JPS6122274Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6122274Y2 JPS6122274Y2 JP19082580U JP19082580U JPS6122274Y2 JP S6122274 Y2 JPS6122274 Y2 JP S6122274Y2 JP 19082580 U JP19082580 U JP 19082580U JP 19082580 U JP19082580 U JP 19082580U JP S6122274 Y2 JPS6122274 Y2 JP S6122274Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- crack
- test piece
- extension line
- along
- test
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 18
- 238000009864 tensile test Methods 0.000 claims description 13
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Investigating Strength Of Materials By Application Of Mechanical Stress (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
この考案はキ裂試験片加熱引張試験装置に関す
るものである。
るものである。
キ裂試験片加熱引張試験では、キ裂を有する試
験片が使用され、試験片はそのキ裂の延長線に沿
つて加熱される。これと同時に、試験片にそのキ
裂と交叉する方向に間欠的に繰返し引張試験荷重
が与えられ、試験片のキ裂はその延長線に沿つて
進行する。試験は試験片のキ裂の進行速度などを
測定することによつて行なわれるこの種に試験は
一般にＣ−Ｔ（compact tension）試験と呼ばれ
ている。
験片が使用され、試験片はそのキ裂の延長線に沿
つて加熱される。これと同時に、試験片にそのキ
裂と交叉する方向に間欠的に繰返し引張試験荷重
が与えられ、試験片のキ裂はその延長線に沿つて
進行する。試験は試験片のキ裂の進行速度などを
測定することによつて行なわれるこの種に試験は
一般にＣ−Ｔ（compact tension）試験と呼ばれ
ている。
この考案の目的は、この種のキ裂試験片加熱引
張試験において試験片をそのキ裂の延長線に沿つ
て効果的に、かつ均一に加熱することができるよ
うにするにある。この考案では高周波加熱コイル
が試験片の両側面に沿つて、かつキ裂の延長線に
近接させて実質上、この延長線に平行に配置され
る。
張試験において試験片をそのキ裂の延長線に沿つ
て効果的に、かつ均一に加熱することができるよ
うにするにある。この考案では高周波加熱コイル
が試験片の両側面に沿つて、かつキ裂の延長線に
近接させて実質上、この延長線に平行に配置され
る。
以下、この考案の実施例を図面について説明す
る。
る。
第１図において、試験片１はその一端から中央
部にのびるキ裂２を有する。試験片１の一端は引
張試験荷重負荷機構の上下一対のチヤツク３，４
によつて把持されている。引張試験荷重負荷機構
は、チヤツク３，４を矢印イ，ロで示す方向に繰
返し駆動し、試験片１にそのキ裂２と交叉する方
向に繰返し引張試験荷重を与えることができる。
引張試験荷重負荷機構の構成はよく知られてお
り、その詳細については説明を省略する。
部にのびるキ裂２を有する。試験片１の一端は引
張試験荷重負荷機構の上下一対のチヤツク３，４
によつて把持されている。引張試験荷重負荷機構
は、チヤツク３，４を矢印イ，ロで示す方向に繰
返し駆動し、試験片１にそのキ裂２と交叉する方
向に繰返し引張試験荷重を与えることができる。
引張試験荷重負荷機構の構成はよく知られてお
り、その詳細については説明を省略する。
高周波加熱コイル５は試験片１の両側面１ａ，
１ｂに沿つて、かつキ裂２の延長線に近接して、
実質上延長線ｌに平行に配置される。この実施例
では試験片１の両側面１ａ，１ｂに沿つてそれぞ
