JPS61226990A - Substrate for electric circuit - Google Patents

Substrate for electric circuit

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JPS61226990A
JPS61226990A JP6698685A JP6698685A JPS61226990A JP S61226990 A JPS61226990 A JP S61226990A JP 6698685 A JP6698685 A JP 6698685A JP 6698685 A JP6698685 A JP 6698685A JP S61226990 A JPS61226990 A JP S61226990A
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electric circuit
circuit
integrated circuit
bonding
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 イ、産業上の利用分野 本発明は電気回路用基体に関する。[Detailed description of the invention] B. Industrial application fields The present invention relates to a substrate for an electric circuit.

口9発明の背景 感熱記録ヘッド、ハイブリッド集積回路、ラインセンサ
の受光素子や発光素子等の集積回路装置は、基体上に少
なくとも一つの電気回路素子が配されてなる集積回路(
回路素子が複数)からなっている。基体の多くは、アル
ミナ等のセラミックスからなっており、そのほかにガラ
スエポキシ等からなるものもあり、板状を呈している。
Background of the Invention Integrated circuit devices such as thermal recording heads, hybrid integrated circuits, and light receiving elements and light emitting elements of line sensors are integrated circuit devices in which at least one electric circuit element is arranged on a substrate.
It consists of multiple circuit elements. Most of the substrates are made of ceramics such as alumina, and others are made of glass epoxy, etc., and have a plate shape.

一般に、これら集積回路は、基体(基板)素材上に電気
回路素子を配置してから所定の箇所で切断して作成され
、集積回路装置は共通基板上に各種集積回路が配置され
てなっている。
Generally, these integrated circuits are created by arranging electrical circuit elements on a base (substrate) material and then cutting it at predetermined locations, and integrated circuit devices are made up of various integrated circuits arranged on a common substrate. .

各集積回路上の電気回路の端子は、一般にポンディング
パツドによって形成され、集積回路間の配線は、ポンデ
ィングパッド間をワイヤボンディングしてなされる。ポ
ンディングパツドは例えばハイブリッド集積回路にあっ
ては80μm角程度0小さな正方形をなしているので、
配線を確実にするためには、各集積回路を共通基板上に
極めて高い精度を以って位置決め、配置する必要がある
Terminals of electrical circuits on each integrated circuit are generally formed by bonding pads, and wiring between integrated circuits is made by wire bonding between the bonding pads. For example, in a hybrid integrated circuit, the bonding pad is a small square of about 80 μm square, so
To ensure reliable wiring, each integrated circuit must be positioned and placed on a common substrate with extremely high precision.

基板素材(未切断の基板)を切断する方法としては、従
来から、炭酸ガスレーザーによるフルカット法;炭酸ガ
スレーザーによってミシン目状に小孔を穿設してスナッ
プラインを形成し、このスナップラインに沿って折割り
する方法;ダイシングソー(樹脂をバインダとするグイ
ヤンモンド粒子からなる薄い円板状工具)でフルカット
する方法;基板素材製造時に金型を使用して格子状に溝
を設け(格子状に溝を設けた板状チョコレートに似てい
ることから、チョコフレと呼ばれる。)、この溝に沿っ
て折割りする方法が採られている。
The conventional method for cutting substrate materials (uncut substrates) is the full cut method using a carbon dioxide laser; small holes are perforated using a carbon dioxide laser to form snap lines; A method of making a full cut with a dicing saw (a thin disc-shaped tool made of Guyanmond particles with resin as a binder); A method of creating grooves in a lattice pattern using a mold when manufacturing the substrate material ( It is called chocofret because it resembles a plate of chocolate with grooves in the shape.), and the method used is to break it along the grooves.

ところが、これらの方法は次のような問題点を有してい
る。
However, these methods have the following problems.

レーザーによるフルカットでは、切断時に飛散した基板
材料の一部が切断箇所に付着して基板表面の微細加工の
障害となる。
In full cutting using a laser, some of the substrate material scattered during cutting adheres to the cut location and becomes an obstacle to microfabrication of the substrate surface.

レーザーによるスナップラインを基板素材の表面に設け
る方法も上記と同様である。
The method of providing a snap line using a laser on the surface of the substrate material is also the same as above.

