JPS61218641A - Porous organic semiconductor - Google Patents
Porous organic semiconductorInfo
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- JPS61218641A JPS61218641A JP60058603A JP5860385A JPS61218641A JP S61218641 A JPS61218641 A JP S61218641A JP 60058603 A JP60058603 A JP 60058603A JP 5860385 A JP5860385 A JP 5860385A JP S61218641 A JPS61218641 A JP S61218641A
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は多孔性有機半導体に関する。更に詳しくは、フ
ェノール性水酸基を有する芳香族炭化水素化合物とアル
デヒド類との縮合物である芳香族系縮合ポリマーの熱処
理物である多孔性有機半導体に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to porous organic semiconductors. More specifically, the present invention relates to a porous organic semiconductor that is a heat-treated product of an aromatic condensation polymer that is a condensation product of an aromatic hydrocarbon compound having a phenolic hydroxyl group and an aldehyde.
高分子材料は成型性、軽量性および量産性に優れている
。そのため高分子材料のこれらの特性を生かして、電気
的に半導性を有する有機高分子材料がエレクトロニクス
産業を始めとして多くの産業分野において希求されてい
る。初期の有機半導体はフィルム状あるいは板状体等に
成形することが困難であシ、又九壓あるいはp型の不純
物半導体としての性質を有していなかったため、用途的
にも限定されていた。近年、比較的成形性に優れた有機
半導体が得られるようになシ、しかもこれらの半導体に
電子供与性ドー・々ントあるいは電子受容性ドーパント
をドーピングすることによってn型あるいはp型の有機
半導体とすることが可能となった。そのような有機半導
体の代表例として、ポリアセチレンがある。この有機半
導体は約1O−I(Ω・−″露の電気伝導度を有しでρ
るが12 、A ”I+等の電子受容性ドーパントある
いはLi、Nα等の電子供与性ドーパントをドーピング
することによって電気伝導度を大巾に向上させることが
でき、108〜101 (Ω・α) −1の伝導度が得
られている。Polymer materials are excellent in moldability, light weight, and mass production. Therefore, by taking advantage of these properties of polymer materials, organic polymer materials that have electrical semiconductivity are desired in many industrial fields including the electronics industry. Early organic semiconductors were difficult to form into films or plates, and they did not have the properties of 9- or p-type impurity semiconductors, so their uses were limited. In recent years, organic semiconductors with relatively excellent formability have become available, and by doping these semiconductors with electron-donating or electron-accepting dopants, they can be made into n-type or p-type organic semiconductors. It became possible to do so. Polyacetylene is a typical example of such an organic semiconductor. This organic semiconductor has an electrical conductivity of about 1 O-I (Ω・-″), and ρ
However, by doping with an electron-accepting dopant such as 12, A''I+ or an electron-donating dopant such as Li or Nα, the electrical conductivity can be greatly improved; A conductivity of 1 was obtained.
ところがポリアセチレンは酸素によって酸化され易い欠
点がある。このため空気中で取シ扱うことが困難であシ
、工業材料としては実用性に欠ける。However, polyacetylene has the disadvantage of being easily oxidized by oxygen. For this reason, it is difficult to handle in the air, and it lacks practicality as an industrial material.
また、本願と同一出願人の出願にかかる特開昭58−1
36,649号公報には、(B)炭素、水素および酸素
から成る芳香族系縮合、je 17マーの熱処理物であ
って、水素原子/炭素原子の原子比がα60〜α15の
ポリアセン系骨格構造を含有する不溶不融性基体と、(
B)電子供与性ドーピング剤又は電子受容性ドーピング
剤とから成り、り電気伝導性が未ドープの咳基体よりも
大である電気伝導性有機高分子系材料が開示されている
。上記不溶不融性基体は、耐熱性耐酸化性に優れておシ
、しかも上記のとおり電子供与性ドーピング剤あるいは
電子受容性ドーピング剤によってドーピングが可能であ
シ、pmあるいはh型の性質を示す有機半導体を与える
。しかしながら、上記公開公報には多孔性基体あるいは
多孔性有機半導体に関しては何んら記載されていない。In addition, Japanese Patent Application Laid-open No. 58-1 filed by the same applicant as the present application
No. 36,649 discloses (B) a heat-treated product of aromatic condensation consisting of carbon, hydrogen and oxygen, je 17 mer, with a polyacene skeleton structure having an atomic ratio of hydrogen atoms/carbon atoms of α60 to α15; an insoluble and infusible substrate containing (
B) An electrically conductive organic polymeric material is disclosed which is comprised of an electron-donating doping agent or an electron-accepting doping agent and has a higher electrical conductivity than an undoped cough substrate. The above-mentioned insoluble and infusible substrate has excellent heat resistance and oxidation resistance, and can be doped with an electron-donating doping agent or an electron-accepting doping agent as described above, and exhibits pm or h-type properties. Gives an organic semiconductor. However, the above-mentioned publication does not describe anything about porous substrates or porous organic semiconductors.
また、本願と同一出願人の出願にがかる先願の特願昭5
9−8152号は未だ未公開であるが、同先願において
、
(イ)炭素、水素および酸素からなる芳香族系縮合ポリ
マーの熱処理物であって、水素原子/炭素原子の原子比
がα60〜α15であシ、かつBET法による比表面積
値が600?FL”/ff以上であるポリアセン系骨格
構造を含有する不溶不融性基体と、
(ハ)電子供与性ドーピング剤又は電子受容性ドーピン
グ剤とからなシ、
(q 電気伝導度が未ドープの該基体よりも犬であるこ
とを特徴とする電気伝導性有機高分子系材料が提案され
ている。Also, please refer to the earlier patent application filed in 1973 filed by the same applicant as the present application.
No. 9-8152 has not yet been published, but in the same earlier application, (a) a heat-treated product of an aromatic condensation polymer consisting of carbon, hydrogen and oxygen, with an atomic ratio of hydrogen atoms/carbon atoms of α60 to Is it α15 and the specific surface area value by BET method is 600? (c) an electron-donating doping agent or an electron-accepting doping agent; (q) an undoped substrate having an electrical conductivity of Electrically conductive organic polymeric materials have been proposed that are characterized by being more flexible than the substrate.