れキ裂２の延長線ｌの上下両側に近接加熱コイル
部５ａ，５ｂ，５ｃ，５ｄが配置されている。試
験片１の側面１ａの上側の近接加熱コイル部５ａ
の一端は電源に接続され、他端は試験片１の上端
面１ｃを越えて湾曲する湾曲コイル部５ｅによつ
て試験片１の側面１ｂの上側の近接加熱コイル部
５ｃの一端に接続されている。近接コイル部５ｃ
の他端は試験片１の他端を越えて湾曲する湾曲コ
イル部５ｆによつて試験片１の側面１ａの下側の
近接コイル部５ｂの一端に接続され、近接コイル
部５ｂの他端は試験片１の下端面１ｄを越えて湾
曲する湾曲コイル部５ｇによつて試験片１の側面
１ｂの下側の近接コイル部５ｄの一端に接続され
ている。近接コイル部５ｄの他端は電源に接続さ
れている。
１ｂに沿つて、かつキ裂２の延長線に近接して、
実質上延長線ｌに平行に配置される。この実施例
では試験片１の両側面１ａ，１ｂに沿つてそれぞ
れキ裂２の延長線ｌの上下両側に近接加熱コイル
部５ａ，５ｂ，５ｃ，５ｄが配置されている。試
験片１の側面１ａの上側の近接加熱コイル部５ａ
の一端は電源に接続され、他端は試験片１の上端
面１ｃを越えて湾曲する湾曲コイル部５ｅによつ
て試験片１の側面１ｂの上側の近接加熱コイル部
５ｃの一端に接続されている。近接コイル部５ｃ
の他端は試験片１の他端を越えて湾曲する湾曲コ
イル部５ｆによつて試験片１の側面１ａの下側の
近接コイル部５ｂの一端に接続され、近接コイル
部５ｂの他端は試験片１の下端面１ｄを越えて湾
曲する湾曲コイル部５ｇによつて試験片１の側面
１ｂの下側の近接コイル部５ｄの一端に接続され
ている。近接コイル部５ｄの他端は電源に接続さ
れている。
なお、第２図に示されているように、各近接コ
イル部５ａ，５ｂ，５ｃ，５ｄは試験片１の両側
面１ａ，１ｂに対し、一定の比較的小さい間隔を
置いて配置され、湾曲コイル部５ｅ，５ｇは試験
片１の側面１ａ，１ｂ、端面１ｃ，１ｄに対し大
きい間隔を置いて配置されている。
イル部５ａ，５ｂ，５ｃ，５ｄは試験片１の両側
面１ａ，１ｂに対し、一定の比較的小さい間隔を
置いて配置され、湾曲コイル部５ｅ，５ｇは試験
片１の側面１ａ，１ｂ、端面１ｃ，１ｄに対し大
きい間隔を置いて配置されている。
前記のように構成されたキ裂試験片加熱引張試
験装置において、高周波加熱コイル５の電流は試
験片１の側面１ａの近接コイル部５ａ，５ｂを同
一方向に流れ、側面１ｂの近接コイル部５ｃ，５
ｄの逆方向に流れる。電流には交流が使用され
る。したがつて各近接コイル部５ａ，５ｂ，５
ｃ，５ｄの電流によつて磁束が形成され、試験片
１にキ裂２の延長線ｌに沿つて渦電流が生じる。
試験片１は渦電流損によつてキ裂２の延長線ｌに
沿つて加熱される。引張試験荷重負荷機構によつ
て試験片１に間欠的に繰返し引張試験荷重を与え
ると、キ裂２はその延長線ｌに沿つて進行する。
高周波加熱コイル５の各近接コイル部５ａ，５
ｂ，５ｃ，５ｄは、キ裂２の延長線ｌに平行に配
置されているため、渦電流は試験片１にキ裂２の
延長線ｌに沿つて平行に生じる。したがつて、渦
電流はキ裂２の影響を受けず、渦電流損はキ裂２
に関係なくその延長線ｌに沿つて均一に分布され
る。この結果、キ裂２の進行に関係なくその延長
線ｌに沿つて常に均一に試験片１を加熱すること
ができるものである。
験装置において、高周波加熱コイル５の電流は試
験片１の側面１ａの近接コイル部５ａ，５ｂを同
一方向に流れ、側面１ｂの近接コイル部５ｃ，５
ｄの逆方向に流れる。電流には交流が使用され
る。したがつて各近接コイル部５ａ，５ｂ，５
ｃ，５ｄの電流によつて磁束が形成され、試験片
１にキ裂２の延長線ｌに沿つて渦電流が生じる。
試験片１は渦電流損によつてキ裂２の延長線ｌに
沿つて加熱される。引張試験荷重負荷機構によつ
て試験片１に間欠的に繰返し引張試験荷重を与え
ると、キ裂２はその延長線ｌに沿つて進行する。
高周波加熱コイル５の各近接コイル部５ａ，５
ｂ，５ｃ，５ｄは、キ裂２の延長線ｌに平行に配
置されているため、渦電流は試験片１にキ裂２の
延長線ｌに沿つて平行に生じる。したがつて、渦
電流はキ裂２の影響を受けず、渦電流損はキ裂２
に関係なくその延長線ｌに沿つて均一に分布され
る。この結果、キ裂２の進行に関係なくその延長
