JPS61230019A - 溶解位置測定装置 - Google Patents
溶解位置測定装置Info
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- JPS61230019A JPS61230019A JP60071362A JP7136285A JPS61230019A JP S61230019 A JPS61230019 A JP S61230019A JP 60071362 A JP60071362 A JP 60071362A JP 7136285 A JP7136285 A JP 7136285A JP S61230019 A JPS61230019 A JP S61230019A
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- melted
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- electrode
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/14—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring distance or clearance between spaced objects or spaced apertures
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Length Measuring Devices With Unspecified Measuring Means (AREA)
- Radiation Pyrometers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明はアーク溶解させる対向配置した鋼等の被溶解材
間の間隔およびセンタ位置を測定する溶解位置測定装置
に関する。
間の間隔およびセンタ位置を測定する溶解位置測定装置
に関する。
鋼や合金等の溶解にはアークを発生させこのアーク熱に
よシ溶解するアーク溶解法なる技術がある。この技術の
うち特開昭５５−１６５２７１号公報に開示されている
ＶＡＤＩＩＥＲ（Ｖａｃｕｕｍ ＡｒｅＤｏｕｂｌｅ
Ｅｌｅｃｔｒｏｄｅ Ｒｅｍｅｌｔｉｎｇ）法と呼ばれ
るものがある。これは第９図に示すように非水冷鋳型１
上部に一対の消耗電極２，３を水平方向に対向させて設
置し、これら電極２，３間に真空中でアークＡを発生さ
せ、このアーク熱により電極２．３を溶融するものであ
る。
よシ溶解するアーク溶解法なる技術がある。この技術の
うち特開昭５５−１６５２７１号公報に開示されている
ＶＡＤＩＩＥＲ（Ｖａｃｕｕｍ ＡｒｅＤｏｕｂｌｅ
Ｅｌｅｃｔｒｏｄｅ Ｒｅｍｅｌｔｉｎｇ）法と呼ばれ
るものがある。これは第９図に示すように非水冷鋳型１
上部に一対の消耗電極２，３を水平方向に対向させて設
置し、これら電極２，３間に真空中でアークＡを発生さ
せ、このアーク熱により電極２．３を溶融するものであ
る。
また、他の溶解方法として第１０図に示す技術もある。
すなわち、消耗電極４，５を鋳型６上部にその中心線が
交わるように水平または下方向きに対向させて設置し、
真空下あるいは、不活性ガス雰囲気中で各電極４，５間
及び各電極４，５と鋳型６及び再溶解インコ゛ット７間
にアークＢを発生させ、そのアーク熱によシミ極４．５
を溶融させるものである。
交わるように水平または下方向きに対向させて設置し、
真空下あるいは、不活性ガス雰囲気中で各電極４，５間
及び各電極４，５と鋳型６及び再溶解インコ゛ット７間
にアークＢを発生させ、そのアーク熱によシミ極４．５
を溶融させるものである。
なお、消耗電極４．５は長手方向（（）←）にスライド
可能であるとともに（−ウに）方向に移動可能な構成と
なっておシ、溶解の進行に従って消耗電極４．５を送出
させて各電極４，５間のギャップが調整されている。こ
のようにして溶融した溶融金属は落下して鋳型６に入シ
、この鋳型６において溶融プール８となり凝固してイｙ
ｆ 。
可能であるとともに（−ウに）方向に移動可能な構成と
なっておシ、溶解の進行に従って消耗電極４．５を送出
