JPS61227277A - 校正標準装置及びその製造方法 - Google Patents
校正標準装置及びその製造方法Info
- Publication number
- JPS61227277A JPS61227277A JP60218190A JP21819085A JPS61227277A JP S61227277 A JPS61227277 A JP S61227277A JP 60218190 A JP60218190 A JP 60218190A JP 21819085 A JP21819085 A JP 21819085A JP S61227277 A JPS61227277 A JP S61227277A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- angle
- layer
- disk
- flying height
- head
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/48—Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed
- G11B5/58—Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed with provision for moving the head for the purpose of maintaining alignment of the head relative to the record carrier during transducing operation, e.g. to compensate for surface irregularities of the latter or for track following
- G11B5/60—Fluid-dynamic spacing of heads from record-carriers
- G11B5/6005—Specially adapted for spacing from a rotating disc using a fluid cushion
Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
イ、産業上の利用分野
本発明は、磁気ヘラｒのフライング高さ特性を試験する
ための装置に係シ、特に磁気ヘッドのフライング高さ特
性を試験するのに用いられるフラ、イング高さテスタを
校正する装置に関する。
ための装置に係シ、特に磁気ヘッドのフライング高さ特
性を試験するのに用いられるフラ、イング高さテスタを
校正する装置に関する。
口、従来の技術
ディスク記録技術においては、回転するディスクの表面
上を”フライ°する読取／書込ヘッドを一般に使用する
。ヘッド組立体の空気力学表面は、回転するディスクに
よって運動される空気に対して反作用して該ヘッドをデ
ィスク表面かられずかな距離°フライ°させる。そのよ
うな読取／書込ヘッドの製作においては、該ヘッドの空
力特性を試験することＫよってそのフライング高さ特性
を知り、それ釦よって、ディスク表面に対して高すぎる
または低すぎる高さで、またはディスク〈対して適切で
ない角度で°７ライ”するヘラｒの使用を回避するのが
一般である。
上を”フライ°する読取／書込ヘッドを一般に使用する
。ヘッド組立体の空気力学表面は、回転するディスクに
よって運動される空気に対して反作用して該ヘッドをデ
ィスク表面かられずかな距離°フライ°させる。そのよ
うな読取／書込ヘッドの製作においては、該ヘッドの空
力特性を試験することＫよってそのフライング高さ特性
を知り、それ釦よって、ディスク表面に対して高すぎる
または低すぎる高さで、またはディスク〈対して適切で
ない角度で°７ライ”するヘラｒの使用を回避するのが
一般である。
フライング高さ試験は光学干渉技術を用いるフライング
高さテスタによって普通は達成される。
高さテスタによって普通は達成される。
そのようなフライング高さテスタは、例えば、がラス製
のディスクにおいて単色光を導く調整自在のモノクロメ
ータのごとき単色光源を有する。前記ガラス・ディスク
は磁気ディスクの回転を模擬する速度で回転され、そし
て試験されるヘッド／アーム組立体が前記回転するガラ
ス・ディスクに対してフライング可能にホルダまたはク
ランプに位置される。単色光は前記ディスクの表面に対
し規定角度で該ディスクに導かれる。光はフライングヘ
ッドに最も近いディスク表面から、そしてフライングヘ
ッド自体から反射されて、センナ、例えばテレビカメラ
またはその他の感光センナ、上に衝突する。前記ヘッド
がそのフライング位置に在るとき、ディスク及びヘッド
から反射される単色光は、加色的（建設的干渉）モーｒ
及び減色的（破壊的）モードを以てセンサ上に衝突して
、明かるいセクタと暗いセクタとから成る光セクタ・パ
ターンを形成する。これらセクタは当業者に知られてい
るよりじフリンジ”によって境界を形成されている。こ
れらフリンジ間の距離は、前記ヘッドとディスク間の角
度を表わし、そしてヘッドの端縁の像に相対するフリン
ジの位置は、ヘラｒとディスク間の距離即ちフライング
高さを表わす。ヘッド・テスタからデータを受取るよう
にプログラムを作られたコンピュータ例えばヒユーレッ
ト・パラカードＨＰ −８５コンピユータは、探知され
たフリンジパターン距離を使用して、認められたフライ
ング高さ及びヘッド角度を計算し得る。光学干渉技術を
用いるフライング高さテスタに関する−そう、の細部に
ついては、磁性物質に関するＩ ＥＥＥ会報ＭＡＧ −
９巻第４号６７３ページ〜６７７ページ（１９７３年１
０月発行）掲載Ｃ。
のディスクにおいて単色光を導く調整自在のモノクロメ
ータのごとき単色光源を有する。前記ガラス・ディスク
は磁気ディスクの回転を模擬する速度で回転され、そし
て試験されるヘッド／アーム組立体が前記回転するガラ
ス・ディスクに対してフライング可能にホルダまたはク
ランプに位置される。単色光は前記ディスクの表面に対
し規定角度で該ディスクに導かれる。光はフライングヘ
ッドに最も近いディスク表面から、そしてフライングヘ
ッド自体から反射されて、センナ、例えばテレビカメラ
またはその他の感光センナ、上に衝突する。前記ヘッド
がそのフライング位置に在るとき、ディスク及びヘッド
から反射される単色光は、加色的（建設的干渉）モーｒ
及び減色的（破壊的）モードを以てセンサ上に衝突して
、明かるいセクタと暗いセクタとから成る光セクタ・パ