レーザーによるスナップラインを基板素材の裏面に設け
て折割りすれば、上記付着物の除去は容易であるが、折
割りによって形成される端面が貝殻状になったり、パリ
が発生したりして、前述したチップ素材の位置決めを不
正確にするばかりでなく、集積回路装置の使用上、例え
ば感熱記録ヘッドにあっては、インクリボンを引掻いて
不必要な線が記録されてしまう等の不都合が生ずる。
If a laser snap line is provided on the back side of the substrate material and the material is broken, it is easy to remove the above-mentioned deposits, but the end surface formed by the breaking may become shell-like or have cracks. This not only makes the positioning of the chip material inaccurate as described above, but also causes inconveniences in the use of integrated circuit devices, such as scratching the ink ribbon and recording unnecessary lines in thermal recording heads, for example. arise.

ダイシングソーでフルカットする方法では、基板材料が
高硬度であるため、ソーのプレート”が摩耗したり、ブ
レードが持上って未切断の部分が残ることがある。
When making full cuts with a dicing saw, the substrate material is highly hard, so the saw's plate may wear out or the blade may lift, leaving uncut portions.

チョコフレを設けた基板素材を使用すると、素材表面に
フォトレジストをスピンコードやロールコートによって
塗布するに際して、溝のためにフォトレジストを均一な
厚さで塗布することができず、各回路素子の形成の障害
となる。
When using a substrate material with chocolate flakes, when applying photoresist to the surface of the material by spin cord or roll coating, the grooves make it impossible to apply the photoresist to a uniform thickness, making it difficult to form each circuit element. becomes an obstacle.

ハ0発明の目的 本発明は、上記の事情に鑑みてなされたものであって、
折割り部に上記のような欠陥のない電気回路用基体を提
供することを目的としている。
Purpose of the Invention The present invention has been made in view of the above circumstances, and includes:
The object of the present invention is to provide an electric circuit substrate free of the above-mentioned defects at the folded portions.

二9発明の構成 即ち、本発明は、連続した凹部を一方の主面に有し、前
記連続した凹部に対向した凹部を他方の主面に有し、前
記凹部によって区画された複数の領域に少なくとも一つ
の回路素子が配置される電気回路用基体に係る。
29 Structure of the invention, that is, the present invention has a continuous recess on one main surface, a recess opposite to the continuous recess on the other main surface, and a plurality of regions partitioned by the recess. The present invention relates to an electric circuit substrate on which at least one circuit element is arranged.

ホ、実施例 始めに、本発明の好適な態様について説明する。E, Example First, preferred embodiments of the present invention will be explained.

なお、本明細書で「回路素子」とは、電気回路部を構成
する少なくとも一単位の要素を指す。
Note that in this specification, the term "circuit element" refers to at least one unit of element constituting an electric circuit section.

第1図は電気回路用基体を示し、同図(a)は平面図、
同図(b)は底面図である。
Fig. 1 shows an electric circuit substrate, and Fig. 1 (a) is a plan view;
Figure (b) is a bottom view.

セラミックス基板1の表面には、連続した凹部(この例
ではV溝)3が互いに直角方向に多数段けられ、V溝3
によって区画される各領域には図示省略した回路素子(
例えば、後述する感熱記録ヘッドの発熱体層、共通電極
、信号電極、ポンディングパッド又はこれらの組合せ)
が配置されている。これら回路素子によって構成される
電気回路部は、上記各領域毎に、同一のものでも、異な
るものでも良い。また、裏面には、■溝3に対向する位
置に小径の孔2が多数穿設されている。
On the surface of the ceramic substrate 1, a large number of continuous recesses (V-grooves in this example) 3 are arranged in a direction perpendicular to each other.
Each area defined by is equipped with a circuit element (not shown) (
For example, a heating layer of a thermal recording head, a common electrode, a signal electrode, a bonding pad, or a combination thereof)
is located. The electric circuit portion constituted by these circuit elements may be the same or different for each region. Further, on the back surface, a large number of small diameter holes 2 are bored at positions opposite to the grooves 3.

電気回路用基体の製造手順は次の通りである。The manufacturing procedure of the electric circuit substrate is as follows.