させて各電極４，５間のギャップが調整されている。こ
のようにして溶融した溶融金属は落下して鋳型６に入シ
、この鋳型６において溶融プール８となり凝固してイｙ
ｆ 。
ドアとして製造される。
ところで、以上のアーク熱溶解法の技術においてアーク
を安定して発生して効率良く溶解し高品質で均一なイン
ゴットを製造するには、各電極２，３おＬび４，５間の
間隔および電極間のセンタ位置の情報を知るととが重要
な事項である。つまシ、間隔が長いとアークが発生しな
くなシ、また間隔が短かく各電極が接触する状態となる
とアークは発生しなくなシ再点孤が困難となってしまう
。また、断面積の小さいインプットやホローーース等の
製造に際しては、粒滴状の溶解金属を鋳型内の所定位置
に落下させる必要があシ、このため電極の間隔およびそ
のセンタ位置を高精度に制御しなければならない。
を安定して発生して効率良く溶解し高品質で均一なイン
ゴットを製造するには、各電極２，３おＬび４，５間の
間隔および電極間のセンタ位置の情報を知るととが重要
な事項である。つまシ、間隔が長いとアークが発生しな
くなシ、また間隔が短かく各電極が接触する状態となる
とアークは発生しなくなシ再点孤が困難となってしまう
。また、断面積の小さいインプットやホローーース等の
製造に際しては、粒滴状の溶解金属を鋳型内の所定位置
に落下させる必要があシ、このため電極の間隔およびそ
のセンタ位置を高精度に制御しなければならない。
しかしなから従来、各電極間の間隔、センタ位置はオペ
レータの目視によシその情報を得、この情報に基づいて
電極間の間隔、センタ位置を制御しているのが現状であ
る。したがってアーク発生に適切な電極間隔およびセン
タ位置が得られずその制御装置の実現が要望されている
。
レータの目視によシその情報を得、この情報に基づいて
電極間の間隔、センタ位置を制御しているのが現状であ
る。したがってアーク発生に適切な電極間隔およびセン
タ位置が得られずその制御装置の実現が要望されている
。
本発明は上記実情に基づいてなされたもので、その目的
とするところは、オンラインで電極間隔およびそのセン
タ位置が測定できる溶解位置測定装置を提供することに
ある。
とするところは、オンラインで電極間隔およびそのセン
タ位置が測定できる溶解位置測定装置を提供することに
ある。
本発明は、アーク光成分を除去して放射輝度成分を通過
させる光学フィルタが設けられた輝度検出器によシ対向
配置された被溶解材の輝度を検出し、この検出信号から
被溶解材の温度分布を求め、さらにこの温度分布から間
隔位置演算手段が被溶解材の間隔およびセンタ位置を求
める溶解位置測定装置である。
させる光学フィルタが設けられた輝度検出器によシ対向
配置された被溶解材の輝度を検出し、この検出信号から
被溶解材の温度分布を求め、さらにこの温度分布から間
隔位置演算手段が被溶解材の間隔およびセンタ位置を求
める溶解位置測定装置である。
以下、本発明の一実施例について図面を参照して説明す
る。第１図は溶解位置測定装置の全体構成図である。同
図においてＩＯはアーク溶解炉の真空容器であシ、１１
．１２は被溶解材としての各電極である。Ｃはアークで
あり、Ｉ３は落下している粒滴状の溶解金属である。
る。第１図は溶解位置測定装置の全体構成図である。同
図においてＩＯはアーク溶解炉の真空容器であシ、１１
．１２は被溶解材としての各電極である。Ｃはアークで
あり、Ｉ３は落下している粒滴状の溶解金属である。
２０は輝度検出器としての撮像装置であって、これは電
極１１．１２の放射輝度分布を真空容器１０に設けられ
ている測定窓を通して検出するもので、その視野５は各
電極１１．１２が入るような１次元となっている。
極１１．１２の放射輝度分布を真空容器１０に設けられ
ている測定窓を通して検出するもので、その視野５は各
電極１１．１２が入るような１次元となっている。
３０はアーク位置演算装置であって、これは撮像装置２
０からのぎデオ信号を受けてこのビデオ信号から各電極
１１．１２の温度分布を求め、この温度分布から電極間
隔およびそのセンタ位置を演算し求めるものである。
０からのぎデオ信号を受けてこのビデオ信号から各電極
１１．１２の温度分布を求め、この温度分布から電極間