線ｌに沿つて常に均一に試験片１を加熱すること
ができるものである。
なお、高周波加熱コイル５の湾曲部５ｅ，５ｇ
は、試験片１の端面１ｅ，１ｄに対し大きい間隔
を置いて配置され、渦電流損によつて特に試験片
１の端面１ｃ，１ｄの両側縁が局部的に加熱され
るといつた不都合は回避される。
は、試験片１の端面１ｅ，１ｄに対し大きい間隔
を置いて配置され、渦電流損によつて特に試験片
１の端面１ｃ，１ｄの両側縁が局部的に加熱され
るといつた不都合は回避される。
前記実施例で明らかなように、この考案は高周
波加熱コイルを試験片の両側面に沿つて、かつキ
裂の延長線に近接させて配置したから、試験片を
キ裂２の延長線に沿つて効果的に加熱することが
できる。又、高周波加熱コイルを実質上キ裂の延
長線に平行に配置したから、試験片にキ裂の延長
線に平行に渦電流を生じさせることができ、した
がつてキ裂の進行に関係なく試験片をキ裂を延長
線に沿つて常に均一に加熱することができたもの
である。
波加熱コイルを試験片の両側面に沿つて、かつキ
裂の延長線に近接させて配置したから、試験片を
キ裂２の延長線に沿つて効果的に加熱することが
できる。又、高周波加熱コイルを実質上キ裂の延
長線に平行に配置したから、試験片にキ裂の延長
線に平行に渦電流を生じさせることができ、した
がつてキ裂の進行に関係なく試験片をキ裂を延長
線に沿つて常に均一に加熱することができたもの
である。
第１図はこの考案の一実施例を示す斜視図、第
２図は第１図に高周波加熱コイルと試験片の配置
関係を示す説明図である。 １……試験片、１ａ，１ｂ……試験片の側面、
２……キ裂、ｌ……キ裂の延長線。
２図は第１図に高周波加熱コイルと試験片の配置
関係を示す説明図である。 １……試験片、１ａ，１ｂ……試験片の側面、
２……キ裂、ｌ……キ裂の延長線。
Claims (1)
- キ裂を有する試験片を使用し、試験片をそのキ
裂の延長線に沿つて加熱するとともに、試験片に
そのキ裂と交叉する方向に引張試験荷重を与え、
前記キ裂をその延長線に沿つて進行させるように
したキ裂試験片加熱引張試験装置において、高周
波加熱コイルを前記試験片の両側面に沿つてかつ
前記キ裂の延長線に近接させて実質上該延長線に
平行に配置したことを特徴とする試験装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19082580U JPS6122274Y2 (ja) | 1980-12-24 | 1980-12-24 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19082580U JPS6122274Y2 (ja) | 1980-12-24 | 1980-12-24 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57108140U JPS57108140U (ja) | 1982-07-03 |
| JPS6122274Y2 true JPS6122274Y2 (ja) | 1986-07-04 |
Family
ID=29995260
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19082580U Expired JPS6122274Y2 (ja) | 1980-12-24 | 1980-12-24 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6122274Y2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6209489B2 (ja) * | 2014-05-21 | 2017-10-04 | 株式会社コベルコ科研 | 熱疲労試験方法及び試験片 |
-
1980
- 1980-12-24 JP JP19082580U patent/JPS6122274Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS57108140U (ja) | 1982-07-03 |
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