第2図(a)及び第2図(a)のnb  nb線に沿う
矢視断面図である第2図(b)に示すように、純度90
〜99.9%のアルミナからなる厚さ0.5〜2mmの
セラミックス基板素材1の裏面に、直径50〜200μ
m、深さ100 p m 〜l mmの孔2を100〜
500μmのピッチで、炭酸ガスレーザーによって穿設
し、スクライブラインを複数ライン形成した。図には1
ラインのみを示す。炭酸ガスレーザーによって穿設され
た孔2は、円錐形を呈している。なお、炭酸ガスレーザ
ーによって、孔2に接して僅か乍ら前記の付着物が存在
するが、これは微量であり、裏面側であるので、容易に
除去できる。
As shown in FIG. 2(a) and FIG. 2(b), which is a sectional view taken along the nb nb line in FIG. 2(a), the purity is 90%.
A ceramic substrate material 1 with a diameter of 50 to 200 μm is placed on the back side of a ceramic substrate material 1 made of ~99.9% alumina with a thickness of 0.5 to 2 mm.
m, depth 100 p m ~ l mm hole 2 100 ~
A plurality of scribe lines were formed by drilling with a carbon dioxide laser at a pitch of 500 μm. The figure shows 1
Only lines are shown. The hole 2 drilled by the carbon dioxide laser has a conical shape. Incidentally, a small amount of the above-mentioned deposit is present in contact with the hole 2 due to the carbon dioxide laser, but this is a very small amount and can be easily removed since it is on the back side.

次に基板素材1の表面に、各種ハイブリッド集積回路、
感熱記録ヘッド、ラインセンサの受光素子や発光素子等
用の回路素子(いずれも図示せず。)を形成してから、
第3図(a)及び第3図(a)のIIl、−I’11.
線に沿う矢視断面図である第3図(b)に示すように、
上記スクライブラインに沿ってV字形の刃を有するダイ
シングソーによって表面上の幅40μm〜2mm(好ま
しくは100μm以上)のva3を削設して電気回路用
基体とし、これから折割りによって第4図に示すように
分断し、によって小さくは10μm1大きい所では10
0 μmの凹凸が生ずるが、■溝3を設けることによっ
て折割り面5の凹凸は5μm以下となり、平滑である。
Next, various hybrid integrated circuits,
After forming circuit elements (none of which are shown) for the thermal recording head, the light receiving element of the line sensor, the light emitting element, etc.
FIG. 3(a) and IIl of FIG. 3(a), -I'11.
As shown in FIG. 3(b), which is a cross-sectional view taken along the line,
A VA3 with a width of 40 μm to 2 mm (preferably 100 μm or more) is cut on the surface using a dicing saw with a V-shaped blade along the above scribe line to form a base for an electric circuit, and this is then broken and cut as shown in Figure 4. The smaller part is 10 μm, and the larger part is 10 μm.
Although an unevenness of 0 μm occurs, by providing the grooves 3, the unevenness of the folded surface 5 becomes 5 μm or less and is smooth.

集積回路4にはV溝3によって面取り6が形いようにす
るには30〜906が良く、面取り6の角度θ2は、3
0〜606が良い。従って、θ1、θ2を共に良好な範
囲とするには、θ、は60〜906、θ2は45〜60
°の範囲とするのが良い。
In order for the integrated circuit 4 to have a chamfer 6 formed by the V-groove 3, the angle θ2 of the chamfer 6 is preferably 30 to 906, and the angle θ2 of the chamfer 6 is 3
0 to 606 is good. Therefore, in order to keep both θ1 and θ2 in a good range, θ is 60 to 906, and θ2 is 45 to 60.
It is best to set it in the range of °.

孔2によって形成されるスクライブラインに替えて、裏
面からも■溝を削設し、表、裏面の■溝に沿って基板素
材を折割りすることもできるが、スクライブラインを炭
酸ガスレーザー等によって上記のように形成する方が、
生産性の点で有利である。但し、表、裏面にV溝を設け
た場合は、表、裏面共折割り後に面取りが形成されるの
で、表、裏画面に回路素子を配置する場合には好都合で
ある。
Instead of the scribe line formed by hole 2, it is also possible to cut grooves from the back side and break the board material along the grooves on the front and back sides, but the scribe line can be cut using a carbon dioxide laser, etc. It is better to form it as above.
This is advantageous in terms of productivity. However, when V-grooves are provided on the front and back surfaces, chamfers are formed after both the front and back surfaces are split, which is convenient when placing circuit elements on the front and back screens.