隔およびそのセンタ位置を演算し求めるものである。
ここで、撮像装置２０およびアーク位置演算装置３０の
具体的な構成について第２図を参照して説明する。
具体的な構成について第２図を参照して説明する。
撮像装置２０は、その先端に光学フィルタ２１が設けら
れ、この光学フィルタ２１を通った輝度光がレンズ２２
を通ってセンサ２３上に結像されるようになっている。
れ、この光学フィルタ２１を通った輝度光がレンズ２２
を通ってセンサ２３上に結像されるようになっている。
このセンサ２３は光電変換素子を１次元に多数配列した
構成のもので、例えば光電変換素子としてシリコン・フ
ォト・ダイオード・アレイ（リニア・アレイ、Ｃ０Ｄ−
次元センサ）を１０２４素子配列した構成となりている
。
構成のもので、例えば光電変換素子としてシリコン・フ
ォト・ダイオード・アレイ（リニア・アレイ、Ｃ０Ｄ−
次元センサ）を１０２４素子配列した構成となりている
。
ここで、光学フィルタ２Ｉについて説明する。
第３図は電極１１．１２間で発生するアークＣの分光放
射特性と黒体炉を用いて得られた黒体の分光放射特性と
の相対的比較を示している。
射特性と黒体炉を用いて得られた黒体の分光放射特性と
の相対的比較を示している。
なお、同図においてアーク・ス、ベクトルは被溶解材と
して数種ある中の一例であるが、他の被溶解材を用いた
場合でも、また不活性雰囲気、或は真空度を変えた場合
でもスペクトルは異なるが０６８５μｍ以上については
黒体放射に比べ殆んど無視しうろことが判明している。
して数種ある中の一例であるが、他の被溶解材を用いた
場合でも、また不活性雰囲気、或は真空度を変えた場合
でもスペクトルは異なるが０６８５μｍ以上については
黒体放射に比べ殆んど無視しうろことが判明している。
また同図はシリコン・フォト・ダイオード・プレイを検
出器としたマルチ・チャンネル分光器を用いて測定した
もので、これに用いたレンズ、回折格子、フォト・ダイ
オード・アレイの総合的な分光感度は第４図に示すよう
になっていることが判明している。
出器としたマルチ・チャンネル分光器を用いて測定した
もので、これに用いたレンズ、回折格子、フォト・ダイ
オード・アレイの総合的な分光感度は第４図に示すよう
になっていることが判明している。
第３図に示すようにアーク光の放射分光特性は、波長０
．８０１１ｍ付近まで強いス（クトルが存在する。一方
、波長０．８０μｍ以下ではシリコン・フォト・ダイオ
ード・アレイを用いたアーク光のスペクトルは、例えば
１５００’ＣＰＪ、１６５０℃Ｐ２の黒体放射と比較し
て非常に弱くほとんど無視しうることかわかる。
．８０１１ｍ付近まで強いス（クトルが存在する。一方
、波長０．８０μｍ以下ではシリコン・フォト・ダイオ
ード・アレイを用いたアーク光のスペクトルは、例えば
１５００’ＣＰＪ、１６５０℃Ｐ２の黒体放射と比較し
て非常に弱くほとんど無視しうることかわかる。
従りて、本実施例における光学フィルタ２１は、８／Ｎ
を向上させるために波長０．９０μｍ以上の赤外線透過
フィルタを用いてアーク光を除去し、各電極１１．１２
の放射輝度分布を検出するよう罠なっている。この場合
、第４図かられかるように波長０．９０μｍ以上でもシ
リコン・フォト・ダイオード・アレイは感度を持ってお
シしかも測定対象温度が１４００℃以上であって十分な
出力値が得られる。
を向上させるために波長０．９０μｍ以上の赤外線透過
フィルタを用いてアーク光を除去し、各電極１１．１２
の放射輝度分布を検出するよう罠なっている。この場合
、第４図かられかるように波長０．９０μｍ以上でもシ
リコン・フォト・ダイオード・アレイは感度を持ってお
シしかも測定対象温度が１４００℃以上であって十分な
出力値が得られる。
また、レンズ２２は各電極１１．１２の移動範囲領域を
視野とするような焦点距離のものが選定されて設けられ
ている。さらに撮像装置２０１１Ｃは、センサ２３を駆
動するドライバ回路２４およびビデオ信号増幅回路２５
が内股されている。
視野とするような焦点距離のものが選定されて設けられ
ている。さらに撮像装置２０１１Ｃは、センサ２３を駆
動するドライバ回路２４およびビデオ信号増幅回路２５
が内股されている。
次にアーク位置演算装置３０の構成について説明する。