ターンを形成する。これらセクタは当業者に知られてい
るよりじフリンジ”によって境界を形成されている。こ
れらフリンジ間の距離は、前記ヘッドとディスク間の角
度を表わし、そしてヘッドの端縁の像に相対するフリン
ジの位置は、ヘラｒとディスク間の距離即ちフライング
高さを表わす。ヘッド・テスタからデータを受取るよう
にプログラムを作られたコンピュータ例えばヒユーレッ
ト・パラカードＨＰ −８５コンピユータは、探知され
たフリンジパターン距離を使用して、認められたフライ
ング高さ及びヘッド角度を計算し得る。光学干渉技術を
用いるフライング高さテスタに関する−そう、の細部に
ついては、磁性物質に関するＩ ＥＥＥ会報ＭＡＧ −
９巻第４号６７３ページ〜６７７ページ（１９７３年１
０月発行）掲載Ｃ。
リン論文「エヤ・ベアリング分離の測定技術に就ての一
考察」を参照されたい。
考察」を参照されたい。
従来においては、フライング高さテスタの校正は、その
特性が既知である標準ヘッドを使用することＫよって達
成された。しかし、標準ヘッドのアームフライング特性
、ジンパルばね特性などは、反復使用及び酷使のあとは
変化する。さらに、はこシ、表皮油及びその他の異物は
標準ヘッドのフライング特性及び／または反射面に変化
を生じさせ、したがって、標準ヘッドの校正を変化させ
る。
特性が既知である標準ヘッドを使用することＫよって達
成された。しかし、標準ヘッドのアームフライング特性
、ジンパルばね特性などは、反復使用及び酷使のあとは
変化する。さらに、はこシ、表皮油及びその他の異物は
標準ヘッドのフライング特性及び／または反射面に変化
を生じさせ、したがって、標準ヘッドの校正を変化させ
る。
該ヘッドのフライングの向き（オリエンテーション）は
、磁気ディスクの速度、半径及び重積高さＫよって部分
的に影響されるから、ヘッドの実際゛の現場状態は毎回
完全に同じではあり得す、したがって、ヘッドは特定の
許容範囲内の特性を有するにすぎないことを許されるこ
とが必要であった。
、磁気ディスクの速度、半径及び重積高さＫよって部分
的に影響されるから、ヘッドの実際゛の現場状態は毎回
完全に同じではあり得す、したがって、ヘッドは特定の
許容範囲内の特性を有するにすぎないことを許されるこ
とが必要であった。
量産ヘッドの校正は、４！定標準ユニツトにょるテスタ
の校正に依存して達成され得るＫすぎなかった。該標準
ユニットは絶対条件において校正を施され得、異なる機
械におけるヘッドを一つの相対精度を以て較正すること
は不可能であった。
の校正に依存して達成され得るＫすぎなかった。該標準
ユニットは絶対条件において校正を施され得、異なる機
械におけるヘッドを一つの相対精度を以て較正すること
は不可能であった。
ハ０発明が解決しようとする間電点
本発明の目的は、フライング高さテスタのための改良さ
れた校正標準手段を提供することである。
れた校正標準手段を提供することである。
本発明の他の目的は、複数個のフライング高さテスタが
たがいく関連して標準化され得るように該フライング高
さテスタのための校正技術を改善することである。
たがいく関連して標準化され得るように該フライング高
さテスタのための校正技術を改善することである。
イング高さテスタのための改良された校正標準手段を提
供することである。
供することである。
二０問題点を解決するための手段
本発明の一特徴は、量産ヘッド自体が絶対条件において
測定され得るように絶対条件において校正される基準榎
准ユニットが設けらｎることである。
測定され得るように絶対条件において校正される基準榎
准ユニットが設けらｎることである。
本発明のもう一つの特徴は、フライング高さテスタのた
めの基準標準ユニットであって、ディスクの速度、傾斜
または汚染によって影響されず且つ試験手順または装置
に大きな修正を加えることなしに容易に使用され得るも
のを提供することにある。特Ｋ、校正間にテスタのガラ
ス・ディスクを移転する必要が無い。
めの基準標準ユニットであって、ディスクの速度、傾斜
または汚染によって影響されず且つ試験手順または装置
に大きな修正を加えることなしに容易に使用され得るも
のを提供することにある。特Ｋ、校正間にテスタのガラ
ス・ディスクを移転する必要が無い。
本発明の以上の及びその他の特色は、以下述べる詳細な
説明及び添付図面から−そう充分く理解されるであろう
。
説明及び添付図面から−そう充分く理解されるであろう
。
ホ、実施例
添付図面のうち特に第１図を参照すると、フライング高
さテスタの量産ヘッドのフライング高さ特性の試験及び
従来の技術に依るフライング高さテスタの校正に用いら
れるフライング高さテスタのヘッド及びディスクが図示
されている。第１図に示されるごとく、透明なディスク
例えばガラス製のディスク１０は、その軸線（図示され
ていない）を中心として回転され、それによシ、殊気ヘ
ツｒ１２は、ディスク１０の回転によって生じる矢印１
１の方向に流れる空気によってディスク１０の表面１４
から短距離浮上する即ち”フライ”する。調整自在のモ
ノクロメータ（図示せず）の如き給源からの単色光がデ
ィスク１０を透る通路に沿って導かれて、ディスク１０
の表面１４とヘッド１２の表面１６から反射してセンサ
（図示されず）上に反射される。明細に述べれば、前記
単色光は表面１８に対し入射角θを以て通路２０ａに沿
ってディスク１ｏＦＣ衝突し、ディスク１００表面１８
からディスク１０を通路２０ｔ）に沿って透シ、表面１
４において分割され、一部は表面１４から反射されると
ともに通路２Ｑａに沿ってディスク１０を透シ、通路２
０ｄに沿ってセンナ（図示せず）に達する。分割された
他方の光は通路２０ｅを通ってヘッド１２の表面１６か
ら反射して通路２０ｆを通シ、次いでディスク１０の表
面１４に到）、通路２０ｇに沿ってディスク１０を透〕
、さらに通路２０ｈを通って前記センサに達する。空気
とディスクとの間の界面における僅少の角偏向がスネル
効果によって生じる。通路２０ａと２０ｄは、表面１８
及び１４の平面に対する垂直線から角度θを成す方向に
向かされていることと、通路２０ｈは通路２０ｄＫ対し
て平行すること々く（角度αがフライング・ヘッド１２
の定向（オリエンテーション）角度であるとき）垂直線
に対して角度（θ＋２α）を成すことが注目さるべきで
ある。
さテスタの量産ヘッドのフライング高さ特性の試験及び
従来の技術に依るフライング高さテスタの校正に用いら
れるフライング高さテスタのヘッド及びディスクが図示
されている。第１図に示されるごとく、透明なディスク