この有機高分子系材料は比表面積値が/、QQm”71
以上であるため、比較的イオン半径の大きなドーピング
剤LIdCIO,−、BF4− 等でもスムーズにド
ーピングしうる。しかしながら、この先願の明細書にも
、多孔性基体あるいは多孔性有機半導体に関しては何ん
ら記載されていない。This organic polymer material has a specific surface area value of /,QQm”71
Because of the above, even doping agents LIdCIO,-, BF4-, etc. having a relatively large ionic radius can be doped smoothly. However, the specification of this prior application does not mention anything about porous substrates or porous organic semiconductors.
一方、耐熱性、耐薬品性に優れた連通気孔を有する多孔
体としてはセラミック多孔体あるいは炭素多孔体が知ら
れておシ、F材を始めとして多くの工業分野で使用され
ている。On the other hand, ceramic porous bodies and carbon porous bodies are known as porous bodies having communicating pores with excellent heat resistance and chemical resistance, and are used in many industrial fields including F materials.
しかしながら、耐熱性、耐薬品性に優れ、多孔性で且つ
比表面積の大きな有機半導体は、バイテクノロジ一時代
の今日、社会的ニーズが非常に大きいにもかかわらず、
未だ開発されていない。However, in today's era of biotechnology, organic semiconductors with excellent heat resistance, chemical resistance, porousness, and large specific surface area are in great social need.
Not yet developed.
本発明の目的は多孔性有機半導体を提供することにある
。An object of the present invention is to provide a porous organic semiconductor.
本発明の他の目的は耐熱性および耐酸化性に優れた多孔
性有機半導体を提供することにある。Another object of the present invention is to provide a porous organic semiconductor having excellent heat resistance and oxidation resistance.
本発明のさらに他の目的は、比較的イオン半径の大きな
電子受容性ドーパントおよび/または電子供与性ドーノ
1ントでさえも迅速に且つ均一にドーピングしうる多数
の連通孔を有する有機半導体を提供することにある。Still another object of the present invention is to provide an organic semiconductor having a large number of communicating pores that can be rapidly and uniformly doped with an electron-accepting dopant and/or an electron-donating dopant having a relatively large ionic radius. There is a particular thing.
本発明のさらに他の目的は、電子供与性ドー・々ントお
よび/または電子受容性ドーノ臂ントをドーピングした
有機半導体を提供することにある。Still another object of the present invention is to provide an organic semiconductor doped with an electron-donating dopant and/or an electron-accepting dopant.
本発明のさらに他の目的は、フィルム状、板拉等の形態
にある多孔性有機半導体を提供することにある。Yet another object of the present invention is to provide a porous organic semiconductor in the form of a film, plate, or the like.
本発明のさらに他の目的は、各種化学反応あるいは物理
的吸着等を生じ易い、微細な連通孔を持った有機半導体
を提供することにおる。Still another object of the present invention is to provide an organic semiconductor having fine communicating pores that is susceptible to various chemical reactions or physical adsorption.
本発明のさらに他の目的および利点は以下の説明から明
らかとなろう。Further objects and advantages of the present invention will become apparent from the description below.
〔問題点を解決するための手段および作用〕本発明によ
れば、本発明の上記目的および利点は、
フェノール性水酸基を有する芳香族炭化水素化合物とア
ルデヒド類との縮合物である芳香族系縮合ポリマーの熱
処理物であって、
(a)水素原子/炭素原子の原子比がα6〜α05であ
るポリアセン系骨格構造を有し1、 (c)BET法
による比表面積値が少くとも600m” 7gであシ、
そして
(c) 平均孔径10μm以下の連通孔を持つことを
特徴とする多孔性有機半導体によって達成される。[Means and effects for solving the problems] According to the present invention, the above-mentioned objects and advantages of the present invention are achieved by the following: A heat-treated polymer, which (a) has a polyacene skeleton structure with a hydrogen atom/carbon atom atomic ratio of α6 to α05, and (c) has a specific surface area value of at least 600 m”7 g by the BET method. Ashi,
and (c) achieved by a porous organic semiconductor characterized by having communicating pores with an average pore diameter of 10 μm or less.
本発明における芳香族系縮合ポリマーは、フェノール性
水酸基を有する芳香族炭化水素化合物とアルデヒド類と
の縮合物である。かかる芳香族炭化水素化合物としては
、例えばフェノール、フレ記式
ここで、2およびVはそれぞれ独立に、0.1又は2で
ある、
で表わされるメチレン−ビスフェノール類”t’sルこ
とかでき、あるいはヒドロキシ−ビフェニル類、ヒドロ
キシナフタレン類であることもできる。これらのうち、
実用的にはフェノール類特にフェノールが好適である。The aromatic condensation polymer in the present invention is a condensate of an aromatic hydrocarbon compound having a phenolic hydroxyl group and an aldehyde. Such aromatic hydrocarbon compounds include, for example, phenol, methylene-bisphenols represented by the following formula, where 2 and V are each independently 0.1 or 2; Alternatively, it can also be hydroxy-biphenyls or hydroxynaphthalenes. Among these,
Practically speaking, phenols, especially phenol, are preferred.
本発明における芳香族系縮合ポリマーとしては、さらに
フェノール性水酸基を有する芳香族炭化水素化合物の1
部をフェノール性水酸基を有さない芳香族炭化水素化合
物例えばキシレン、トルエン等で置換した変性芳香族系
、3e 17マー例えばフェノールとキシレンとホルム
アルデヒドとの縮合物である変性芳香族系ポリマーを用
いることもできる。The aromatic condensation polymer in the present invention further includes one of aromatic hydrocarbon compounds having a phenolic hydroxyl group.
Use of a modified aromatic polymer in which part of the polymer is substituted with an aromatic hydrocarbon compound having no phenolic hydroxyl group, such as xylene, toluene, etc., or a modified aromatic polymer that is a 3e 17 mer, such as a condensate of phenol, xylene, and formaldehyde. You can also do it.
またアルデヒドとしてはホルムアルデヒドのみならず、
アセトアルデヒド、フルフラールの如きその他のアルデ
ヒドも使用することができるが、ホルムアルデヒドが好
適である。フェノール・ホルムアルデヒド縮合物として
は、ノがラック製又はレゾール型或はそれらの複合物の
いずれであってもよい。In addition to formaldehyde, aldehydes include
Formaldehyde is preferred, although other aldehydes such as acetaldehyde and furfural can also be used. The phenol-formaldehyde condensate may be of the Nogalac type, resol type, or a composite thereof.
