JPS61233943A - 電子ビ−ム照射装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、フィルム録画装置、半導体のパターン措置装
置等に使用される電子ビーム照射装置に関する。

〔発明の概要〕

本発明は電子ビーム照射装置に関し、陽極を筒状に構成
すると共にフォーカスコイルの内側にアパーチャを設け
ることにより、アパーチャの口径を大きくし、外部磁界
等の影響を少くできるようにするものである。

〔従来の技術〕

例えばビデオ信号にて電子ビームを変調し、この変調さ
れた電子ビームをフィルムに照射して画像を焼付けるよ
うにしたフィルム録画（ＥＶＲ）装置がある。

第２図はその構成を示し、図のＡにおいて（２１）はフ
ィラメント、（２２）はグリッドであって、この両者に
て電子銃が構成され、このグリッド（２２）に印加され
る電圧によって電子ビームが変調される。この変調され
た電子ビームが陽極（２３）に向って発射され、陽極（
２３）のアパーチャ（２４）にま た電子ビームがフォーカスコイル（２５）で集束され、
フィルム（２６）面上で例えば１０μ蒙程度のスポット
とされてフィルム（２６）に焼付けられる。

なお（２７）は偏向コイルであって電子ビームの例えば
水平偏向が行われる。垂直偏向はフィルム（２６）の移
送によって行われる。

これによってフィルム（２６）に変調された電子ビーム
による焼付けが行われる。

ここでアパーチャ（２４）の口径は図のＢにポすように
フォーカスコイル（２５）の収差の問題から最大０．１
鶴程度が限界となる。

ところがその場合に、ＥＶＲ装置等において装置全体を
真空にするためにデフニージョンポンプを使用している
と、波数される油分が油滴となってアパーチャ（２４）
を目づまりさせるおそれがある。

また電子ビームの発射方向が電子銃と陽極（２３）によ
って決定されるため、これらの取付精度や外部磁界、内
部の静電気等によってフォーカスコイル（２５）内での
電子ビームの位置が不安定になり、集束の悪化やフィル
ム（２６）上で画面の位置が変動するおそれもあった。

（発明が解決しようとする問題点〕 従来の装置は上述のように構成されていた。このためア
パーチャが目づまりしたり、外部磁界等の影響を受は易
いなどの問題点があった。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明は、フィラメント（１）からグリッド（２）を介
して発射される電子ビームを囲うように、上記発射方向
に平行に筒状の陽極（３）を設け、この陽極の他端部に
フォーカスコイル（５）を設け、このフォーカスコイル
の内側に上記陽極と同電位のアパーチャ（イ）を設けた
ことを特徴とする電子ビーム照射装置である。

〔作用〕

この装置によれば、陽極を筒状に構成すると共にフォー
カスコイルの内側にアパーチャを設けることにより、ア
パーチャの口径を大きクシ、外部磁界等の影響を少くす
ることができる。

〔実施例〕

ところで従来の装置において、フォーカスコイルの内側
でのビーム束の直径は１．０ｗ程度であり、このビーム
束は平行ビームに近くなっている。

そこで第２図のＡに示すように、フィラメント（１）と
グリッド（２）の電子銃から発射され・た電子ビームが
そのままフォーカスコイル（５）の方向に発射されると
共に、この電子ビームを囲うように発射方向と平行に筒
状の陽極（３）が設けられる。そしてこの陽極（３）の
他端がフォーカスコイル（５）の位置まで延長されると
共に、このフォーカスコイル（５）の内側に陽極（３）
と同電位のアパーチャ（４）が設けられる。

さらに偏向コイル（７）とフィルム（６）の構成は従来
と同様である。

この装置において、アパーチャ（４）をフォーカスコイ
ル（５）の内側に設けた場合には、従来の装置から明ら
かなようにその口径を１．０目程度にしてもフォーカス
コイル（５）の収差に影響がない、従って図のＢに示す
ようにアパーチャ（４）の口径を１．０鶴にまで拡大す
ることができ、これによって油滴の目づまりのおそれは
解消される。なおこの場合も通過される電子ビームの比
率は従来と同じである。

さらにこの装置において、電子ビームの方向は、その周
囲がアパーチャ（４）で削られる内部にあればビームが
動いても問題はなく、従って取付精度や外部磁界、内部
の静電気等の影響を受けるおそれはほとんどない。

なお上述の装置において、ｇｍが大きくなる。すなわち
この装置のｇｍはフィラメントとグリッドの距Ｊｌｌｌ
ｌ　ｈとグリッドと陽極（アパーチャ）との距離１２と
の比によって決定され、ｇｗ＋＝に□となｌす るので、　１２を極めて大きくとれるこの装置ではｇｍ
が極めて大きくなる。従ってグリッドに印加されるドラ
イブ電圧を小さくして良好な変調を行うことができる。

また上述の装置でフォーカスコイルは１つに限らず複数
設けられていてもよい。

さらにこの装置は半導体のパターン措置装置にも適用で
きる。

〔発明の効果〕 本発明によれば、陽極を筒状に構成すると共にフォーカ
スコイルの内側にアパーチャを設けることにより、アパ
ーチャの口径を大きくし、外部磁界等の影響を少くする
ことができるようになった。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一例の構成図、第２図は従来の装置の
構成図である。 （１１はフィラメント、（２）はグリッド、（３）は陽
極、（勾はアパーチャ、（５）はフォーカスコイルであ
る。 費施倒り構成ｍ 第１図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 フィラメントからグリッドを介して発射される電子ビー
   ムを囲うように、上記発射方向に平行に筒状の陽極を設
   け、 この陽極の他端部にフォーカスコイルを設け、このフォ
   ーカスコイルの内側に上記陽極と同電位のアパーチャを
   設けたことを特徴とする電子ビーム照射装置。