例えばガラス製のディスク１０は、その軸線（図示され
ていない）を中心として回転され、それによシ、殊気ヘ
ツｒ１２は、ディスク１０の回転によって生じる矢印１
１の方向に流れる空気によってディスク１０の表面１４
から短距離浮上する即ち”フライ”する。調整自在のモ
ノクロメータ（図示せず）の如き給源からの単色光がデ
ィスク１０を透る通路に沿って導かれて、ディスク１０
の表面１４とヘッド１２の表面１６から反射してセンサ
（図示されず）上に反射される。明細に述べれば、前記
単色光は表面１８に対し入射角θを以て通路２０ａに沿
ってディスク１ｏＦＣ衝突し、ディスク１００表面１８
からディスク１０を通路２０ｔ）に沿って透シ、表面１
４において分割され、一部は表面１４から反射されると
ともに通路２Ｑａに沿ってディスク１０を透シ、通路２
０ｄに沿ってセンナ（図示せず）に達する。分割された
他方の光は通路２０ｅを通ってヘッド１２の表面１６か
ら反射して通路２０ｆを通シ、次いでディスク１０の表
面１４に到）、通路２０ｇに沿ってディスク１０を透〕
、さらに通路２０ｈを通って前記センサに達する。空気
とディスクとの間の界面における僅少の角偏向がスネル
効果によって生じる。通路２０ａと２０ｄは、表面１８
及び１４の平面に対する垂直線から角度θを成す方向に
向かされていることと、通路２０ｈは通路２０ｄＫ対し
て平行すること々く（角度αがフライング・ヘッド１２
の定向（オリエンテーション）角度であるとき）垂直線
に対して角度（θ＋２α）を成すことが注目さるべきで
ある。
前記通路２０ａはフライング高さテスタにおいて使用さ
れるきわめて多数の平行した光通路のうちの１本だけを
示している。従って、セ／すはきわめて多数の通路２０
ａのおのおのの通路２０ｄ及び２０ｂからの光を受ける
ことになる。その結果として、受けられた光は、該セン
ナ上の任意の特定位置において、１本の光線からの通路
２０ｄを経由する光と、他の１本の光線からの通路２０
ｈを経由する光とを含む。従って、通路２０ｄ及び２０
ｈからの光は（フライング高さ、距離及び角・度によっ
て生じる）各通路長さの相違にもとづいて加色されまた
は減色され、それによって、明かるいまたは暗い光のセ
グメントが前記センサに現われる。従って、該センナは
単色光の色彩を以て光学波頭、また社フリンジ（明暗縞
模様）、を構成する反射パターンを観測し、前記波頭は
暗い及び明かるい反射された先部分の概ね同等のセグメ
ントを分離する。表面２２から２４までの全磁気ヘッド
を横切って延在する反射光パターンは前記セ／すによっ
て観測されるであろう。フリンジ間の距離は、磁気ヘッ
ド１２の定向（オリエンテーション）角度αを表わし、
そして表面２２及び２４によって生ぜしめられるヘッド
の像の端縁に相対するフリンジ・パターンの位置は、デ
ィスク１０の表面１４に対するヘッド１２の距離ｄを表
わす。従って、前記パターンとヘッド１２の認められた
端縁との間の距離を測定することＫよって、そして前記
フリンジ間の距離を測定することによυ、前記定向角度
α及びフライング高さｄが、単色光の入射角θ及び波長
が既知であると仮定するとき、計算され得る。
れるきわめて多数の平行した光通路のうちの１本だけを
示している。従って、セ／すはきわめて多数の通路２０
ａのおのおのの通路２０ｄ及び２０ｂからの光を受ける
ことになる。その結果として、受けられた光は、該セン
ナ上の任意の特定位置において、１本の光線からの通路
２０ｄを経由する光と、他の１本の光線からの通路２０
ｈを経由する光とを含む。従って、通路２０ｄ及び２０
ｈからの光は（フライング高さ、距離及び角・度によっ
て生じる）各通路長さの相違にもとづいて加色されまた
は減色され、それによって、明かるいまたは暗い光のセ
グメントが前記センサに現われる。従って、該センナは
単色光の色彩を以て光学波頭、また社フリンジ（明暗縞
模様）、を構成する反射パターンを観測し、前記波頭は
暗い及び明かるい反射された先部分の概ね同等のセグメ
ントを分離する。表面２２から２４までの全磁気ヘッド
を横切って延在する反射光パターンは前記セ／すによっ
て観測されるであろう。フリンジ間の距離は、磁気ヘッ
ド１２の定向（オリエンテーション）角度αを表わし、
そして表面２２及び２４によって生ぜしめられるヘッド
の像の端縁に相対するフリンジ・パターンの位置は、デ
ィスク１０の表面１４に対するヘッド１２の距離ｄを表
わす。従って、前記パターンとヘッド１２の認められた
端縁との間の距離を測定することＫよって、そして前記
フリンジ間の距離を測定することによυ、前記定向角度
α及びフライング高さｄが、単色光の入射角θ及び波長
が既知であると仮定するとき、計算され得る。
従来においては、フライング高さテスタは、そのフライ
ング特性が適切であると知られているヘラｒを用いるこ
とによって校正された。しかし、標準ユニットの絶対的
特性は知られてはいなかった。量産ヘッドは校正された
テスタを用いて試験されたが、量産ヘラＰは絶対条件に
おいてではなく、校正へツげによって確立された°標準
”との関係において試験されたにすぎなかった。°標準
”ヘラｒの反復使用によって該ヘッドの特性はしばしば
変化を生じ、それによってテスタの校正に変化が生じた
。さらに、異なるフライング高さテスタによって試験さ
れた量産ヘッドを、相対的に校正することは不可能であ
った。
ング特性が適切であると知られているヘラｒを用いるこ
とによって校正された。しかし、標準ユニットの絶対的
特性は知られてはいなかった。量産ヘッドは校正された
テスタを用いて試験されたが、量産ヘラＰは絶対条件に
おいてではなく、校正へツげによって確立された°標準
”との関係において試験されたにすぎなかった。°標準
”ヘラｒの反復使用によって該ヘッドの特性はしばしば
変化を生じ、それによってテスタの校正に変化が生じた
。さらに、異なるフライング高さテスタによって試験さ
れた量産ヘッドを、相対的に校正することは不可能であ
った。
本発明は、フライング高さテスタの校正を標準化するた
めの方法並びに装置に関する。第２図に示されるごとく
、標準ユニット２８は、ガラスのごとき透明な基板３０
を有し、該基板は表面３２を有し、表面３２上には反射
層３４、例えばコーティングに依るクロム薄層が部分的
に配置されている。反射層３４は表面３２上に配置され
、そしてガラス層３６が反射層３４上に配置されている
。
めの方法並びに装置に関する。第２図に示されるごとく
、標準ユニット２８は、ガラスのごとき透明な基板３０
を有し、該基板は表面３２を有し、表面３２上には反射