本発明の多孔性有機半導体は、上記の如き芳香族系縮合
ポリマーの熱処理物であって例えば次のようにして製造
することができる。The porous organic semiconductor of the present invention is a heat-treated product of the aromatic condensation polymer as described above, and can be produced, for example, as follows.
フェノール性水酸基を有する芳香族炭化水素化合物又は
フェノール性水酸基を有する芳香族炭化水素化合物とフ
ェノール性水酸基を有さない芳香族炭化水素化合物およ
びアルデヒド類の初期縮合物を準備し、この初期縮合物
と無機塩とを含む水浴液を調製し、この水浴液を過当な
型に流し込み、次いで水分の蒸発を抑止しつつ該水浴液
を加熱して該域内で例えば板状、フィルム状あるいは円
筒状等の形態に硬化し且つ変換し、その後この硬化体を
非酸化性雰囲気中で350〜800℃の温度まで加熱し
熱処理し、次いで得られた熱処理体を洗浄して該熱処理
体に含有される無機塩を除去する。An initial condensate of an aromatic hydrocarbon compound having a phenolic hydroxyl group or an aromatic hydrocarbon compound having a phenolic hydroxyl group and an aromatic hydrocarbon compound having no phenolic hydroxyl group and aldehydes is prepared, and this initial condensate and Prepare a water bath solution containing an inorganic salt, pour this water bath solution into a suitable mold, and then heat the water bath solution while suppressing the evaporation of water to mold it into, for example, a plate shape, a film shape, or a cylindrical shape. The cured body is then heat-treated by heating to a temperature of 350 to 800°C in a non-oxidizing atmosphere, and the resulting heat-treated body is then washed to remove the inorganic salts contained in the heat-treated body. remove.
初期縮合物と共に用いる上記無機塩は後の工程で除去さ
れ硬化体に連通孔を付与するために用いられる孔形成剤
であり、例えば塩化亜鉛、リン酸ナトリウム、水酸化カ
リウムあるいは硫化カリウム等である。これらのうち塩
化亜鉛が特に好ましく用いられる。無機塩は、初期縮合
物の例えば25〜10重量倍の量で用いることができる
。下限よシ少ない量では連通孔を有する多孔体が得難く
また上限よシ多い量では最終的に得られる多孔体の機械
的強度が低下する傾向が大きくなシ望ましくない。初期
縮合物と無機塩の水溶液は、使用する無機塩の種類によ
っても異なるが例えば無機塩のα1〜1重量倍の水を用
いて調製することができる。かくして、例えば10G、
000〜100ポイズの粘度を有する水溶液は適当な型
に流し込まれ、例えば50〜200℃の温度に加熱され
る。The above-mentioned inorganic salt used together with the initial condensate is a pore-forming agent that is removed in a later step and used to provide communicating pores to the cured product, such as zinc chloride, sodium phosphate, potassium hydroxide, or potassium sulfide. . Among these, zinc chloride is particularly preferably used. The inorganic salt can be used in an amount of, for example, 25 to 10 times the weight of the initial condensate. If the amount is less than the lower limit, it is difficult to obtain a porous body having communicating pores, and if the amount is more than the upper limit, the mechanical strength of the finally obtained porous body tends to decrease, which is not desirable. The aqueous solution of the initial condensate and the inorganic salt can be prepared using, for example, water in an amount α1 to 1 times the weight of the inorganic salt, although it varies depending on the type of inorganic salt used. Thus, for example 10G,
An aqueous solution having a viscosity of 000 to 100 poise is poured into a suitable mold and heated to a temperature of, for example, 50 to 200°C.
この加熱の際、水溶液中の水分の蒸発を抑止するのが肝
要である。すなわち、水溶液中において初期給金物は加
熱を受けて徐々に硬化し、塩化亜鉛、水と分離しながら
3次元網目構造に成長するものと考えられる。During this heating, it is important to suppress evaporation of water in the aqueous solution. That is, it is considered that the initial metal feed in the aqueous solution is heated and gradually hardens, and grows into a three-dimensional network structure while separating from zinc chloride and water.
かくして得られた硬化体は、次いで非酸化性雰囲気(真
空状態も含む)中で350〜800℃の温度、好ましく
は350〜700℃の温度、特に好ましくは400〜6
00℃の温度まで加熱され、熱処理される。The thus obtained cured product is then heated in a non-oxidizing atmosphere (including a vacuum state) at a temperature of 350 to 800°C, preferably 350 to 700°C, particularly preferably 400 to 600°C.
It is heated to a temperature of 00°C and heat treated.
熱処理の際の好ましい昇温速度は、使用する芳香族系縮
合/ IJママ−又はその硬化地理の程度あるいはその
形状等によって多少相違するが、一般に室温から300
m程度の温度までは比較的大きな昇温速度とすることが
可能であり例えば100℃/時間の速度とするととも可
能である。300℃以上の温度になると、該芳香族系縮
合ポリマーの熱分解が開始し、水蒸気CEtO)、水素
、メタン、−酸化炭素の如きガスが発生し始めるため、
充分に遅い速度で昇温せしめるのが有利である。The preferred rate of temperature increase during heat treatment varies somewhat depending on the degree of aromatic condensation/IJ mother used or its hardening geography, its shape, etc., but generally it is 300°C from room temperature.
It is possible to raise the temperature at a relatively high rate up to a temperature of about m, for example, at a rate of 100° C./hour. When the temperature exceeds 300°C, thermal decomposition of the aromatic condensation polymer begins and gases such as water vapor (CEtO), hydrogen, methane, and carbon oxide begin to be generated.
It is advantageous to raise the temperature at a sufficiently slow rate.
芳香族系縮合ポリマーのかかる加熱、熱処理は、非酸化
性雰囲気下において行なわれる。非酸化性雰囲気は、例
えば窒素、アルプン、ヘリウム、ネオン、二酸化炭素等
であυ、窒素が好ましく用いられる。かかる非酸化性雰
囲気は静止していても流動していてもさしつかえない。Such heating and heat treatment of the aromatic condensation polymer is performed in a non-oxidizing atmosphere. Examples of the non-oxidizing atmosphere include nitrogen, alpine, helium, neon, carbon dioxide, etc. Nitrogen is preferably used. Such a non-oxidizing atmosphere may be stationary or flowing.