スタート・９ルス発生回路３１はドライバ回路２４を起
動するスタート・譬ルスを発生するもので、このスター
ト・譬ルスの周波数（センサ２３での走査周波数）は一
定輝度の対象を測定する場合、出力電圧とは反比例の関
係にあるので、黒体炉校正を行う時に測定する温度範囲
を満たすような周波数をもうて発生する。３２、はビデ
オ信号増幅回路２５からのビデオ信号のレベルを判定し
て溶解温度付近に達したかを判断してこの旨をシーケン
ス制御部３３に送出するとともにビデオ信号を放射輝度
分布記憶部３４に送出するものである。なお、ビデオ信
号は放射輝度分布記憶部３４に記憶される前にディノタ
ル化されるようになりている。３５は間隔位置演算部で
あって、これは放射輝度分布記憶部３４に記憶されたデ
ィジタルビデオ信号を゛読み出して電極１１．１２の温
度分布を求め、この温度分布における各電極１１．１２
の各ピークレベル位置を求めてこれらピークレベル位置
をセンサ２３の光電変換素子の位置に換算して電極１１
．１２の間隔およびそのセンタ位置を求める機能を持り
たものである。初期値設定部３６には、アーク溶解開始
前の電極１１．１２の間隔およびそのセンタ位置の情報
が予め設定されている。
動するスタート・譬ルスを発生するもので、このスター
ト・譬ルスの周波数（センサ２３での走査周波数）は一
定輝度の対象を測定する場合、出力電圧とは反比例の関
係にあるので、黒体炉校正を行う時に測定する温度範囲
を満たすような周波数をもうて発生する。３２、はビデ
オ信号増幅回路２５からのビデオ信号のレベルを判定し
て溶解温度付近に達したかを判断してこの旨をシーケン
ス制御部３３に送出するとともにビデオ信号を放射輝度
分布記憶部３４に送出するものである。なお、ビデオ信
号は放射輝度分布記憶部３４に記憶される前にディノタ
ル化されるようになりている。３５は間隔位置演算部で
あって、これは放射輝度分布記憶部３４に記憶されたデ
ィジタルビデオ信号を゛読み出して電極１１．１２の温
度分布を求め、この温度分布における各電極１１．１２
の各ピークレベル位置を求めてこれらピークレベル位置
をセンサ２３の光電変換素子の位置に換算して電極１１
．１２の間隔およびそのセンタ位置を求める機能を持り
たものである。初期値設定部３６には、アーク溶解開始
前の電極１１．１２の間隔およびそのセンタ位置の情報
が予め設定されている。
次に上記の如く構成された装置の動作について説明する
。各電極１１．１２に電流が供給されてアークＣが発生
し、このアーク熱によシ溶解温度に達すると各電極１１
．１２は溶解して粒滴状の溶解金属１３として鋳型内に
向かりて落下する。
。各電極１１．１２に電流が供給されてアークＣが発生
し、このアーク熱によシ溶解温度に達すると各電極１１
．１２は溶解して粒滴状の溶解金属１３として鋳型内に
向かりて落下する。
一方、シーケンス制御部３３の指令によりスタート／々
ルス発生回路３１からスタート／クルスがドライバ回路
２４に送出されると、センサ２３の各光電変換素子シリ
コン・フォト・ダイオード・アレイ）が駆動走査される
。ところで撮像装置２０は、その視野５が各電極１１．
１２を捕えるように設置されているので、各電極１１゜
Ｉ２の像は光学フィルタ２１、レンズ２２を通ってセン
サ２３上に結像される。ここで、光学フィルタ２１は赤
外線透過フィルタが用いられているためアーク光は除去
され各電極７１．１２の放射輝度成分のみがセンサ２３
に達する。これによりセンサ２３からは放射輝度分布に
応じたビデオ信号がビデオ信号増幅回路２５を通って走
査周波数判定部３２に送られる。この走査周波数判定部
３２では入力したビデオ信号のレベルを判定して溶解温
度に達したかを判断し、溶解温度に達していればその旨
をシーケンス制御部３３に送出する。ここで、溶解温度
に達していなければシーケンス制御部３３０指令によシ
初期値設定部３６からアーク溶解開始前の間隔およびセ
ンタ位置の情報が読み出され、この情報に基づいて各電
極ＩＩ 、１２の位置が制御される。
ルス発生回路３１からスタート／クルスがドライバ回路
２４に送出されると、センサ２３の各光電変換素子シリ
コン・フォト・ダイオード・アレイ）が駆動走査される
。ところで撮像装置２０は、その視野５が各電極１１．