なお、前記Vaによって面取りが形成された側の主面に
回路素子を配置するのが望ましいが、これに限られるも
のではない。
Note that, although it is desirable to arrange the circuit elements on the main surface on the side where the chamfer is formed by Va, the present invention is not limited thereto.

このような集積回路では、例えば後述するシリアル方式
の感熱記録ヘッドにあっては、端部にハリがなく、而も
面取りが施されているので、前述したようなインクリボ
ンを引掻いて不必要な線を記録する虞れがない。また、
ハイブリッド集積回路に上記の集積回路を用いると、共
通基板上で集積回路端面同士の突合せによる位置決めが
正確になされる結果、グイポンディングが確実に行え、
ワイヤポンディングの歩留向上に大きく寄与する。
In such an integrated circuit, for example, in a serial type thermal recording head described later, the edges are not firm and are chamfered, so there is no unnecessary scratching of the ink ribbon as described above. There is no risk of recording lines. Also,
When the above-mentioned integrated circuit is used in a hybrid integrated circuit, positioning is performed accurately by butting the end faces of the integrated circuit on a common substrate, and as a result, guide bonding can be performed reliably.
It greatly contributes to improving the yield of wire bonding.

特に、例えばボンディングバソトの寸法が80μm角、
ボンディングピソチ125μmという細かい配線をする
ハイブリッド集積回路に本発明を適用した場合、上記の
効果は顕著である。
In particular, for example, if the size of the bonding base is 80 μm square,
When the present invention is applied to a hybrid integrated circuit having fine wiring with a bonding pitch of 125 μm, the above effects are remarkable.

基板1上の各種回路素子は、蒸着、スパッタ及びフォト
エツチング等によって形成するが、これら回路素子形成
に先立ってスクライブラインを設けるのが良い。また、
これら回路素子形成工程にとしても良い。
Various circuit elements on the substrate 1 are formed by vapor deposition, sputtering, photoetching, etc., but it is preferable to provide scribe lines prior to forming these circuit elements. Also,
These circuit element forming steps may also be used.

次に、集積回路装置の構造を、感熱記録ヘッドを例に挙
げて説明する。以下、感熱記録ヘッドを単に「ヘッド」
と呼ぶ。
Next, the structure of the integrated circuit device will be explained using a thermal recording head as an example. Hereinafter, the thermal recording head will simply be referred to as "head".
It is called.

ヘッドは、ヘッドを記録紙の送り方向に直角の方向に移
動させながら記録するシリアル方式と、ヘッドを固定し
た状態で記録するライン方式との2方式に大別される。
Heads are broadly classified into two types: a serial method in which recording is performed while the head is moved in a direction perpendicular to the feeding direction of the recording paper, and a line method in which recording is performed with the head fixed.

先ず、シリアル方式について説明する。First, the serial method will be explained.

(d ノ シリアル方式にはヘッドが一列に配置される縦一列印字
方式と、ヘッドがマトリックス状に配置される桁逐次印
字方式の2方式があるが、発熱部の構造は両者に共通し
ているので、ここでは縦一列印字方式について説明する
(d) There are two types of serial printing methods: a vertical single-line printing method in which the heads are arranged in a row, and a digit-sequential printing method in which the heads are arranged in a matrix, but the structure of the heat generating part is common to both. Therefore, the vertical single column printing method will be explained here.

ヘッドの配置は、第6図に示すように、ヘッド120に
は、発熱部102が記録紙(図示せず。)の送り方向X
に平行の方向に一列に通常24個配置され、ヘッド12
0は記録紙の送り方向Xに直角の方向Y方向に移動しな
がら印字するようになっている。
As shown in FIG. 6, the head 120 has a heat generating section 102 arranged in the feeding direction
Usually 24 pieces are arranged in a row in a direction parallel to the head 12.
0 is printed while moving in the Y direction perpendicular to the feeding direction X of the recording paper.