層３４、例えばコーティングに依るクロム薄層が部分的
に配置されている。反射層３４は表面３２上に配置され
、そしてガラス層３６が反射層３４上に配置されている
。
前記ガラス層３６は、ヘラｒの予決定されたフライング
角度を表わす表面３４１Ｃ対する角度αを成す上１面３
８を有する。ガラス層３６は、所望の標準フライング高
さに等しい表面４０の高さによって確立された厚さを有
する。例えば、表面４０の高さは、０．２５ミクロン台
であシ、それは第１図に示された所望寸法ｄに概ね等し
い。
角度を表わす表面３４１Ｃ対する角度αを成す上１面３
８を有する。ガラス層３６は、所望の標準フライング高
さに等しい表面４０の高さによって確立された厚さを有
する。例えば、表面４０の高さは、０．２５ミクロン台
であシ、それは第１図に示された所望寸法ｄに概ね等し
い。
第２図に示される標準を用いてフライング高さテスタを
校正するために、前記標準ユニット２８はテスタ内に配
置される。ディスクは、光がセンナ上のフリンジ・パタ
ーンを光学的に妨害しないようＫ、光のコヒーレンス長
さよシも大きい距離だけ標準ユニット２８から離して保
持される。校正間にディスクを移動する必要は無く、ま
たはそれを回転させる必要もない。単色光は通路４２に
沿って標準ユニット２８へ導かれる。詳細に述べれば、
光はガラス層３６の上面３８へ通路４２＆に沿って角度
θを以て入射し、該上面３８において分割されて一部分
は通路４２ｂに沿って角度θを以て反射されてセンサ（
図示されず）へ達する。
校正するために、前記標準ユニット２８はテスタ内に配
置される。ディスクは、光がセンナ上のフリンジ・パタ
ーンを光学的に妨害しないようＫ、光のコヒーレンス長
さよシも大きい距離だけ標準ユニット２８から離して保
持される。校正間にディスクを移動する必要は無く、ま
たはそれを回転させる必要もない。単色光は通路４２に
沿って標準ユニット２８へ導かれる。詳細に述べれば、
光はガラス層３６の上面３８へ通路４２＆に沿って角度
θを以て入射し、該上面３８において分割されて一部分
は通路４２ｂに沿って角度θを以て反射されてセンサ（
図示されず）へ達する。
残余の光はスネル効果によって通路４２ａに対して僅か
な角度を成す通路４２Ｃに沿って進行し、表面３４即ち
反射層３４において反射されて通路４２ｄに沿ってがラ
ス層３６を透って角度φを以て通路４２１ｍを通って前
記センサへ導かれる。反射する上面３８は第１図のディ
スクの表面１４に相当し、そして反射層３４は第１図の
ヘツケ１２の表面１６に相当する。のちにさらに詳細に
説明されるように、前記角度φは前記角度（θ＋２α）
Ｋ等しくないことに注目することが重要である。
な角度を成す通路４２Ｃに沿って進行し、表面３４即ち
反射層３４において反射されて通路４２ｄに沿ってがラ
ス層３６を透って角度φを以て通路４２１ｍを通って前
記センサへ導かれる。反射する上面３８は第１図のディ
スクの表面１４に相当し、そして反射層３４は第１図の
ヘツケ１２の表面１６に相当する。のちにさらに詳細に
説明されるように、前記角度φは前記角度（θ＋２α）
Ｋ等しくないことに注目することが重要である。
オーバーラツプする通路４２ｋ）と４２ｅＫ従って進む
反射光の加減色する性質によって、高強度の単色光のセ
グメントは１反射されて単色光の波頭または０フリンジ
１を有する暗色セグメン）Ｋよって分離される。標準ユ
ニット２８から反射される光を使用して、フライング高
さテスタが校正され得、そして、そのあとで、ヘラｒが
（第１図において示された手順で説明されたように）試
験され得る。そのように校正されるヘッドは、絶対的に
校正される。複数個のフライング高さテスタが使用され
る作業においては、別々の“標準”校正ユニットが各テ
スタに対して用いられ得る。各標準ユニットの高さ即ち
表面４０は絶対的に既知であるから、標準ユニットの相
対高さは校正されそして各量産ヘッドの絶対フライング
高さは容易に確認され得る。
反射光の加減色する性質によって、高強度の単色光のセ
グメントは１反射されて単色光の波頭または０フリンジ
１を有する暗色セグメン）Ｋよって分離される。標準ユ
ニット２８から反射される光を使用して、フライング高
さテスタが校正され得、そして、そのあとで、ヘラｒが
（第１図において示された手順で説明されたように）試
験され得る。そのように校正されるヘッドは、絶対的に
校正される。複数個のフライング高さテスタが使用され
る作業においては、別々の“標準”校正ユニットが各テ
スタに対して用いられ得る。各標準ユニットの高さ即ち
表面４０は絶対的に既知であるから、標準ユニットの相
対高さは校正されそして各量産ヘッドの絶対フライング
高さは容易に確認され得る。
第３Ａ図〜第３Ｆ図は第２図に示される標準ユニット２
８を製作する方法を図示する。がラス製の基板３０はそ
の上面にスパッタリングによって付着させたクロムから
成る反射層３４を有する。
８を製作する方法を図示する。がラス製の基板３０はそ
の上面にスパッタリングによって付着させたクロムから
成る反射層３４を有する。
該反射層３４は、次いで、第３Ｂ図に示されるヘッド面
に相当する矩形の形状になるようにエツチングによって
蝕削される。次にガラス層３６が第３ ＣｒＩＡｌｃ示
されるごとくガラスの基板３０とクロムの反射層３４と
の上に配置される。（第３Ａ図〜第３Ｃ図はユニットを
その最終傾斜配置において示しているが、反射層３４と
ガラス層３６の配設け、製作間、よシ、在来的な向きに
おいて達成される）。基板３０及びがラス層３６は、そ
のあと、磁気ヘッドのフライング角度を表わす角度αを
画成するようにそれらの上面３８をラップ仕上げされ、
次いで、下面４４が上面３８に対し概ね千行くそして反
射層３４の表面に対して望ましい角度αを成すように研
削される。そのあと、ガラス層３６はその境界を越えて
クロムの層３４が延在するように該層３４上に配置され
る第３Ｅ図に図示される形状を残すように余剰部分をエ
ツチングによって蝕除される。ガラス層３６の蝕削よっ
て。
に相当する矩形の形状になるようにエツチングによって
蝕削される。次にガラス層３６が第３ ＣｒＩＡｌｃ示
されるごとくガラスの基板３０とクロムの反射層３４と
の上に配置される。（第３Ａ図〜第３Ｃ図はユニットを
その最終傾斜配置において示しているが、反射層３４と
ガラス層３６の配設け、製作間、よシ、在来的な向きに
おいて達成される）。基板３０及びがラス層３６は、そ
のあと、磁気ヘッドのフライング角度を表わす角度αを
画成するようにそれらの上面３８をラップ仕上げされ、