１２を捕えるように設置されているので、各電極１１゜
Ｉ２の像は光学フィルタ２１、レンズ２２を通ってセン
サ２３上に結像される。ここで、光学フィルタ２１は赤
外線透過フィルタが用いられているためアーク光は除去
され各電極７１．１２の放射輝度成分のみがセンサ２３
に達する。これによりセンサ２３からは放射輝度分布に
応じたビデオ信号がビデオ信号増幅回路２５を通って走
査周波数判定部３２に送られる。この走査周波数判定部
３２では入力したビデオ信号のレベルを判定して溶解温
度に達したかを判断し、溶解温度に達していればその旨
をシーケンス制御部３３に送出する。ここで、溶解温度
に達していなければシーケンス制御部３３０指令によシ
初期値設定部３６からアーク溶解開始前の間隔およびセ
ンタ位置の情報が読み出され、この情報に基づいて各電
極ＩＩ 、１２の位置が制御される。
さて、溶解温度に達するとビデオ信号は走査周波数判定
部３２を通ってディジタルビデオ信号に変換されて放射
輝度分布記憶部３４に記憶される。そこで、間隔位置演
算部３５はこの記憶部３４に記憶されたディジタルビデ
オ信号を読み出して各電極１１．１２の間隔およびその
センタ位置を演算し求める。すなわち、ディジタルビデ
オ信号から各電極１１．１２の温度分布が求められる。
部３２を通ってディジタルビデオ信号に変換されて放射
輝度分布記憶部３４に記憶される。そこで、間隔位置演
算部３５はこの記憶部３４に記憶されたディジタルビデ
オ信号を読み出して各電極１１．１２の間隔およびその
センタ位置を演算し求める。すなわち、ディジタルビデ
オ信号から各電極１１．１２の温度分布が求められる。
ここで、温度分布が第５図に示す如くとすると、ピーク
レベルｖｍ、Ｘ（ｖａ）は電極１１の先端部分、またピ
ークレベルｖｍａｘ（”ｂ）は電極１２の先端部分に相
当している。なお、このピークレベルＶ。、ｖｂは各電
極１１．１２の最高温度部分に相当する。そこで、これ
らピークレベルｖｌＬ、■ｂの位置をセ／す２３の各シ
リコン・フォト・ダイオード・アレイの素子位置に換算
するがこの換算処理について第６図を参照して説明する
。出力電圧の各ピークレベルｖ＆。
レベルｖｍ、Ｘ（ｖａ）は電極１１の先端部分、またピ
ークレベルｖｍａｘ（”ｂ）は電極１２の先端部分に相
当している。なお、このピークレベルＶ。、ｖｂは各電
極１１．１２の最高温度部分に相当する。そこで、これ
らピークレベルｖｌＬ、■ｂの位置をセ／す２３の各シ
リコン・フォト・ダイオード・アレイの素子位置に換算
するがこの換算処理について第６図を参照して説明する
。出力電圧の各ピークレベルｖ＆。
ｖｂに対してｖｍａ ！・α（０＜α〈１）の閾値を設
定して１番目の素子から順次次式を満足する素子ｎ１を
検索する。
定して１番目の素子から順次次式を満足する素子ｎ１を
検索する。
ｖ（ｎａ）〉αｖ＆〉ｖ（ｎａ＋１） ・・
・（１）次Ｋ ｎ （１０２４）番目の素子に向って順
次検索して次式を満足する素子ｎｂを検出する。
・（１）次Ｋ ｎ （１０２４）番目の素子に向って順
次検索して次式を満足する素子ｎｂを検出する。
Ｖ（ｎｂ）（（！Ｖｂ（Ｖ（ｎｂ＋１） −
（２）このようにして求められた各電極ＩＩ 、１２の
先端部分に相当する素子位置ｎ ａ ｒ ｎ ＠から各
電極１１．１２の間隔が求められる。すなわち、間隔Ｎ
ｃは、 Ｎｅ ＝ ｎ ｂ−ｎ 、 …（３
）を演算して求められる。
（２）このようにして求められた各電極ＩＩ 、１２の
先端部分に相当する素子位置ｎ ａ ｒ ｎ ＠から各
電極１１．１２の間隔が求められる。すなわち、間隔Ｎ
ｃは、 Ｎｅ ＝ ｎ ｂ−ｎ 、 …（３
）を演算して求められる。
次に電極１１．１２の間のセンタ位置ｎｃはｎｃ ＝
（’ａ ＋ｎｂ）／ ２ −（４）なる演算
を行なって求められる。々お、以上のように求められた
間隔Ｎｃおよびそのセンタ位置ｎｃはセンサ２３の各素
子位置に対応するものなので、これらＮｅｏｎｅから実
際の間隔およびセンタ位置が求められる。そうして求め
られた間隔およびセンタ位置の情報は、例えば各電極Ｉ
Ｉ。
（’ａ ＋ｎｂ）／ ２ −（４）なる演算
を行なって求められる。々お、以上のように求められた
間隔Ｎｃおよびそのセンタ位置ｎｃはセンサ２３の各素
子位置に対応するものなので、これらＮｅｏｎｅから実
