin obtained in the second step,
Heat and cure (third step).

次に、第三の工程で得た銅箔張り合わせエポキシ樹脂の
樹脂面に第一の工程で得たエポキシ樹脂を張り合わせ、
加熱硬化させて絶縁層60μmの片面銅張フレキシブル
プリント回路用基板を得た。
Next, the epoxy resin obtained in the first step is laminated on the resin surface of the copper foil laminated epoxy resin obtained in the third step,
By heating and curing, a single-sided copper-clad flexible printed circuit board with an insulating layer of 60 μm was obtained.

〔実施例2〕 リケイフィルムの厚さ60μmのポリプロピレンフィル
ム(本州製紙側型アルファンフィルム)に、厚さ5μm
になるようにフレキシブル用ポリイミド樹脂を塗工し、
これを乾燥させてBステージ状態にする(第一の工程)
[Example 2] Rikei Film's 60 μm thick polypropylene film (Honshu Paper Industries side type Alphan film) was coated with a 5 μm thick
Coat flexible polyimide resin so that
Dry this to bring it to B stage state (first step)
.

次に、第一の工程で得たBステージ状態のポリイミド樹
脂を厚さ18μmの銅箔の処理面に張り合わせ、加熱硬
化させる(第二の工程)。
Next, the B-stage polyimide resin obtained in the first step is laminated onto the treated surface of a copper foil having a thickness of 18 μm and cured by heating (second step).

次に、第二の工程で得た銅箔張り合わせポリイミド樹脂
の樹脂面に第一の工程で得たポリイミド樹脂を張り合わ
せる(第三の工程)。
Next, the polyimide resin obtained in the first step is laminated onto the resin surface of the copper foil laminated polyimide resin obtained in the second step (third step).

次に、第三の工程で得た銅箔張り合わせポリイミド樹脂
の樹脂面どうしを張り合わせ、加熱硬化させて絶縁層1
00μmの片面張フレキシブルプリント回路用基板を得
た。
Next, the resin surfaces of the copper foil laminated polyimide resin obtained in the third step are laminated together and heated to harden to form an insulating layer 1.
A single-sided flexible printed circuit board with a thickness of 0.00 μm was obtained.

〔実施例3〕 リケイフィルムの厚さ60μmの1フン化テフロンフイ
ルム(米国デュポン社製テドラフィルム)に、厚さ10
μmになるようにエポキシ樹脂を塗工し、これを乾燥さ
せてBステージ状態にする(第一の工程)。
[Example 3] A 60 μm thick Teflon monofluoride film (Tedra film manufactured by DuPont, USA) was coated with a 10 μm thick Rikei film.
Epoxy resin is coated to a thickness of μm, and this is dried to bring it into a B-stage state (first step).

次に、この第一の工程で得たBステージ状態のエポキシ
樹脂を厚さ35μmの銅箔の処理面に張り合わせ、加熱
硬化させる(第二の工程)。
Next, the epoxy resin in the B-stage state obtained in the first step is laminated onto the treated surface of a 35 μm thick copper foil and cured by heating (second step).

リケイフィルムの厚さ60μmのポリプロピレンフィル
ム(本州製紙■製アルファンフィルム)に、チタン酸カ
リウム繊維を25%含むフレキシブル用エポキシ樹脂を
厚さ30μmになるように塗工乾燥させてBステージ状
態にする(第三の工程)。
A flexible epoxy resin containing 25% potassium titanate fiber is applied to a 60 μm thick polypropylene film (Alphan Film manufactured by Honshu Paper Corporation) by Rikei Film to a thickness of 30 μm and dried to bring it to the B stage. (Third step).

次に、第二の工程で得た銅箔張り合わせエポキシ樹脂の
樹脂面に第三の工程で得たエポキシ樹脂を張り合わせる
(第四の工程)。
Next, the epoxy resin obtained in the third step is laminated onto the resin surface of the copper foil laminated epoxy resin obtained in the second step (fourth step).

次に、第二の工程で得た銅箔張り合わせエポキシ樹脂の
樹脂面と第四の工程で得た銅箔張り合わせエポキシ樹脂
の樹脂面とを張り合わせ、加熱硬化させて絶縁層50μ
mの両面銅張フレキシブルプリント回路用基板を得た。
Next, the resin surface of the copper foil laminated epoxy resin obtained in the second step and the resin surface of the copper foil laminated epoxy resin obtained in the fourth step are laminated together and heated and cured to form an insulating layer of 50 μm.
A double-sided copper-clad flexible printed circuit board of m was obtained.