次いで、下面４４が上面３８に対し概ね千行くそして反
射層３４の表面に対して望ましい角度αを成すように研
削される。そのあと、ガラス層３６はその境界を越えて
クロムの層３４が延在するように該層３４上に配置され
る第３Ｅ図に図示される形状を残すように余剰部分をエ
ツチングによって蝕除される。ガラス層３６の蝕削よっ
て。
通常、基板３０の露出部分も図示のごとく蝕削される。
ユニットを検査してその上面３８が平らであることを確
認したのち、表面４０．５０の高さが、例えば針輪郭計
を用いて測定され、そして角度αが精密に測定される。
認したのち、表面４０．５０の高さが、例えば針輪郭計
を用いて測定され、そして角度αが精密に測定される。
表面４０，５０の高さ及び角度αを反映するデータは、
例えばその目的の九めに配設されたクロム層上に、また
は基板３８の適切な位置に視認され得るデータを蝕刻す
ることＫよって記録される。そのあと、表面４０゜５０
を越えて延びる前記クロムの層３４の余剰部分がエツチ
ングによって蝕除されて第３Ｆ図に示されるごとき完成
された装置が残される。層３６の上面３８と基板３０は
ディスクの表面１４を表わし、そして表面４０はフライ
ング・ヘッド標準ユニットの絶対高さを表わす。表面４
０の高さは絶対条件において測定され、したがって量産
ヘラｒは標準ユニツ）［よって絶対条件において校正さ
れ得る。
例えばその目的の九めに配設されたクロム層上に、また
は基板３８の適切な位置に視認され得るデータを蝕刻す
ることＫよって記録される。そのあと、表面４０゜５０
を越えて延びる前記クロムの層３４の余剰部分がエツチ
ングによって蝕除されて第３Ｆ図に示されるごとき完成
された装置が残される。層３６の上面３８と基板３０は
ディスクの表面１４を表わし、そして表面４０はフライ
ング・ヘッド標準ユニットの絶対高さを表わす。表面４
０の高さは絶対条件において測定され、したがって量産
ヘラｒは標準ユニツ）［よって絶対条件において校正さ
れ得る。
第１図を参照すると、通路２０ｈＫ沿って反射される光
は、通路２０ｄに沿って反射される光に相対して１８０
°位相を異にすることが示される。
は、通路２０ｄに沿って反射される光に相対して１８０
°位相を異にすることが示される。
さらＫ、スネルの法則の効果は自己相殺的であシ、その
結果として、通路２０ｅは通路２０ａＫ平行し、通路２
０ｈの角度は、入射角にヘッド定向（オリエンテーショ
ン）角度の２倍を加えた角度（θ＋２α）Ｋ等しいこと
が示される。したがって、フライング高さテスタを用い
て量産ヘッドを試験する場合も、先行技術に基づいて該
テスタを校正する場合も、同じアルがリズムが用いられ
て、１８０°の位相シフトを説明し、スネル効果はその
自己相殺性の故に無視された。しかし、校正標準手段と
して標準ユニット２８を用いるときは、アルプリズムは
少なくとも３つの局面において変更されなくてはならな
い：第１ｋ、第１図の諸条件とは異なって、通路４２ｃ
Ｋ沿って反射される光は、通路４２ａｉＣ沿って反射さ
れる光に対し同相である。第２Ｋ、スネル効果は通路４
２ａの角度φの向き（オリエンテーション）に作用を及
ぼす。特ｋ、角度φは界面媒質の相違によって生じるス
ネル角度の変化に依って、第１図におけるごとき角度（
θ＋２α）と同等でない。第３に、ガラスの屈折率は空
気よシ大きいことが考慮に入れられなくてはならない。
結果として、通路２０ｅは通路２０ａＫ平行し、通路２
０ｈの角度は、入射角にヘッド定向（オリエンテーショ
ン）角度の２倍を加えた角度（θ＋２α）Ｋ等しいこと
が示される。したがって、フライング高さテスタを用い
て量産ヘッドを試験する場合も、先行技術に基づいて該
テスタを校正する場合も、同じアルがリズムが用いられ
て、１８０°の位相シフトを説明し、スネル効果はその
自己相殺性の故に無視された。しかし、校正標準手段と
して標準ユニット２８を用いるときは、アルプリズムは
少なくとも３つの局面において変更されなくてはならな
い：第１ｋ、第１図の諸条件とは異なって、通路４２ｃ
Ｋ沿って反射される光は、通路４２ａｉＣ沿って反射さ
れる光に対し同相である。第２Ｋ、スネル効果は通路４
２ａの角度φの向き（オリエンテーション）に作用を及
ぼす。特ｋ、角度φは界面媒質の相違によって生じるス
ネル角度の変化に依って、第１図におけるごとき角度（
θ＋２α）と同等でない。第３に、ガラスの屈折率は空
気よシ大きいことが考慮に入れられなくてはならない。
した−かって１本発明に依る基準ユニット２８を用いる
ときは、フライング高さテスタを校正するためのアルプ
リズムは、スネル角度の作用、屈折率及び通路４２ｂ及
び４２ａの位相関係に対して補償されなくてはならない
。
ときは、フライング高さテスタを校正するためのアルプ
リズムは、スネル角度の作用、屈折率及び通路４２ｂ及
び４２ａの位相関係に対して補償されなくてはならない
。
へ１発明の効果
以上のごとく、本発明に依れば、従来の標準ユニットよ
シも信頼され得るフライングヘッド・テスタ校正用の基
準標準ユニットであって、使用に際して頑丈であシ且つ
絶対条件において精密な校正を提供するものが得られる
。本ユニットは校正手順にほとんど変更を施すことなし
に容易に使用され、テスタの絶対校正の之めの効果的な
標準ユニットを提供する。
シも信頼され得るフライングヘッド・テスタ校正用の基
準標準ユニットであって、使用に際して頑丈であシ且つ
絶対条件において精密な校正を提供するものが得られる
。本ユニットは校正手順にほとんど変更を施すことなし
に容易に使用され、テスタの絶対校正の之めの効果的な
標準ユニットを提供する。
本発明は、図示されまたは説明された実施例によって限
定されるものではなく、該実施例は一例として開示され
たものでｓｂ、決して制限を意図せず、単に前掲特許請
求の範囲に従ったものである。
定されるものではなく、該実施例は一例として開示され
たものでｓｂ、決して制限を意図せず、単に前掲特許請
求の範囲に従ったものである。
第１図は磁気ヘッドのフライング高さ特性を測定するた
めの標準フライング高さテスタの破断概略横断面図：第
２図はフライング高さテスタを校正する九めの基準標準
ユニットの破断概略横断面図；第３Ａ図から第３Ｆ図は
第２図に示された標準ユニットを製造する方法を示した
図面である。 図面上、１０は「ディスク」：１２は「磁気ヘッド」：
２８は「標準ユニット」；３ｏは「基板」：３２は「表
面」：３４は「反射層」 ：３６は「ガラス層」 ：３
８は「上面」 ：４０は「表面」を示す。
めの標準フライング高さテスタの破断概略横断面図：第
