JPS61216323A - 電子像転写方法 - Google Patents
電子像転写方法Info
- Publication number
- JPS61216323A JPS61216323A JP60025605A JP2560585A JPS61216323A JP S61216323 A JPS61216323 A JP S61216323A JP 60025605 A JP60025605 A JP 60025605A JP 2560585 A JP2560585 A JP 2560585A JP S61216323 A JPS61216323 A JP S61216323A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mask
- film
- substrate
- mask pattern
- light
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- H10P95/00—
Landscapes
- Electron Beam Exposure (AREA)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60025605A JPS61216323A (ja) | 1985-02-13 | 1985-02-13 | 電子像転写方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60025605A JPS61216323A (ja) | 1985-02-13 | 1985-02-13 | 電子像転写方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61216323A true JPS61216323A (ja) | 1986-09-26 |
| JPH0210565B2 JPH0210565B2 (enExample) | 1990-03-08 |
Family
ID=12170531
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60025605A Granted JPS61216323A (ja) | 1985-02-13 | 1985-02-13 | 電子像転写方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61216323A (enExample) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5936928A (ja) * | 1982-08-25 | 1984-02-29 | Toshiba Corp | 電子ビ−ム転写装置 |
| JPS59227122A (ja) * | 1983-05-25 | 1984-12-20 | エヌ・ベ−・フイリツプス・フル−イランペンフアブリケン | 電子リソグラフイ−マスクの製造方法及びその装置 |
-
1985
- 1985-02-13 JP JP60025605A patent/JPS61216323A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5936928A (ja) * | 1982-08-25 | 1984-02-29 | Toshiba Corp | 電子ビ−ム転写装置 |
| JPS59227122A (ja) * | 1983-05-25 | 1984-12-20 | エヌ・ベ−・フイリツプス・フル−イランペンフアブリケン | 電子リソグラフイ−マスクの製造方法及びその装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0210565B2 (enExample) | 1990-03-08 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5395738A (en) | Electron lithography using a photocathode | |
| KR920005634B1 (ko) | 광전자 마스크 및 그것을 사용한 광전자 전사노광방법 | |
| JPH03176953A (ja) | レーザ励起式高電流密度形の電子ビーム発生器 | |
| US4652762A (en) | Electron lithography mask manufacture | |
| US4789786A (en) | Method of projecting photoelectron image | |
| EP0257528B1 (en) | Photo cathodes for electron image projection | |
| JPS61216323A (ja) | 電子像転写方法 | |
| JPH07254539A (ja) | 電子ビーム露光装置 | |
| JPH01150139A (ja) | デバイスのマスク修正プロセスとマスク | |
| JPS63155726A (ja) | 光電子転写用マスクおよびその製造方法 | |
| JPS62145816A (ja) | 光電子像転写装置 | |
| JPS6350853B2 (enExample) | ||
| JPS60106131A (ja) | 電子ビ−ム露光方法 | |
| JP2003234268A (ja) | 露光装置 | |
| JPS61129826A (ja) | 光電子像の転写方法 | |
| JPS6292444A (ja) | 光電子像転写方法 | |
| JPS5961135A (ja) | 電子ビ−ム転写装置 | |
| JPH0520891B2 (enExample) | ||
| JPS63156319A (ja) | 光電子転写用マスクおよびその製造方法 | |
| JPS63177517A (ja) | イオン・ビ−ム露光法 | |
| JPH02114627A (ja) | 光電子露光法 | |
| JPS61114528A (ja) | 電子ビ−ム転写露光方法 | |
| JPS635561A (ja) | 光電子ビ−ム転写方法 | |
| JPS61150328A (ja) | 電子ビ−ム転写装置 | |
| JPH01168024A (ja) | 光電子転写用マスクおよびその製造方法 |