際の間隔およびセンタ位置が求められる。そうして求め
られた間隔およびセンタ位置の情報は、例えば各電極Ｉ
Ｉ。
１２に供給する電流量や各電極１１．１２の位置制御を
行なう電極位置制御部に送られる。なお、電極位置制御
部４０．４１を加えた構成を第７図に示す。
行なう電極位置制御部に送られる。なお、電極位置制御
部４０．４１を加えた構成を第７図に示す。
このように上記一実施例においては、赤外線透過フィル
タが設けられた撮像装置２０からのビデオ信号を受けて
アーク位置演算装置３０が、ビデオ信号から各電極ＩＩ
、１２の温度分布を求め、この温度分布におけるレベ
ルのピークレベルに基づいて各電極ＩＩ 、１２の最高
温度部分となる電極の先端位置を求め、もってこの先端
位置から電極間隔およびそのセンタ位置を求めるので、
アーク溶解中に各電極ＩＩ、１２の先端位置およびその
センタ位置が正確に測定で 。
タが設けられた撮像装置２０からのビデオ信号を受けて
アーク位置演算装置３０が、ビデオ信号から各電極ＩＩ
、１２の温度分布を求め、この温度分布におけるレベ
ルのピークレベルに基づいて各電極ＩＩ 、１２の最高
温度部分となる電極の先端位置を求め、もってこの先端
位置から電極間隔およびそのセンタ位置を求めるので、
アーク溶解中に各電極ＩＩ、１２の先端位置およびその
センタ位置が正確に測定で 。
き、これらの情報に基づいて各電極ＩＩ 、 １２の間
隔および位置が制御できる。したがって、アークＣを安
定して発生して効率良く溶解でき高品質で均一なインゴ
ットを常に製造できる。
隔および位置が制御できる。したがって、アークＣを安
定して発生して効率良く溶解でき高品質で均一なインゴ
ットを常に製造できる。
しかも、粒滴状の溶解金属の落下位置も正確に制御でき
るので、断面積の小さいインゴットやホローピース等も
高品質で均一に製造できる。
るので、断面積の小さいインゴットやホローピース等も
高品質で均一に製造できる。
なお、本発明は上記一実施例に限定されるものではない
。例えば第８図に示すように撮像装置５０は２次元像の
撮像装置（シリコン・ビジコン、二次元固体撮像装置等
）を用いてセンタ位置演算装置５１によシ各電極の温度
分布を求めて間隔およびセンタ位置を求めるようにして
もよい。また、ＶＡＤＥＲ法によるアーク溶解装置に対
して適用してもよい。
。例えば第８図に示すように撮像装置５０は２次元像の
撮像装置（シリコン・ビジコン、二次元固体撮像装置等
）を用いてセンタ位置演算装置５１によシ各電極の温度
分布を求めて間隔およびセンタ位置を求めるようにして
もよい。また、ＶＡＤＥＲ法によるアーク溶解装置に対
して適用してもよい。
以上詳記したように本発明によれば、オンラインで電極
間隔およびそのセンタ位置が測定できる溶解位置測定装
置を提供できる。
間隔およびそのセンタ位置が測定できる溶解位置測定装
置を提供できる。
第１図は本発明に係る溶解位置測定装置の一実施例を示
す構成図、第２図は本発明装置の具体的な構成図、第３
図はアークおよび黒体の分光放射特性の相対的比較を示
す図、第４図はマルチチャンネル分光器の分光感度を示
す図、第５図は本発明装置による温度分布測定結果を示
す図、第６図は本発明装置の間隔およびセンタ位置の演
算動作を説明するための模式図、第７図および第８図は
本発明装置の変形例を示す図、第９図および第１０図は
アーク溶解法を用いた装置の構成図である。 １０・・・真空容器、ＩＩ、１２・・・電極、２０・・
・撮像装置、２１・・・光学フィルタ、２２・・・レン
ズ、２３・・・センサ、３０・・・アーク位置演算装置
、３２・・・走査周波数判定部、３４・・・放射輝度分
布記憶部、３５・・・間隔位置演算部、３６・・・初期
値設定部。 出願人代理人 弁理士 鈴 江 武 彦第３図 ５１Ｌ４ｋ （μｍ） 第４図 ０．４ ０．５ ０．６ ０．７ ０．８ ０．９ １
．０浪 蚤 第５図 米子アドト入 第６図 素子７ドＬ入 １！７１ｉ！ 第８図 ９ＷＩＩ １０ＷＩ
す構成図、第２図は本発明装置の具体的な構成図、第３
図はアークおよび黒体の分光放射特性の相対的比較を示
す図、第４図はマルチチャンネル分光器の分光感度を示
す図、第５図は本発明装置による温度分布測定結果を示