２図はフライング高さテスタを校正する九めの基準標準
ユニットの破断概略横断面図；第３Ａ図から第３Ｆ図は
第２図に示された標準ユニットを製造する方法を示した
図面である。 図面上、１０は「ディスク」：１２は「磁気ヘッド」：
２８は「標準ユニット」；３ｏは「基板」：３２は「表
面」：３４は「反射層」 ：３６は「ガラス層」 ：３
８は「上面」 ：４０は「表面」を示す。
Claims (3)
- （１）磁気ヘツドの予決定されたフライング特性を模擬
することによつてフライング高さテスタを校正するため
の校正標準装置にして：基板と；該基板の表面によつて
支持された反射層と；該反射層上に配置された透明層で
あつて、デイスク上方の磁気ヘツドの予決定されたフラ
イング角度を表わす鋭角を前記反射層に対して成すよう
に位置された上面を有するものと；前記上面に対し垂直
に測定されたときデイスク上方の磁気ヘツドの予決定さ
れたフライング高さを表わす前記反射層からの定距離を
以て前記上面上に前記透明層によつて担持される光学基
準手段とを含む前記校正標準装置。 - （２）特許請求の範囲第１項記載の校正標準装置におい
て；前記透明層が前記上面に直角の側面を有し、そして
前記光学基準手段が上記側面及び前記上面と交差する端
縁を有する前記校正標準装置。 - （３）基板の滑らかな表面上に反射材料層を配置する段
階と；前記反射層上に透明材料層を配置する段階と；か
くして形成された重積体の実質的に平行の反対両面を、
予決定されたフライング角度を表わす予決定角度が前記
反射層に対して形成されるように研削する段階と；透明
層の最小の厚さによつて予決定フライング高さが画成さ
れるように前記透明層の被研削面に対し直角に前記透明
層をエツチングによつて蝕除する段階とを含む、フライ
ング高さテスタを校正するための校正標準装置を製造す
る方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US06/718,311 US4624564A (en) | 1985-04-01 | 1985-04-01 | Calibration standards for flying height testers |
| US718311 | 2000-11-22 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61227277A true JPS61227277A (ja) | 1986-10-09 |
Family
ID=24885630
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60218190A Pending JPS61227277A (ja) | 1985-04-01 | 1985-10-02 | 校正標準装置及びその製造方法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4624564A (ja) |
| EP (1) | EP0196384A3 (ja) |
| JP (1) | JPS61227277A (ja) |
| AU (1) | AU571999B2 (ja) |
| CA (1) | CA1245051A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63179314A (ja) * | 1987-01-20 | 1988-07-23 | Asahi Optical Co Ltd | ポリゴンミラ−の反射面の倒れ誤差測定方法 |
Families Citing this family (22)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4824245A (en) * | 1987-04-02 | 1989-04-25 | Santa Barbara Research Center | Response ratioing angle of arrival sensor that is responsive to scintillation |
| JPH0693475B2 (ja) * | 1990-02-23 | 1994-11-16 | 株式会社東芝 | 自己検診機能を備えた半導体ハンドリング装置及び半導体ハンドリング装置の自己検診方法 |
| US5168413A (en) * | 1990-11-30 | 1992-12-01 | Ibm Corporation | Transducer head flying height monitoring methods and apparatus for disk drive system |
| US5220408A (en) * | 1991-12-10 | 1993-06-15 | Guzik Technical Enterprises, Inc. | Method and apparatus for calibration of optical flying-height testers |
| US5424881A (en) | 1993-02-01 | 1995-06-13 | Cirrus Logic, Inc. | Synchronous read channel |
| US5567864A (en) * | 1993-02-04 | 1996-10-22 | Sunward Technologies, Inc. | Method and apparatus for calibration of a transducer flying height measurement instrument |
| US5410402A (en) * | 1994-01-24 | 1995-04-25 | Seagate Technology, Inc. | Calibration standard for flying height tester having a wedge slider and a transparent disc held together |
| US5552884A (en) * | 1994-12-16 | 1996-09-03 | Seagate Technology, Inc. | Calibration standard for flying height tester having a head mounted on a multilevel surface transparent disc |