〔実施例4〕 リケイ処理を施した厚さ50μmのポリエステルフィル
ム(東し■製ルミラーフィルム)に、厚さ15μmにな
るようにエポキシ樹脂を塗工し乾燥させてBステージ状
態にする(第一の工程)。
[Example 4] Epoxy resin is applied to a 50 μm thick polyester film (Lumirror Film manufactured by Toshi Corporation) that has been subjected to RIKEI treatment to a thickness of 15 μm and dried to bring it to the B stage state (first stage). process).

次に、第一の工程で得たBステージ状態のエポキシ樹脂
を厚さ35μmのti4箔の処理面に張り合わせ、加熱
硬化させる(第二の工程)。
Next, the epoxy resin in the B-stage state obtained in the first step is laminated onto the treated surface of a 35 μm thick ti4 foil and cured by heating (second step).

次に、第二の工程で得た銅箔張り合わせエポキシ樹脂の
樹脂面に第一の工程で得たエポキシ樹脂を張り合わせ、
加熱硬化させる(第三の工程)。
Next, the epoxy resin obtained in the first step is laminated on the resin surface of the copper foil laminated epoxy resin obtained in the second step,
Heat and cure (third step).

次に、第三の工程で得た銅箔張り合わせエポキシ樹脂の
樹脂面に第一の工程で得たエポキシ樹脂を張り合わせる
(第四の工程)。
Next, the epoxy resin obtained in the first step is laminated onto the resin surface of the copper foil laminated epoxy resin obtained in the third step (fourth step).

次に、第四の工程で得た銅箔張り合わせエポキシ樹脂の
樹脂面と第一の工程で得た銅箔張り合わせる(第五の工
程)。
Next, the resin surface of the copper foil laminated epoxy resin obtained in the fourth step is laminated with the copper foil obtained in the first step (fifth step).

次に、第五の工程で得た銅箔張り合わせエポキシ樹脂の
樹脂面と厚さ2Hのアルミニウム板の処理面とを張り合
わせ、加熱硬化させて絶縁層60μmのアルミニウム金
属ベース銅張基板を得た。
Next, the resin surface of the copper foil-laminated epoxy resin obtained in the fifth step was laminated to the treated surface of the 2H-thick aluminum plate and cured by heating to obtain an aluminum metal-based copper-clad substrate with an insulating layer of 60 μm.

〔実施例5〕 リケイフィルムの厚さ40μmのポリプロピレンフィル
ム(東し■製トレファンフィルム)になるように塗工し
、乾燥させてBステージ状態にする(第一の工程)。
[Example 5] Rikei film is coated to form a 40 μm thick polypropylene film (Torephan film manufactured by Toshishima) and dried to bring it to the B stage state (first step).

次に、第一の工程で得たエポキシ樹脂を厚さ18μmの
銅箔の処理面に張り合わせ、加熱硬化させる(第二の工
程)。
Next, the epoxy resin obtained in the first step is laminated onto the treated surface of a copper foil having a thickness of 18 μm and cured by heating (second step).

次に、リケイフィルムの厚さ50μmのポリエステルフ
ィルム(東し側ルミラーフィルム)に厚す30μmの耐
熱ナイロン樹脂を塗工乾燥する(第三の工程)。
Next, a heat-resistant nylon resin with a thickness of 30 μm is coated on the 50 μm thick polyester film (east side Lumirror film) of the Rikei film and dried (third step).

次に、第二の工程で得た銅箔張り合わせエポキシ樹脂の
樹脂面に第三の工程で得たナイロン樹脂を加熱し張り合
わせる(第四の工程)。
Next, the nylon resin obtained in the third step is heated and bonded to the resin surface of the copper foil laminated epoxy resin obtained in the second step (fourth step).

次に、第四の工程で得た銅箔張り合わせエポキシナイロ
ン樹脂の樹脂面と第二の工程で得た銅箔張り合わせ、エ
ポキシ樹脂の樹脂面とを加熱し張り合わせて、絶縁層5
0μmの両面銅張フレキシブルプリント回路用基板を得
た。
Next, the resin surface of the copper foil laminated epoxy nylon resin obtained in the fourth step and the resin surface of the copper foil laminated epoxy resin obtained in the second step are heated and laminated together to form an insulating layer 5.
A 0 μm double-sided copper-clad flexible printed circuit board was obtained.

〔実施例6〕 リケイフィルムの厚さ60μmのポリプロピレンフィル
ム(東し■製トレファンフィルム)に、厚さ15μmに
なるようにフレキシブル用エポキシ樹脂を塗工乾燥させ
てBステージ状態にする(第一の工程)。
[Example 6] Flexible epoxy resin is coated on a 60 μm thick polypropylene film (Torephan Film manufactured by Toshi Corporation) of Rikei Film to a thickness of 15 μm and dried to bring it to the B stage state (first stage). process).