得られた熱処理体を水あるいは希塩酸等によって十分に
洗浄することによって、熱処理体中に含まれる無機塩を
除去することができ、その後これを乾燥すると連通孔の
発達したしかも比表面積の大きな多孔性硬化縮合体を得
ることができる。By thoroughly washing the obtained heat-treated body with water or diluted hydrochloric acid, the inorganic salts contained in the heat-treated body can be removed, and when it is then dried, it becomes porous with developed communicating pores and a large specific surface area. A cured condensate can be obtained.
かくして、上記加熱、熱処理により、水素原子/炭素原
子の原子比C以下、H2O比という)が06〜C1,0
5、好ましくは0.5〜0.15のポリアセン系骨格構
造を有し、且つ平均孔径10μm以下の連通孔例えば平
均孔径Q、03〜10μ情の連通孔を持つ、本発明の多
孔性有機半導体が得られる。本発明の多孔性有機半導体
は不溶不融性である。また、酸素原子/炭素原子の原子
比(0/Cの比)は通常1106以下、好ましくは0.
03以下である。また、X線回折(C1LK−によれば
、メイン・ピークの位置は2θで表わして2(15〜2
五5°の間に存在し、また該メイン・ピークの他に41
〜46°の間にブロードな他の−一りが存在する。また
、赤外線吸収スペクトルによれば、D (=D too
o〜2940 / Dtsao z 1640 )の吸
光度比は通常0.5以下、好ましくは0.5以下である
。Thus, by the above heating and heat treatment, the atomic ratio of hydrogen atoms/carbon atoms (hereinafter referred to as H2O ratio) becomes 06 to C1,0.
5. The porous organic semiconductor of the present invention, which preferably has a polyacene skeleton structure of 0.5 to 0.15 and has communicating pores with an average pore diameter of 10 μm or less, for example, an average pore diameter Q of 03 to 10 μm. is obtained. The porous organic semiconductor of the present invention is insoluble and infusible. Further, the atomic ratio of oxygen atoms/carbon atoms (0/C ratio) is usually 1106 or less, preferably 0.
03 or less. Also, according to X-ray diffraction (C1LK-), the position of the main peak is expressed in 2θ and is 2 (15 to 2
55°, and in addition to the main peak, 41°
There is a broad other between ~46°. Also, according to the infrared absorption spectrum, D (=D too
The absorbance ratio of 0~2940/Dtsao z 1640 is usually 0.5 or less, preferably 0.5 or less.
すなわち、上記不溶不融性基体は、ポリアセン系のベン
ゼンの多環構造がポリアセン系分子間に均−且つ適度に
発達したものであると理解される。That is, it is understood that the above-mentioned insoluble and infusible substrate is one in which the polycyclic structure of polyacene-based benzene is evenly and appropriately developed between polyacene-based molecules.
本発明によれば、上記不溶不融性基体に電子供与性ドー
パント又は電子受容性ドーパントあるいはこれらの両方
のドーパントをドーピングした多孔性有機半導体が同様
に提供される。According to the present invention, there is also provided a porous organic semiconductor in which the insoluble and infusible substrate is doped with an electron-donating dopant, an electron-accepting dopant, or both of these dopants.
すなわち、本発明によれば、
(A フェノール性水酸基を有する芳香族炭化水素化合
物とアルデヒド類との縮合物である芳香族系縮合ポリマ
ーの熱処理物であって、(a)水素原子/炭素原子の原
子比が0.6〜0.05であるポリアセン系骨格構造を
有し、(bJBET法による比表面積値が少くとも60
0m”/(Jであシ、そして(c)平均孔径10μm以
下の連通孔を持つ多孔性不浴不融性基体、訃よび
(8)電子供与性ドーパント及び/または電子受容性ド
ーパント
から成ることを特徴とする多孔性有機半導体装置供され
る。That is, according to the present invention, (A) a heat-treated product of an aromatic condensation polymer which is a condensation product of an aromatic hydrocarbon compound having a phenolic hydroxyl group and an aldehyde, wherein (a) hydrogen atoms/carbon atoms It has a polyacene skeleton structure with an atomic ratio of 0.6 to 0.05, and has a specific surface area value of at least 60
0m''/(J), and (c) a porous, bath-infusible substrate having communicating pores with an average pore diameter of 10 μm or less, and (8) an electron-donating dopant and/or an electron-accepting dopant. A porous organic semiconductor device is provided.
1 電子供与性ドーパントとしては電子を離
し易い物質が用いられる。例えばリチウム、ナトリウム
、カリウム、ルVジウムあるいはセシウムの如き周期律
表の第1A族金属が好ましく用いられる。1. A substance that easily releases electrons is used as the electron-donating dopant. For example, metals from group 1A of the periodic table, such as lithium, sodium, potassium, dium or cesium, are preferably used.
電子供与性ドーノ母ントとしては、同様に、テトラ(0
1〜C4アルキル)アンモニウムカチオン例えば(CH
s)4ff+あるいは((:’、fJaN+を用いるこ
とができる。Similarly, tetra(0
1-C4 alkyl) ammonium cations such as (CH
s) 4ff+ or ((:', fJaN+ can be used.
また、電子受容性ドーパントとしては電子を受は取り易
い物質が用いられる。例えばフッ素、塩素、臭素、沃素
の如き〕・口rン; AaF、 、PF、、BF* 、
BCl3、BBr3、Fact、tv如きハl=f f
ン化合物;SO,あるいはN、 O,の如き非金属元
素の酸化物;あるいはH,504、HNO3又はHC1
0,の如き無機酸に由来する陰イオン等が好ましく用い
られる。Further, as the electron-accepting dopant, a substance that easily accepts electrons is used. For example, fluorine, chlorine, bromine, iodine]・mouth; AaF, , PF,, BF*,
BCl3, BBr3, Fact, tv-like ha=f f
SO, or oxides of nonmetallic elements such as N, O, or H, 504, HNO3, or HC1
Anions derived from inorganic acids such as 0.0, etc. are preferably used.