第7図に示すように、絶縁基体(例えばアルミナ等のセ
ラミックス基板)1o3上に直線状に設けられた例えば
酸化珪素のグレーズ層116上を横切って配列されてい
る、通常24個の発熱体(例えば窒化タンタル)層8の
片側は例えばアルミニウムの共通の電極109に接続し
、他の側は例えばアルミニウムの信号電極110に接続
し、発熱部102へ送られる信号を信号電極110がら
送るようになっている。このヘッド120は、信号電極
110から選択的にパルス信号によって発熱部102が
選択的に発熱し、第6図に示すY方向に移動しながら印
字するようになっている。
As shown in FIG. 7, there are usually 24 heating elements (usually arranged across a glaze layer 116 made of silicon oxide, etc.) provided linearly on an insulating substrate (ceramic substrate made of alumina, etc.) 1o3. One side of the layer 8 (for example, tantalum nitride) is connected to a common electrode 109 made of aluminum, for example, and the other side is connected to a signal electrode 110 made of aluminum, so that the signal sent to the heat generating part 102 is sent from the signal electrode 110. ing. In this head 120, the heat generating section 102 selectively generates heat in response to a pulse signal selectively sent from the signal electrode 110, and prints while moving in the Y direction shown in FIG.

発熱部102の構造は第7図の■−■線に沿う矢視拡大
断面図である第8図に示すように、絶縁基体103上に
被着されたグレーズ層116には発熱体層108が被着
され、発熱体層108の上には間隙111を以って相対
向する共通電極109と個別の信号電極110とからな
る対向電極が被着され、間隙111に発熱部102が形
成される。
As shown in FIG. 8, which is an enlarged cross-sectional view taken along the line ■-■ in FIG. A counter electrode consisting of a common electrode 109 and an individual signal electrode 110 facing each other with a gap 111 is placed on the heat generating layer 108, and a heat generating part 102 is formed in the gap 111. .

絶縁基体103と多数の(例えば24個)のrcチップ
104とを固定したプリント基板(例えばガラス・エポ
キシ又はセラミックス板)105.105−2とは、共
通の基板(例えばアルミニウム基板)101上に一定の
間隙106を置いて対向して固定されている。ICチッ
プ104と発熱部102との電気的接続は、」二足間隙
106上にてプリント基板105.105−2と絶縁基
体103との間に架は渡されたフィルムキャリアテープ
107によってなされている。
A printed circuit board (e.g., glass epoxy or ceramic board) 105.105-2 has an insulating substrate 103 and a large number (e.g., 24) of RC chips 104 fixed thereon. They are fixed facing each other with a gap 106 between them. Electrical connection between the IC chip 104 and the heat generating part 102 is made by a film carrier tape 107 that is stretched between the printed circuit board 105, 105-2 and the insulating base 103 over the gap 106. .

フィルムキャリアテープ107は、例えばポリイミド基
板114上に、上記信号電極+10及び例えばアルミニ
ウム類のポンディングバンド112に対応した本数の例
えば銅箔製のり一[115が接着されたものからなって
いる。これらリード115と信号電極110及びポンデ
ィングバンド112との接続は所謂ビームリード方式で
行って良く、リード115の両端部を予め幾分張出させ
ておき、ここを熱圧着して接続することができる。
The film carrier tape 107 is made of, for example, a polyimide substrate 114, and a number of glues 115 made of copper foil, for example, bonded thereto in a number corresponding to the signal electrode +10 and the bonding bands 112 made of, for example, aluminum. These leads 115, signal electrodes 110, and bonding bands 112 may be connected by a so-called beam lead method, in which both ends of the leads 115 are slightly extended in advance, and the connections are made by thermocompression bonding. can.

なお、上記した各電極又は配線の形式、ICチップのマ
ウント及びワイヤボンディングは、公知の半導体装技術
によって行えるので、それらの詳細は省略する。
Note that the above-mentioned types of electrodes or wiring, mounting of the IC chip, and wire bonding can be performed using known semiconductor mounting technology, so their details will be omitted.

また、絶縁基体103上には、発熱体層10B、電極1
09.110上をも含めて耐摩耗保護層(絶縁被膜)1
17で被覆、保護されている。
Further, on the insulating base 103, a heating element layer 10B, an electrode 1
09.110 Wear-resistant protective layer (insulating coating) 1 including on top
Covered and protected by 17.

なお、第7図及び第8図中、107はフィルムキャリア
テープ、112はポンディングバンド、115はリート
′線である。但し、第7図では、フィルムキャリアテー
プはリード線115のみを図示しである。
In FIGS. 7 and 8, 107 is a film carrier tape, 112 is a bonding band, and 115 is a wire. However, in FIG. 7, only the lead wire 115 of the film carrier tape is shown.

次に、ライン方式について説明する。Next, the line method will be explained.