す図、第６図は本発明装置の間隔およびセンタ位置の演
算動作を説明するための模式図、第７図および第８図は
本発明装置の変形例を示す図、第９図および第１０図は
アーク溶解法を用いた装置の構成図である。 １０・・・真空容器、ＩＩ、１２・・・電極、２０・・
・撮像装置、２１・・・光学フィルタ、２２・・・レン
ズ、２３・・・センサ、３０・・・アーク位置演算装置
、３２・・・走査周波数判定部、３４・・・放射輝度分
布記憶部、３５・・・間隔位置演算部、３６・・・初期
値設定部。 出願人代理人 弁理士 鈴 江 武 彦第３図 ５１Ｌ４ｋ （μｍ） 第４図 ０．４ ０．５ ０．６ ０．７ ０．８ ０．９ １
．０浪 蚤 第５図 米子アドト入 第６図 素子７ドＬ入 １！７１ｉ！ 第８図 ９ＷＩＩ １０ＷＩ
Claims (4)
- （１）アークを発生しこのアーク熱により対向配置した
各被溶解材を溶解させる装置において、前記被溶解材の
輝度を検出する輝度検出器と、この輝度検出器に設けら
れアーク光成分を除去して放射輝度成分を通過させる光
学フィルタと、前記輝度検出器から出力される前記放射
輝度成分の検出信号を受けて前記被溶解材の温度分布を
演算し求める温度演算手段と、この温度演算手段により
求められた温度分布から前記各被溶解材の間隔およびセ
ンタ位置を演算し求める間隔位置演算手段とを具備した
ことを特徴とする溶解位置測定装置。 - （２）輝度検出器は、複数の光電変換素子を１次元また
は２次元のうちいずれか一方で配列した特許請求の範囲
第（１）項記載の溶解位置測定装置。 - （３）光学フィルタは、赤外線透過フィルタを用いる特
許請求の範囲第（１）項記載の溶解位置測定装置。 - （４）間隔位置演算手段は、温度分布から各被溶解材の
各ピークレベル位置を求め、これらピークレベル位置か
ら輝度検出器における光電変換素子位置に換算して求め
る特許請求の範囲第（１）項記載の溶解位置測定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60071362A JPS61230019A (ja) | 1985-04-04 | 1985-04-04 | 溶解位置測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60071362A JPS61230019A (ja) | 1985-04-04 | 1985-04-04 | 溶解位置測定装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61230019A true JPS61230019A (ja) | 1986-10-14 |
| JPH0372921B2 JPH0372921B2 (ja) | 1991-11-20 |
Family
ID=13458309
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60071362A Granted JPS61230019A (ja) | 1985-04-04 | 1985-04-04 | 溶解位置測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61230019A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2016145846A (ja) * | 2016-05-19 | 2016-08-12 | Ｊｆｅスチール株式会社 | 温度測定装置および温度測定方法 |
-
1985
- 1985-04-04 JP JP60071362A patent/JPS61230019A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2016145846A (ja) * | 2016-05-19 | 2016-08-12 | Ｊｆｅスチール株式会社 | 温度測定装置および温度測定方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0372921B2 (ja) | 1991-11-20 |
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