かかるドーパントのドーピング方法としては、ポリアセ
チレンあるいはポリフェニレンについて従来用いられて
いるドーピング法と本質的に同じ方法を使用することが
できる。As a doping method for such a dopant, essentially the same doping method as conventionally used for polyacetylene or polyphenylene can be used.
例えば、ドーパントがアルカリ金属の場合には、溶融し
たアルカリ金属あるいはアルカリ金属の蒸気と不溶不融
性基体とを接触せしめてドーピングすることができ、ま
た例えばテトラヒドロフラン中で生成せしめたアルカリ
金属ナフタレン錯体と不溶不融性基体とを接触せしめて
ドーーングすることもできる。For example, when the dopant is an alkali metal, the dopant can be doped by contacting the insoluble and infusible substrate with a molten alkali metal or vapor of the alkali metal, or with an alkali metal naphthalene complex formed in, for example, tetrahydrofuran. Doping can also be carried out by contacting an insoluble and infusible substrate.
ドーパントがハロダン、ノ10rン化合物!、bいは非
金属元素の酸化物である場合にはこれらのガスを不溶不
融性基体と接触せしめることにより、容易にドーピング
を行うことができる。The dopant is a halodan compound! , b or oxides of nonmetallic elements, doping can be easily carried out by bringing these gases into contact with an insoluble and infusible substrate.
ドーピング剤が無機酸に由来する陰イオンである場合に
は、無機酸を不溶不融性基体に直接塗布あるいは含浸せ
しめることによって行うことができる。When the doping agent is an anion derived from an inorganic acid, the doping can be carried out by directly coating or impregnating the insoluble and infusible substrate with the inorganic acid.
また、不溶不融性基体を電極としてセットし、電気化学
的に、リチウム、ナトリウム等の電子供与性ドーパント
あるいはCt O4″″、BF4″″等の電子受容性ド
ーノ1ントをドーピングすることも可能である。It is also possible to set the insoluble and infusible substrate as an electrode and electrochemically dope it with an electron-donating dopant such as lithium or sodium or an electron-accepting dopant such as CtO4'''' or BF4''''. It is.
上記の如く、本発明の不溶不融性基体は連通孔を有する
多孔体であるため、上記の如きガス状ドーノ臂ントある
いは浴液中のドーパントの拡散を容易とし、迅速に且つ
均一なドーピングを可能とする優れた利点を有する。As described above, since the insoluble and infusible substrate of the present invention is a porous body having communicating pores, it facilitates the diffusion of the dopant in the gaseous dopant or bath liquid as described above, and enables rapid and uniform doping. It has the great advantage of being possible.
また、本発明の不溶不融性基体はEET法による比表面
積値が大きいため、0104″、BF;、AsF5″″
の如きイオン半径の大きなドーパントもスムーズに且つ
均一にドーピングできる利点も有する。Furthermore, since the insoluble and infusible substrate of the present invention has a large specific surface area value determined by the EET method, 0104'', BF;, AsF5''''
It also has the advantage of being able to dope smoothly and uniformly even dopants with large ionic radii such as.
ドーピング剤は、一般に芳香族系縮合ポリマーの繰返し
単位に対して10−1モル以上の割合で、得られる本発
明の有機半導体に存在するように用いられる。The doping agent is generally used so that it is present in the obtained organic semiconductor of the present invention in a ratio of 10 -1 mol or more to the repeating unit of the aromatic condensation polymer.
かくして得られる本発明の有機半導体は、ドーピング前
の不溶不融性基体の電気伝導度(例えば1O−It〜1
01Ω″″1 ・画一1) よりも高い電気伝導度11
例えばドーピング前の不溶不融性基体よシも数倍ないし
1010倍に増大する。電子供与性ドーパントをドーピ
ングしたときにはn型半導体を与え、電子受容性ドーパ
ントをドーピングしたときにはp産生導体を与える。本
発明によればドー/臂ントとして電子供与性ドーパント
と電子受容性ドーパントとを一緒に用いることもできる
。The organic semiconductor of the present invention thus obtained has an electrical conductivity of the insoluble and infusible substrate before doping (for example, 1O-It to 1
01Ω″″1 ・Uniformity 1) Higher electrical conductivity than 11
For example, the thickness of the insoluble and infusible substrate before doping increases several to 1010 times. When doped with an electron-donating dopant, an n-type semiconductor is provided, and when doped with an electron-accepting dopant, a p-producing conductor is provided. According to the invention, it is also possible to use electron-donating and electron-accepting dopants together as dopants.
これらのドーパントが本発明の多孔性有機半導体にほぼ
均一に混在する場合にはいずれか一方の多く存在する方
のドーパントによってp型又はnfJlとなる。例えば
、電子供与性ドーパントが多く存在する場合にはn型と
なシ、電子受容性ドーパントが多く存在する場合にはp
mとなる。When these dopants are almost uniformly mixed in the porous organic semiconductor of the present invention, the porous organic semiconductor of the present invention becomes p-type or nfJl depending on which one of the dopants is more present. For example, if there are many electron-donating dopants, it will be n-type, and if there are many electron-accepting dopants, it will be p-type.
m.
本発明の多孔性有機半導体は耐熱性、耐酸化性に優れて
おり、またフィルム状、板状、円筒状等任意の形状とす
ることが可能なため実用性の高い材料である。The porous organic semiconductor of the present invention has excellent heat resistance and oxidation resistance, and can be formed into any shape such as a film, a plate, or a cylinder, making it a highly practical material.
本発明の多孔性有機半導体は、ポリアセン系骨格構造を
有する不溶不融性基体が連通孔を介して3次元網目状構
造を採っているため、該連通孔を通して流体が細部まで
自由に出入シし易い。連通孔の平均孔径は10μ倶以下
と微細であり、孔径の揃ったすなわち孔径分布のシャー
プな多孔体である。また平均孔径が0.1μ慣と極めて
微細な多孔体から平均孔径が10μm程度の多孔体まで
を得ることが出来るため、用途に応じて使い分けること
が可能である。In the porous organic semiconductor of the present invention, the insoluble and infusible substrate having a polyacene skeleton structure has a three-dimensional network structure through communicating pores, so that fluid can freely enter and exit fine details through the communicating pores. easy. The average pore diameter of the communicating pores is as fine as 10 μm or less, and the porous body has uniform pore diameters, that is, a sharp pore diameter distribution. In addition, it is possible to obtain porous bodies with an average pore diameter of about 10 μm, ranging from extremely fine porous bodies with an average pore diameter of 0.1 μm, so it is possible to use them depending on the purpose.