第9図に例示するように、ヘッド220は共通の基板2
01 U二に、発熱部202を設けた絶縁基体203と
、多数(例えば64個)のICチップ204を固定した
プリント基板205とが一定の間隙206を置いて対向
して固定されている。ICチップ204と発熱部202
との電気的接続は、上記間隙206林 上にてプリント基板205と絶縁屏基JJi!’203
との間に架は渡されたフィルムキャリアテープ207に
よって行われている。
As illustrated in FIG. 9, the head 220 is connected to a common substrate 2.
01 U2, an insulating base 203 provided with a heat generating portion 202 and a printed circuit board 205 to which a large number (for example, 64) of IC chips 204 are fixed are fixed facing each other with a constant gap 206 in between. IC chip 204 and heat generating section 202
Electrical connection is made between the printed circuit board 205 and the insulating screen JJi! above the gap 206. '203
The frame is provided by a film carrier tape 207 passed between the two.

この接続方式を第10図及び第10図のXI−XI線に
沿う拡大断面図である第11図で詳述する。
This connection method will be explained in detail with reference to FIG. 10 and FIG. 11, which is an enlarged sectional view taken along the line XI-XI in FIG. 10.

絶縁基体203上に発熱体層208が形成され、更にこ
の上に、共通の電極209と、同発熱体層208上にお
いて電極209の長さ方向に多数本配列せしめられてい
る信号電極210とが設けられている。これら両電極2
09と210との各対向部分211によって発熱部20
2が形成されている。一方、ICチップ204は一定個
数毎に、230で示した分離ラインで互いに接合された
別々のプリント基板205上にマウントされ、プリント
基板205上に所定パターンに設けられたポンディング
バンド212に対し、八〇又はA1等のワイヤ213に
よってワイヤボンディングされている。なお、上記の各
配線パターンは簡略図示されている。
A heating element layer 208 is formed on the insulating base 203, and further on this, a common electrode 209 and a large number of signal electrodes 210 are arranged in the length direction of the electrode 209 on the heating element layer 208. It is provided. Both electrodes 2
The heat generating part 20 is formed by each opposing portion 211 of 09 and 210.
2 is formed. On the other hand, a fixed number of IC chips 204 are mounted on separate printed circuit boards 205 that are joined to each other at separation lines 230, and bonding bands 212 provided in a predetermined pattern on the printed circuit board 205 are Wire bonding is performed using a wire 213 such as 80 or A1. Note that each of the above wiring patterns is shown in a simplified diagram.

フィルムキャリアテープ207は、例えばポリイミド基
板214上に、上記信号電極210及びポンディングバ
ンド212に対応した本数(例えば64本但し、図では
6本に省略して示しである。)の例えば銅箔製のり一ド
215が接着されたものからなっている。また、絶縁基
体203上には更に、耐摩耗性保護層(絶縁被膜)21
7が被着される。
The film carrier tape 207 is made of, for example, copper foil and is placed on a polyimide substrate 214 in a number corresponding to the signal electrode 210 and the bonding band 212 (for example, 64 tapes, but six tapes are shown in the figure). It is made of glue 215 glued together. Further, on the insulating base 203, a wear-resistant protective layer (insulating coating) 21 is further provided.
7 is deposited.

ヘッドを構成する各構−成部分の材料は、前記シリアル
方式に於けるそれと変るところはない。
The materials of each component constituting the head are the same as those used in the serial type.

次に、本発明を第6図〜第11図に示したヘッドに適用
した例について説明する。
Next, an example in which the present invention is applied to the heads shown in FIGS. 6 to 11 will be described.

第2図〜第5図に示した手順に従って、幅5cm、長さ
5cm、厚さ0.8 mmのアルミナ(純度99.5%
)セラミックス基板素材の裏面に、炭酸ガスレーザーに
よって直径140 μm、深さ250 μmの孔を20
0μmピッチで長さ方向に5mm間隔で4列、幅方向に
12mm2mm間隔穿設した。レーザービームによって
発生した付着物は、擦り落して除去した。
According to the procedure shown in Figures 2 to 5, alumina (purity 99.5%) with a width of 5 cm, a length of 5 cm, and a thickness of 0.8 mm is prepared.
) 20 holes with a diameter of 140 μm and a depth of 250 μm are made on the back side of the ceramic substrate material using a carbon dioxide laser.
Four rows of holes were formed at 0 μm pitch at 5 mm intervals in the length direction and at 12 mm and 2 mm intervals in the width direction. The deposits generated by the laser beam were removed by scraping.