| US5677805A (en) * | 1995-06-07 | 1997-10-14 | Guzik Technical Enterprises | Apparatus for determining the dynamic position and orientation of a transducing head relative to a storage medium |
| US5808736A (en) * | 1996-09-24 | 1998-09-15 | Phase Metrics, Inc. | Thin film flying height calibration disk for calibrating flying height testers |
| US5789756A (en) * | 1996-10-24 | 1998-08-04 | Guzik Technical Enterprises | Apparatus for measuring the flying height and orientation of a magnetic head relative to transparent medium based on frustrated total internal reflection |
| US5932887A (en) * | 1996-10-24 | 1999-08-03 | Guzik Technical Enterprises | Apparatus for measuring the flying height and orientation of a magnetic head relative to a transparent medium based on frustrated total internal reflection |
| US5767964A (en) * | 1997-03-07 | 1998-06-16 | Phase Metrics | Slider for calibration and correlation of flying height testers |
| US6142006A (en) * | 1997-07-25 | 2000-11-07 | Seagate Technology Llc | Method and apparatus for calibrating a glide head and detection system for a magnetic disk drive |
| US6112582A (en) * | 1998-04-16 | 2000-09-05 | Seagate Technology, Inc. | Glide head apparatus for testing recording media |
| US6105421A (en) * | 1998-04-16 | 2000-08-22 | Seagate Technology, Inc. | Glide height testing using a glide head apparatus with a piezoelectric actuator |
| US20030172520A1 (en) * | 2001-11-13 | 2003-09-18 | Hain-Ling Liu | Adjusting the flying characteristics of heads in disk drives |
| US6804010B1 (en) | 2002-01-14 | 2004-10-12 | Seagate Technology Llc | Optical coating thickness optimization for fly height test media |
| CN1327412C (zh) * | 2002-11-04 | 2007-07-18 | 新科实业有限公司 | 硬磁盘驱动器磁头浮动高度测试仪的校准系统和方法 |
| CN100338432C (zh) | 2003-01-20 | 2007-09-19 | 新科实业有限公司 | 校准硬盘驱动器磁头飞行高度测试仪的系统和方法 |
| US20060256345A1 (en) * | 2005-05-12 | 2006-11-16 | Kla-Tencor Technologies Corp. | Interferometry measurement in disturbed environments |
| US9343084B2 (en) * | 2012-03-14 | 2016-05-17 | Western Digital Technologies, Inc. | Systems and methods for correcting slider parallelism error using compensation lapping |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3678219A (en) * | 1970-09-25 | 1972-07-18 | Willard Lab Inc | Flying magnetic head testing apparatus |
| US3695767A (en) * | 1970-11-18 | 1972-10-03 | Burroughs Corp | Apparatus for measuring magnetic head angle of a magnetic disc file |
| US4346996A (en) * | 1980-10-23 | 1982-08-31 | General Motors Corporation | Standard reflective device |
| JPS5952705A (ja) * | 1982-09-20 | 1984-03-27 | Fujitsu Ltd | 微少間隔測定方法 |
-
1985
- 1985-04-01 US US06/718,311 patent/US4624564A/en not_active Expired - Lifetime
- 1985-09-16 EP EP85306552A patent/EP0196384A3/en not_active Withdrawn
- 1985-09-30 AU AU47999/85A patent/AU571999B2/en not_active Ceased
- 1985-10-01 CA CA000492008A patent/CA1245051A/en not_active Expired