本発明の有機半導体のBET法による比表面積値は60
0m”71以上である。600惧”/y未満の場合には
C104−1BF、−1A a FS 等のイオン半
径の大きなビー/セントをスムーズにドーピングするの
が難しく、また後に示す様に活性吸着材として使用する
時、吸着量が低下し好ましくない。The specific surface area value of the organic semiconductor of the present invention by the BET method is 60
0m"71 or more. If it is less than 600"/y, it is difficult to smoothly dope be/cents with large ion radius such as C104-1BF, -1A a FS, etc., and as shown later, active adsorption When used as a material, the amount of adsorption decreases, which is undesirable.
本発明の多孔性有機半導体の微細な連通気孔と高い比表
面積値を利用して界面で生じる各種の化学反応を迅速に
進めることも可能である。例え ″ば電池の電極材等に
好適である。また各種の物理的吸着もスムーズに、均一
にしかも大量に生じるため、吸着材あるいは分離材とし
て好適である。It is also possible to rapidly proceed with various chemical reactions occurring at the interface by utilizing the fine interconnected pores and high specific surface area of the porous organic semiconductor of the present invention. For example, it is suitable for use as an electrode material for batteries, etc. Also, various physical adsorptions occur smoothly, uniformly, and in large quantities, so it is suitable as an adsorbent or a separation material.
更にH,0,0,等のガスの吸着によっても若干の電気
伝導度の変化が生じるため、センサー材としても好適に
用いることができる。Furthermore, adsorption of gases such as H, 0, 0, etc. causes a slight change in electrical conductivity, so it can be suitably used as a sensor material.
本発明の多孔性有機半導体の見掛は密度は、通常α2〜
α6g/1M1”である。換言すれば気孔率の高い多孔
体から比較的気孔率の低い多孔体まで、本発明の多孔性
有機半導体に包含される。多孔体の機械的強度は見掛は
密度によって変わるが、例えば0.2g/cys”の本
発明多孔体でも実用上、十分な強度を有している。また
本発明の多孔性有機半導体はポリアセン系骨格構造を有
した不溶不融性基体からなっているため、耐薬品性に優
れており、しかも微細な連通気孔を有しているので過酷
な条件下で使用する炉材としても好適である。The apparent density of the porous organic semiconductor of the present invention is usually α2~
α6g/1M1''.In other words, the porous organic semiconductor of the present invention ranges from porous bodies with high porosity to porous bodies with relatively low porosity.The mechanical strength of porous bodies is determined by the apparent density. For example, the porous material of the present invention with a strength of 0.2 g/cys" has sufficient strength for practical use. Furthermore, since the porous organic semiconductor of the present invention is composed of an insoluble and infusible substrate with a polyacene skeleton structure, it has excellent chemical resistance, and has fine interconnected pores, so it can withstand harsh conditions. It is also suitable as a furnace material for use in.
以上の様に本発明の多孔性有機半導体は耐熱性、耐酸化
性に優れ、しかも微細な連通気孔を有しているため電子
受容性あるいは電子供与性ドーパントが迅速にしかも均
一にドーピングできる有機半導体であシ、また化学的に
活性機能を有し、しかも機械的強度に優れたフィルム状
、板状等の任意の形状を採りうるため、多方面に応用出
来る産業上有用な材料である。As described above, the porous organic semiconductor of the present invention has excellent heat resistance and oxidation resistance, and has fine interconnected pores, so it can be quickly and uniformly doped with an electron-accepting or electron-donating dopant. It is an industrially useful material that can be applied in many fields because it has a chemically active function and can take any shape such as a film or plate with excellent mechanical strength.
なお、本明細書において、連通孔の平均孔径は次のよう
にして測定されまた定義される。In addition, in this specification, the average pore diameter of the communicating pores is measured and defined as follows.
試料について、例えば1000〜10,000倍で電子
顕微鏡写真を撮影する。この写真に任意の直線を引き、
その直線と交叉する孔の数をnとすると、平均孔径(d
)は下記式によシ算出される。An electron micrograph is taken of the sample at a magnification of, for example, 1000 to 10,000 times. Draw any straight line on this photo,
If the number of pores intersecting the straight line is n, then the average pore diameter (d
) is calculated using the following formula.
ここで、Liは直線が交叉する孔で切断される長さであ
シ1.Σit はn個の孔についてs=1
の該切断される長さの和であり、”は該直線と交叉する
孔の数である、但しnは10以上の値をとるものとする
。Here, Li is the length cut by the hole where the straight lines intersect.1. Σit is the sum of the cut lengths of n holes with s=1, and `` is the number of holes that intersect the straight line, provided that n takes a value of 10 or more.
実施例1
(1)水溶性レゾール(約60%濃度)/塩化亜鉛/水
を重量比で10/25/4の割合で混合した水溶液をフ
ィルムアプリケーターでガラス板上に成膜した。次に成
膜した水浴液上にガラス板を被せ水分が蒸発しないよう
にして約100℃の温度で1時間加熱して硬化させた。Example 1 (1) An aqueous solution containing water-soluble resol (approximately 60% concentration)/zinc chloride/water mixed in a weight ratio of 10/25/4 was formed into a film on a glass plate using a film applicator. Next, a glass plate was placed over the water bath liquid formed into the film, and the film was cured by heating at a temperature of about 100° C. for 1 hour to prevent moisture from evaporating.
該フェノール樹脂フィルムをシリコニット電気炉中に入
れ窒素気流下で40℃/時間の速度で昇温しで、450
℃まで熱処理を行った。次に該熱処理物を希塩酸で洗っ
た後、水洗し、その後乾燥することによってフィルム状
の多孔体を得た。該フィルムの厚みは約200μmであ
り、見掛は密度は約0.55y/crm”であり、機械
的強度に優れたフィルムであつ九。次に該フィルムの電
気伝導度を室温で直流4端子法で測定したところ1O−
7(Ω・crn)″1であった。また元素分析を行った
ところ水素原子/炭素原子の原子比は0.35でちった
。X線回折からのピークの形状はポリアセン系骨格構造
に基因するツクターンであり2θで20〜22℃付近に
ブロードなメインピークが存在し、また41〜4/16
’付近に小さなピークが確認された。The phenolic resin film was placed in a siliconite electric furnace and heated at a rate of 40°C/hour under a nitrogen stream to a temperature of 450°C.