次に、第一の工程で得たBステージ状態のエポキシ樹脂
を厚さ35μmの圧延銅箔の処理面に張り合わせ、加熱
硬化させる(第二の工程)。
Next, the epoxy resin in the B-stage state obtained in the first step is laminated onto the treated surface of a rolled copper foil having a thickness of 35 μm and cured by heating (second step).

次に、第一の工程で得たBステージのエポキシ樹脂を厚
さ50μmの鉄箔の処理面に張り合わせる(第三の工程
)。
Next, the B-stage epoxy resin obtained in the first step is laminated onto the treated surface of a 50 μm thick iron foil (third step).

次に、第三の工程で得た鉄箔張り合わせエポキシ樹脂の
樹脂面と第一の工程で得たBステージ状態のエポキシ樹
脂を張り合わせる(第四の工程)。
Next, the resin surface of the iron foil laminated epoxy resin obtained in the third step is bonded to the epoxy resin in the B stage state obtained in the first step (fourth step).

次に第四の工程で得た鉄箔張り合わせてエポキシ樹脂の
樹脂面と第二の工程で得た銅箔張り合ねせエポキシ樹脂
の樹脂面とを張り合わせ、加熱硬化させて絶縁層45μ
mの鉄箔ベースの銅張フレキシブルプリント回路用基板
を得た。その断面構造は図の通りである。
Next, the resin surface of the epoxy resin laminated with iron foil obtained in the fourth step is laminated with the resin surface of the epoxy resin laminated with copper foil obtained in the second step, and heated and cured to form an insulating layer of 45 μm.
A copper-clad flexible printed circuit board based on iron foil was obtained. Its cross-sectional structure is shown in the figure.

〔試験結果〕〔Test results〕

上記各実施例について試験を行った結果を次表に示す。 The results of tests conducted on each of the above examples are shown in the following table.

引き剥がし強さ、耐溶剤性は2.5f1幅の銅箔または
鉄箔を90度方向に引き剥がし、1c1)当    。
Peel strength and solvent resistance were determined by peeling off a 2.5f1 width copper foil or iron foil in a 90 degree direction.

たりに換算した値で示す。It is shown as a value converted to

(以下本頁余白) 〔発明の効果〕 以上説明したように本発明によれば、製造工数が小さく
、従来品と同等あるいはそれ以上の製品を得ることがで
きる。
(Hereinafter, in the margin of this page) [Effects of the Invention] As explained above, according to the present invention, the number of manufacturing steps is small, and a product that is equivalent to or better than conventional products can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

図は実施例6に記載した方法による基板の構造断面図。 The figure is a structural sectional view of a substrate obtained by the method described in Example 6.