- 1985-10-02 JP JP60218190A patent/JPS61227277A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63179314A (ja) * | 1987-01-20 | 1988-07-23 | Asahi Optical Co Ltd | ポリゴンミラ−の反射面の倒れ誤差測定方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CA1245051A (en) | 1988-11-22 |
| AU4799985A (en) | 1986-10-09 |
| EP0196384A3 (en) | 1988-07-20 |
| AU571999B2 (en) | 1988-04-28 |
| EP0196384A2 (en) | 1986-10-08 |
| US4624564A (en) | 1986-11-25 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS61227277A (ja) | 校正標準装置及びその製造方法 | |
| US5777740A (en) | Combined interferometer/polarimeter | |
| US5410402A (en) | Calibration standard for flying height tester having a wedge slider and a transparent disc held together | |
| JPH09236414A (ja) | 回転ディスクにおける複屈折を測定し補償する方法及び装置 | |
| US5557399A (en) | Optical gap measuring apparatus and method | |
| US4866553A (en) | Magnetic disk apparatus having a structure suitable for measuring a minute flying weight | |
| US6618218B1 (en) | Displacement detecting apparatus and information recording apparatus | |
| JPH08271230A (ja) | 光学的隙間測定方法および装置 | |
| JPS61258104A (ja) | 試料表面の物理的特性を検査するためのエリプソメトリ装置 | |
| US5600441A (en) | Interferometer and method for measuring the distance of an object surface with respect to the surface of a rotating disk | |
| JPS62105026A (ja) | 波面品質の検査装置と検査法 | |
| US5552884A (en) | Calibration standard for flying height tester having a head mounted on a multilevel surface transparent disc | |
| JP2010025876A (ja) | 微小距離測定方法および微小距離測定装置 | |
| US5932887A (en) | Apparatus for measuring the flying height and orientation of a magnetic head relative to a transparent medium based on frustrated total internal reflection | |
| US7057719B2 (en) | System and method for hard disc drive magnetic head flying height tester calibration | |
| US5710632A (en) | Methodology for the determination of the minimum and gap flying height of a thin-film slider | |
| US5831733A (en) | Apparatus and methods for measuring gaps while compensating for birefringence effects in the measurement path | |
| US6369900B1 (en) | Glide head with features on its air bearing surface for improved fly height measurement | |
| US5789756A (en) | Apparatus for measuring the flying height and orientation of a magnetic head relative to transparent medium based on frustrated total internal reflection | |
| US5294805A (en) | Method and apparatus for analyzing tracking error in magnetic tapes | |
| US5365333A (en) | Apparatus for analyzing tracking error in magnetic tapes | |
| US6184992B1 (en) | Apparatus and method for measuring flying height and a real index of refraction | |
| US5808736A (en) | Thin film flying height calibration disk for calibrating flying height testers | |
| US6704103B2 (en) | Coatings for sensitivity enhancement of signal from glass disks | |
| JPS61277006A (ja) | 記録用デイスク検査装置 |