次に、第6図〜第11図に示した基板上の各回路素子を
、この基板素材の表面に通例の方法によって形成した。
Next, each circuit element on the substrate shown in FIGS. 6 to 11 was formed on the surface of this substrate material by a conventional method.

次に、基板素材の表面に、裏面に形成された前記孔の列
に沿って、レジン−ダイヤモンドブレードを有するグイ
シングツ−を用いて■溝を削設した。■溝の谷の角度は
90@、表面上の幅は300 μmである。
Next, grooves were cut into the surface of the substrate material along the rows of the holes formed on the back surface using a cutting tool having a resin-diamond blade. ■The angle of the groove valley is 90@, and the width on the surface is 300 μm.

次に、この■溝に沿って基板素材を折割りし、各回路素
子が設けられた集積回路とした。
Next, the substrate material was folded along this groove to form an integrated circuit provided with each circuit element.

かくして得られた集積回路を、第6図〜第11図に示し
たヘッドに組付けたところ、各基板の端面ば5μm以下
の粗さで、パリの発生もなかったので、共通基板101
又は201上で正確に位置/11;1 させることができ、その結果、リード線115.215
による接続は容易に、かつ確実に行うことができた。
When the integrated circuit thus obtained was assembled into the head shown in FIGS. 6 to 11, the end surface of each substrate had a roughness of 5 μm or less and there was no occurrence of paris, so the common substrate 101
or 201 can be precisely positioned /11;1, so that the leads 115.215
The connection could be made easily and reliably.

基板103と105又は105−2、基板203と20
5との間隔は、間隙106.206に対応するスペーサ
を使用して相対的な位置決めをしている。
Substrates 103 and 105 or 105-2, substrates 203 and 20
5, relative positioning is achieved using spacers corresponding to gaps 106 and 206.

特に、シリアル方式のヘッドにあっては、第8図に示す
ように、使用中、仮想線で示すインクリボン30が基板
105の端部に接触しても、基板105端部にはパリが
なく、而も前記V溝によって面取り105aが形成して
いるので、基板105がインクリボン30を引掻いて不
必要な線が記録されるようなことがない。この効果は、
表面粗さの粗いラフペーパー(欧米で好まれている。)
に記録するに当って良好な記録結果が得られるように、
インクリボン30を発熱部102に強く圧接するために
傾斜して接触させる場合、特に顕著である。
In particular, in the case of a serial type head, as shown in FIG. 8, even if the ink ribbon 30 shown by the imaginary line comes into contact with the edge of the substrate 105 during use, the edge of the substrate 105 is free of burrs. Moreover, since the chamfer 105a is formed by the V-groove, the substrate 105 will not scratch the ink ribbon 30 and unnecessary lines will not be recorded. This effect is
Rough paper with a rough surface (preferred in Europe and America)
In order to obtain good recording results when recording,
This is particularly noticeable when the ink ribbon 30 is brought into contact with the heat generating section 102 at an angle in order to press it strongly.

へ0発明の詳細 な説明したように、本発明は前述した構成とり等の欠陥
がないので、この電気回路用基体から折割りされて得ら
れる集積回路を集積回路装置に組付けるに際して、位置
決めが正確に行え、その結果、配線が容易、かつ確実と
なる。
As described in detail, the present invention does not have the above-mentioned defects in the structure, etc., and therefore, when assembling the integrated circuit obtained by cutting this electric circuit substrate into an integrated circuit device, positioning is difficult. This can be done accurately, resulting in easy and reliable wiring.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