Heat treatment was performed to ℃. Next, the heat-treated product was washed with dilute hydrochloric acid, then water, and then dried to obtain a film-like porous body. The thickness of the film is about 200 μm, and the apparent density is about 0.55 y/crm, making it a film with excellent mechanical strength.Next, the electrical conductivity of the film was measured at room temperature using four DC terminals. When measured by method, 1O-
7 (Ω・crn)″1. Elemental analysis also showed that the atomic ratio of hydrogen atoms/carbon atoms was 0.35. The shape of the peak from X-ray diffraction was due to the polyacene skeleton structure. There is a broad main peak around 20-22℃ at 2θ, and 41-4/16
'A small peak was confirmed nearby.
またBET法による比表面積値の測定を行ったところ2
,100m”/σと極めて大きな値であった。In addition, when we measured the specific surface area value using the BET method, 2
, 100 m''/σ, which was an extremely large value.
次に該フィルム状半導体の気孔状態を観察するため、フ
ィルム断面の電子顕微鏡写真をとった。Next, in order to observe the state of pores in the film-like semiconductor, an electron micrograph of a cross section of the film was taken.
第1図に示す。図から明らかなように3次元網目状構造
で、10μ怖以下の微細な連通気孔を有する多孔体であ
った。Shown in Figure 1. As is clear from the figure, it was a porous body with a three-dimensional network structure and fine interconnected pores of 10 μm or less in size.
(2)次に脱水したテトラヒドロフラン、ナフタレン及
び金属ナトリウムを用いてナトリウムナフタレートのテ
トラヒドロ7ラン溶液を作成した。(2) Next, a tetrahydro7 run solution of sodium naphthalate was prepared using dehydrated tetrahydrofuran, naphthalene, and metallic sodium.
ドライがツクス中にて、この溶液に上記したフィルム状
半導体を浸漬し、室温にて約1時間ドーピングした。そ
の後脱水したテトラヒドロフランにて洗浄し死後、減圧
下で約10時間乾燥した。乾燥試料の電気伝導度は約1
0′″m (Ω・aIM)″1であった。The film semiconductor described above was immersed in this solution in a dry atmosphere and doped at room temperature for about 1 hour. Thereafter, the body was washed with dehydrated tetrahydrofuran, and after death, it was dried under reduced pressure for about 10 hours. The electrical conductivity of the dry sample is approximately 1
0′″m (Ω・aIM)″1.
実施例2〜4
(1)実施例1と同様にして得た約200μm厚のフェ
ノール樹脂フィルムをシリコニット電気炉にて窒素気流
下約り0℃/時間の速度で昇温して第1表に示した種々
の所定温度まで加熱し、熱処理を行った。その後希塩酸
及び水にて洗浄し、乾燥することによって多孔状の半導
性フィルムを得た。得られた多孔状の半導体フィルムに
ついて元素分析、電気伝導度及びBET法による比表面
積値の測定を行った。結果はまとめて第1表に示す。Examples 2 to 4 (1) A phenol resin film with a thickness of about 200 μm obtained in the same manner as in Example 1 was heated at a rate of about 0° C./hour under a nitrogen stream in a siliconite electric furnace, and the temperature was as shown in Table 1. Heat treatment was performed by heating to various predetermined temperatures shown. Thereafter, it was washed with dilute hydrochloric acid and water and dried to obtain a porous semiconductive film. The obtained porous semiconductor film was subjected to elemental analysis, electrical conductivity, and measurement of specific surface area by BET method. The results are summarized in Table 1.
(2)次に充分に脱水したプロピレンカー−ネートにL
t C104を俗解させて約1.0モル/lの浴液と
した。そしてリチウム金属を陰極として上記した溶液を
電解液とし、多孔状の半導性フィルムを陽極として、両
極間に約4Vの電圧を印加して約1時間CL O4″イ
オンをドーピングした。ドーピング量は半導性フィルム
中の炭素原子1個当シのCLO4″イオンの数で表わす
こととした。本発明ではとのc t o、”イオンの数
はドーピング時に回路に流れた電流値よシ求めたもので
ある。この様にして得られたC t O,″″イオンド
ーピングされた多孔状のフィルムをア七トンにて洗浄し
、減圧乾燥した後、電気伝導度を測定した。結果は第1
表に示す。(2) Next, add L to the sufficiently dehydrated propylene carnate.
tC104 was roughly understood to be a bath liquid with a concentration of about 1.0 mol/l. Then, with lithium metal used as a cathode, the above solution used as an electrolyte, and a porous semiconductive film used as an anode, a voltage of about 4 V was applied between the two electrodes, and CLO4'' ions were doped for about 1 hour.The amount of doping was It is expressed as the number of CLO4'' ions per carbon atom in the semiconductor film. In the present invention, the number of C t O,'' ions is determined based on the current value flowing through the circuit during doping. After washing the film with A7Ton and drying it under reduced pressure, the electrical conductivity was measured.The results are as follows.
Shown in the table.
本発明の多孔性半導体は微細な連通孔を有する構造であ
シ、かつBET法による比表面積値が極めて高いため、
短時間にてイオン半径の大きいCt O4−イオンをス
ムーズにドーピング出来た。The porous semiconductor of the present invention has a structure with fine communicating pores, and has an extremely high specific surface area value measured by the BET method.
CtO4- ions with a large ionic radius could be doped smoothly in a short time.