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)片面に接着剤が塗布されたリケイ用フィルムの接
着剤層の表面に金属箔を張り合わせてその接着剤を硬化
させるとともにそのリケイ用フィルムを取り除くことに
より、金属箔に硬化した第一の接着剤層を形成する第一
の工程と、 この第一の工程により製造された硬化した接着剤層の表
面に、さらに、片面に接着剤が塗布されたリケイ用フィ
ルムの接着剤層の表面を張り合わせてその接着剤を硬化
させるとともにそのリケイ用フィルムを取り除くことに
より、金属箔に硬化した第一および第二の接着剤層を形
成する第二の工程と、 この第二の工程により製造された硬化した上記第二の接
着剤層の表面に、さらに、片面に接着剤が塗布されたリ
ケイ用フィルムの接着剤層の表面を張り合わせてその接
着剤を硬化させるとともにそのリケイ用フィルムを取り
除くことにより、金属箔に硬化した第一、第二および第
三の接着剤層を形成する第三の工程と を含む電気回路配線用基板の製造方法。
(1) By pasting a metal foil on the surface of the adhesive layer of a re-keying film with adhesive applied on one side, curing the adhesive and removing the re-keying film, the first hardened metal foil is The first step is to form an adhesive layer, and the surface of the cured adhesive layer produced by this first step is further coated with the surface of the adhesive layer of the adhesive film coated on one side. a second step of forming hardened first and second adhesive layers on the metal foil by laminating the metal foil, curing the adhesive, and removing the adhesive film; The surface of the cured second adhesive layer is further laminated with the surface of the adhesive layer of a rekeying film coated with an adhesive on one side, and the adhesive is cured and the rekeying film is removed. and a third step of forming hardened first, second and third adhesive layers on the metal foil.
(2)第一、第二および第三の接着剤層の厚さはそれぞ
れが10μm以上100μm以下である特許請求の範囲
第(1)項に記載の電気回路配線用基板の製造方法。
(2) The method for manufacturing an electric circuit wiring board according to claim (1), wherein each of the first, second, and third adhesive layers has a thickness of 10 μm or more and 100 μm or less.
(3)金属箔の厚さは9μm以上200μm以下である
特許請求の範囲第(1)項に記載の電気回路配線用基板
の製造方法。
(3) The method for manufacturing an electric circuit wiring board according to claim (1), wherein the metal foil has a thickness of 9 μm or more and 200 μm or less.
(4)片面に接着剤が塗布されたリケイ用フィルムの接
着剤層の表面に金属箔を張り合わせてその接着剤を硬化
させるとともにそのリケイ用フィルムを取り除くことに
より、金属箔に硬化した第一の接着剤層を形成する第一
の工程と、 この第一の工程により製造された硬化した接着剤層の表
面に、さらに、片面に接着剤が塗布されたリケイ用フィ
ルムの接着剤層の表面を張り合わせてその接着剤を硬化
させるとともにそのリケイ用フィルムを取り除くことに
より、金属箔に硬化した第一および第二の接着剤層を形
成する第二の工程と、 この第二の工程により製造された硬化した上記第二の接
着剤層の表面に、片面に接着剤が塗布されたリケイ用フ
ィルムの接着剤層の表面を張り合わせてからそのリケイ
用フィルムを取り除き、そのリケイ用フィルムが取り除
かれた接着剤層の表面を上記金属箔とは別の金属体の表
面に張り合わせ、その接着剤層を硬化する第三の工程と を含む電気回路配線用基板の製造方法。
(4) By laminating a metal foil on the surface of the adhesive layer of a re-keying film coated with adhesive on one side, curing the adhesive and removing the re-keying film, the first hardened metal foil is The first step is to form an adhesive layer, and the surface of the cured adhesive layer produced by this first step is further coated with the surface of the adhesive layer of the adhesive film coated on one side. a second step of forming hardened first and second adhesive layers on the metal foil by laminating the metal foil, curing the adhesive, and removing the adhesive film; The surface of the adhesive layer of the adhesive film coated with adhesive on one side is pasted onto the surface of the cured second adhesive layer, and then the adhesive film is removed, and the adhesive film is removed. A method for manufacturing an electrical circuit wiring board, comprising the steps of: laminating the surface of the adhesive layer to the surface of a metal body other than the metal foil, and curing the adhesive layer.
(5)金属体が金属箔である特許請求の範囲第(4)項
に記載の電気回路配線用基板の製造方法。
(5) The method for manufacturing an electric circuit wiring board according to claim (4), wherein the metal body is a metal foil.
(6)金属体が金属基板である特許請求の範囲第(4)
項に記載の電気回路配線用基板の製造方法。
(6) Claim No. (4) in which the metal body is a metal substrate
A method for manufacturing an electric circuit wiring board according to 1.
(7)片面に接着剤が塗布されたリケイ用フィルムの接
着剤層の表面に金属箔を張り合わせてその接着剤を硬化
させるとともにそのリケイ用フィルムを取り除くことに
より、金属箔に硬化した第一の接着剤層を形成する第一
の工程と、 この第一の工程により製造された硬化した接着剤層の表
面に、繊維状無機物絶縁材料の、片面に接着剤が塗布さ
れたリケイ用フィルムの接着剤層の表面を張り合わせ、
その接着剤を硬化させるとともにそのリケイ用フィルム
を取り除くことにより、金属箔に硬化した第一および第
二の接着剤層を形成する第二の工程と、 この第二の工程により製造された硬化した上記第二の接
着剤層の表面に、さらに、繊維状無機物絶縁材料を介し
て、片面に接着剤が塗布されたリケイ用フィルムの接着
剤層の表面を張り合わせてその接着剤を硬化させるとと
もにそのリケイ用フィルムを取り除くことにより、金属
箔に硬化した第一、第二および第三の接着剤層を形成す
る第三の工程と を含む電気回路配線用基板の製造方法。
(7) By pasting a metal foil on the surface of the adhesive layer of the adhesive film with adhesive applied on one side, and curing the adhesive, and removing the adhesive film, the first hardened metal foil is a first step of forming an adhesive layer; and adhesion of a fibrous inorganic insulating material film coated with adhesive on one side to the surface of the cured adhesive layer produced by this first step; Paste the surfaces of the agent layers together,
a second step of forming cured first and second adhesive layers on the metal foil by curing the adhesive and removing the adhesive film; The surface of the second adhesive layer is further laminated with the surface of the adhesive layer of the adhesive film coated with adhesive on one side through the fibrous inorganic insulating material, and the adhesive is cured and and a third step of forming cured first, second and third adhesive layers on the metal foil by removing the adhesive film.
(8)繊維状無機物絶縁材料は繊維状チタン酸カリウム
である特許請求の範囲第(6)項に記載の電気回路配線
用基板の製造方法。
(8) The method for manufacturing an electric circuit wiring board according to claim (6), wherein the fibrous inorganic insulating material is fibrous potassium titanate.
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