図面はいずれも本発明の実施例を示すものであって〜 第1図は電気回路用基体を示し、同図(a)は平面図、
同図(b)は底面図、 第2図は基体素材に不連続な凹部を線状パター断面図、 第3図は基体素材に連続な線状凹部を設ける工程を示し
、同図(a)は拡大平面図、同図(b)示す拡大断面図
、 第6図はシリアル方式の感熱記録ヘッドの部分概略部分
平面図、 第7図はシリアル方式の感熱記録ヘッドの平面図、 第8図は第7図の■−■線矢視断面図、第9図はライン
方式の感熱記録ヘッドの部分概略斜視図、 第10図は第9図の拡大平面図、 第11図は第10図のXl−XT線矢視拡大断面図であ
る。 なお、図面に示された符号に於いて、 1 −−一−−−−−−−基体(基板)素材2−−−−
−−一炭酸ガスレーザーによって穿孔された孔 3−〜−−−−− V溝 6−−−−−−−−−−面取り 101.201 −−−−−−−−共通基板102.2
02−−−−−−−−発熱部103.203 −−−−
−−−セラミック基板104.204−−−−−−−−
− I Cチップ105.105−2.205−−−−
−−−−プリント基板106.206 −−−−−−−
−−一基板間間隙107.207−−−−−−−フイル
ムキヤリアテーブ108.20 B  −−−−−−−
−一発熱体層109.209−〜−−−−−−−−−共
通電極110.210 −−−−−−−−−一信号電極
112.212 −−−−−−−−−−ポンディングパ
ッド114.214−−−−−−−ポリイミド基板11
5.215 −−−−−−−−− リード線116.2
16 −−−−−−−一−−−グレーズ層117.21
7−−−−−−−−−−保護層120.220−−−−
−−−感熱記録ヘッド105 a  −−−−−−−−
−一面取り30 −−一一−−−−−−インクリボンで
ある。 代理人 弁理士  逢 坂  宏 第1図 第2 第3 図 図
The drawings all show embodiments of the present invention. Fig. 1 shows an electric circuit substrate, and Fig. 1 (a) is a plan view;
Figure 2 (b) is a bottom view, Figure 2 is a cross-sectional view of the linear putter forming discontinuous recesses on the base material, Figure 3 shows the process of providing continuous linear recesses on the base material, and Figure (a) shows the process of forming continuous linear recesses on the base material. is an enlarged plan view, an enlarged sectional view shown in FIG. 7 is a sectional view taken along the line ■-■, FIG. 9 is a partial schematic perspective view of a line-type thermal recording head, FIG. 10 is an enlarged plan view of FIG. 9, and FIG. 11 is an Xl of FIG. -It is an enlarged sectional view taken along the line XT. In addition, in the symbols shown in the drawings, 1 --- 1 ------ Base (substrate) material 2 ---
--- Hole 3 drilled by monocarbon dioxide laser --- V groove 6 --- Chamfering 101.201 --- Common board 102.2
02--------- Heat generating part 103.203 -----
--- Ceramic substrate 104.204 ---
- IC chip 105.105-2.205----
----- Printed circuit board 106.206 --------
--- Gap between one substrate 107.207 --- Film carrier table 108.20 B ---------
- One heating element layer 109.209 ------- Common electrode 110.210 - One signal electrode 112.212 -------------Pon ding pad 114.214--Polyimide substrate 11
5.215 ------- Lead wire 116.2
16 --------1---- Glaze layer 117.21
7---------Protective layer 120.220----
---Thermal recording head 105a ---------
-One-sided chamfer 30--11--It is an ink ribbon. Agent Patent Attorney Hiroshi Aisaka Figure 1 Figure 2 Figure 3

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 連続した凹部を一方の主面に有し、前記連続した凹
部に対向した凹部を他方の主面に有し、前記凹部によっ
て区画された複数の領域に少なくとも一つの回路素子が
配置される電気回路用基体。 2 連続した凹部がV溝である、特許請求の範囲第1項
記載の電気回路用基体。 3 他方の主面に設けられた凹部が不連続である、特許
請求の範囲第1項又は第2項記載の電気回路用基体。 4 連続した凹部を有する主面側に回路素子が配置され
ている、特許請求の範囲第1項、第2項及び第3項のい
ずれか一項に記載の電気回路用基体。
[Scope of Claims] 1. A device having a continuous recess on one main surface, a recess opposite to the continuous recess on the other main surface, and at least one circuit in a plurality of regions partitioned by the recess. An electric circuit base on which elements are placed. 2. The electric circuit substrate according to claim 1, wherein the continuous recess is a V-groove. 3. The electric circuit substrate according to claim 1 or 2, wherein the recess provided on the other main surface is discontinuous. 4. The electric circuit substrate according to any one of claims 1, 2, and 3, wherein circuit elements are arranged on the main surface side having a continuous recess.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008028065A (en) * 2006-07-20 2008-02-07 Denso Corp Method for manufacturing ceramic substrate

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