第1図は本発明の多孔性有機半導体フィルムの断面の電
顕写真である。写真中、右下に示す棒線の長さは5μで
ある。
はか1名
手続補正書(旗)
昭和60年7月25日FIG. 1 is an electron micrograph of a cross section of the porous organic semiconductor film of the present invention. The length of the bar shown at the bottom right of the photo is 5μ. Written amendment to procedures for one person (flag) July 25, 1985
Claims (1)
とアルデヒド類との縮合物である芳香族系縮合ポリマー
の熱処理物であつて、 (a)水素原子/炭素原子の原子比が0.6〜0.05
であるポリアセン系骨格構造を有し、 (b)BET法による比表面積値が少くとも600m^
2/gであり、そして (c)平均孔径10μm以下の連通孔を持つことを特徴
とする多孔性有機半導体。 2、芳香族系縮合ポリマーがフェノールとホルムアルデ
ヒドとの縮合物である特許請求の範囲第1項に記載の多
孔性有機半導体。 3、水素原子/炭素原子の原子比が0.5〜0.15で
ある特許請求の範囲第1項に記載の多孔性有機半導体。 4、BET法による比表面積値が800〜3.000m
^2/gである特許請求の範囲第1項に記載の多孔性有
機半導体。 5、平均孔径0.03〜10μmの多数の連通孔を持つ
特許請求の範囲第1項に記載の多孔性有機半導体。 6、酸素原子(O)/炭素原子(C)の原子比が0.0
6以下であるポリアセン系骨格構造を有する、特許請求
の範囲第1項に記載の多孔性有機半導体。 7、熱処理物が多数の連通孔を介して3次元網目構造を
示す特許請求の範囲第1項に記載の多孔性有機半導体。 8、多孔性有機半導体がフィルム、板、繊維又はそれら
の複合体である特許請求の範囲第1項に記載の多孔性有
機半導体。 9、(A)フェノール性水酸基を有する芳香族炭化水素
化合物とアルデヒド類との縮合物である芳香族系縮合ポ
リマーの熱処理物であつて、(a)水素原子/炭素原子
の原子比が0.6〜0.05であるポリアセン系骨格構
造を有し、(b)BET法による比表面積値が少くとも
600m^2/gであり、そして(c)平均孔径10μ
m以下の連通孔を持つ多孔性不溶不融性基体、および (B)電子供与性ドーパント及び/または電子受容性ド
ーパント から成ることを特徴とする多孔性有機半導体。 10、上記多孔性不溶不融性基体(A)の電気伝導性よ
りも大きい電気伝導性を示す特許請求の範囲第9項に記
載の多孔性有機半導体。 11、電子供与性ドーパントがリチウム、ナトリウム、
カリウム、ルビジウム及びセシウムを含む第1A族金属
である特許請求の範囲第9項に記載の多孔性有機半導体
。 12、電子供与性ドーパントがテトラ(C_1〜C_■
低級アルキル)アンモニウムカチオンである特許請求の
範囲第9項に記載の多孔性有機半導体。 13、電子受容性ドーパントがAsF_5、PF_5、
BF_3、BCl_3、BBr_3、FeCl_3の如
きハロゲン化物である特許請求の範囲第9項に記載の多
孔性有機半導体。 14、電子受容性ドーパントがフッ素、塩素、臭素、ヨ
ウ素の如きハロゲンである特許請求の範囲第9項に記載
の多孔性有機半導体。 15、電子受容性ドーパントがSO_3あるいはN_2
O_5の如き非金属元素の酸化物又はH_2SO_4、
BNO_3あるいはBClO_4の如き無機酸に由来す
る陰イオンである特許請求の範囲第9項に記載の多孔性
有機半導体。[Scope of Claims] 1. A heat-treated product of an aromatic condensation polymer which is a condensation product of an aromatic hydrocarbon compound having a phenolic hydroxyl group and an aldehyde, comprising: (a) an atomic ratio of hydrogen atoms/carbon atoms; is 0.6 to 0.05
(b) has a specific surface area value of at least 600 m^ by the BET method;
2/g, and (c) having communicating pores with an average pore diameter of 10 μm or less. 2. The porous organic semiconductor according to claim 1, wherein the aromatic condensation polymer is a condensate of phenol and formaldehyde. 3. The porous organic semiconductor according to claim 1, wherein the atomic ratio of hydrogen atoms/carbon atoms is 0.5 to 0.15. 4.Specific surface area value by BET method is 800-3.000m
The porous organic semiconductor according to claim 1, which has a ^2/g. 5. The porous organic semiconductor according to claim 1, which has a large number of communicating pores with an average pore diameter of 0.03 to 10 μm. 6. The atomic ratio of oxygen atom (O)/carbon atom (C) is 0.0
The porous organic semiconductor according to claim 1, having a polyacene skeleton structure of 6 or less. 7. The porous organic semiconductor according to claim 1, wherein the heat-treated product exhibits a three-dimensional network structure through a large number of communicating pores. 8. The porous organic semiconductor according to claim 1, wherein the porous organic semiconductor is a film, plate, fiber, or a composite thereof. 9. (A) A heat-treated product of an aromatic condensation polymer which is a condensation product of an aromatic hydrocarbon compound having a phenolic hydroxyl group and an aldehyde, wherein (a) the atomic ratio of hydrogen atoms/carbon atoms is 0. 6 to 0.05, (b) the specific surface area value by BET method is at least 600 m^2/g, and (c) the average pore size is 10 μ
A porous organic semiconductor characterized by comprising a porous insoluble and infusible substrate having communicating pores of m or less, and (B) an electron-donating dopant and/or an electron-accepting dopant. 10. The porous organic semiconductor according to claim 9, which exhibits electrical conductivity greater than that of the porous insoluble and infusible substrate (A). 11. The electron-donating dopant is lithium, sodium,
10. The porous organic semiconductor according to claim 9, which is a Group 1A metal including potassium, rubidium and cesium. 12. The electron-donating dopant is tetra(C_1~C_■
The porous organic semiconductor according to claim 9, which is a lower alkyl) ammonium cation. 13. The electron-accepting dopant is AsF_5, PF_5,
The porous organic semiconductor according to claim 9, which is a halide such as BF_3, BCl_3, BBr_3, FeCl_3. 14. The porous organic semiconductor according to claim 9, wherein the electron-accepting dopant is a halogen such as fluorine, chlorine, bromine, or iodine. 15. Electron accepting dopant is SO_3 or N_2
oxides of non-metallic elements such as O_5 or H_2SO_4,
The porous organic semiconductor according to claim 9, which is an anion derived from an inorganic acid such as BNO_3 or BClO_4.
Priority Applications (6)
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---|---|---|---|
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EP86104063A EP0196055B1 (en) | 1985-03-25 | 1986-03-25 | Porous article having open pores prepared from aromatic condensation polymer and use thereof |
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JPS5869234A (en) * | 1981-10-21 | 1983-04-25 | Kanebo Ltd | Organic semiconductor and its production |
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