JPS61209902A - 水素ガスの精製方法 - Google Patents
水素ガスの精製方法Info
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- JPS61209902A JPS61209902A JP4915185A JP4915185A JPS61209902A JP S61209902 A JPS61209902 A JP S61209902A JP 4915185 A JP4915185 A JP 4915185A JP 4915185 A JP4915185 A JP 4915185A JP S61209902 A JPS61209902 A JP S61209902A
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- Japan
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- hydrogen gas
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は水素ガスの精製方法に関するものであり、特に
カルシウムイオンを交換したモルデナイト型ゼオライト
を用いた改良された水素ガスの精製方法を提供するもの
である。
カルシウムイオンを交換したモルデナイト型ゼオライト
を用いた改良された水素ガスの精製方法を提供するもの
である。
水素ガスの重要性とその価値は、現在の産業界において
は非常に大きく、化学工業のみならず、特に半導体工業
及び電子工業における重要性はますます大きくなってい
る。ところでこれらの工業分野で用いられる水素ガスは
不純物の少ない高純度(例えば純度99.999%)あ
るいは超高純度(例えば純度99.9999%)と言わ
れるグレードのものが用いられる。
は非常に大きく、化学工業のみならず、特に半導体工業
及び電子工業における重要性はますます大きくなってい
る。ところでこれらの工業分野で用いられる水素ガスは
不純物の少ない高純度(例えば純度99.999%)あ
るいは超高純度(例えば純度99.9999%)と言わ
れるグレードのものが用いられる。
これらの精製水素ガスを得る為の原料水素ガス中には微
量の水分、酸素、窒素、炭酸ガス等が含まれているが、
これらの不純物を取り除いて純度を上げる方法として、
一般にはパラジウム拡散法、深冷分離法、膜分離法、吸
着分離法などがあり、不純物組成、濃度、要求精製度な
どの観点から最適法が選択される。これらの中では活性
アルミナ、シリカゲル、活性炭、ゼオライトなどの吸着
剤を用いる方法が操作性、経済性等の観点から優れた方
法として提案されている。しかしながら、これらの吸着
剤は常温付近の温度においては不純物に対する吸着容量
が小さく、特に吸着されにくい低濃度の窒素ガス等につ
いては十分に吸着除去出来ない場合が多い。したがって
さらに高い精製度を要求されるような水素ガスを得るた
めには液体窒素温度(−196℃)まで冷却した吸着剤
層に水素ガスを流通する方法が採用されている。そして
この吸着剤は極低温下で、一定時間使用後、一般に20
0〜350℃に加熱され、精製した水素ガス流通下で再
生される。したがって吸着時と再生時の温度差が非常に
大きい為エネルギーの損失が大きいばかりでなく、吸着
塔が受ける熱ストレスが大きいので使用される材料や加
工技術に特別の工夫を要し、建設費が非常に高くなると
いう欠点を有している。
量の水分、酸素、窒素、炭酸ガス等が含まれているが、
これらの不純物を取り除いて純度を上げる方法として、
一般にはパラジウム拡散法、深冷分離法、膜分離法、吸
着分離法などがあり、不純物組成、濃度、要求精製度な
どの観点から最適法が選択される。これらの中では活性
アルミナ、シリカゲル、活性炭、ゼオライトなどの吸着
剤を用いる方法が操作性、経済性等の観点から優れた方
法として提案されている。しかしながら、これらの吸着
剤は常温付近の温度においては不純物に対する吸着容量
が小さく、特に吸着されにくい低濃度の窒素ガス等につ
いては十分に吸着除去出来ない場合が多い。したがって
さらに高い精製度を要求されるような水素ガスを得るた
めには液体窒素温度(−196℃)まで冷却した吸着剤
層に水素ガスを流通する方法が採用されている。そして
この吸着剤は極低温下で、一定時間使用後、一般に20
0〜350℃に加熱され、精製した水素ガス流通下で再
生される。したがって吸着時と再生時の温度差が非常に
大きい為エネルギーの損失が大きいばかりでなく、吸着
塔が受ける熱ストレスが大きいので使用される材料や加
工技術に特別の工夫を要し、建設費が非常に高くなると
いう欠点を有している。
このような欠点を改良する為に種々の改良方法、すなわ
ち吸着剤の改良や再生方法の工夫がなされている。
ち吸着剤の改良や再生方法の工夫がなされている。
特公昭46−37162号公報に開示された方法におい
ては陽イオンの一部をマグネシウムイオンと交換したモ
ルデナイトがその他のイオンと交換したものよりも窒素
吸着容量が高い事を示している。本公報の実施例で試験
された範囲内の条件下においては確かにマグネシウムイ
オン交換体の優位性は認められるものの、その吸着容量
は小さく実用的吸着剤としては用い難い。
ては陽イオンの一部をマグネシウムイオンと交換したモ
ルデナイトがその他のイオンと交換したものよりも窒素
吸着容量が高い事を示している。本公報の実施例で試験
された範囲内の条件下においては確かにマグネシウムイ
オン交換体の優位性は認められるものの、その吸着容量
は小さく実用的吸着剤としては用い難い。
また、特開昭59−147618号公報に記載されてい
る方法は再生方法を工夫することによって効率的に水素
ガスの精製が行えることを開示しているが、本公報で用
いられている吸着剤及びその使用条件下では同様に吸着
容量は小さい。
る方法は再生方法を工夫することによって効率的に水素
ガスの精製が行えることを開示しているが、本公報で用
いられている吸着剤及びその使用条件下では同様に吸着
容量は小さい。
〔当該発明が解決しようとする問題点〕このような実情
から、水素ガス中の微量不純物を吸着除去するに際して
、実用に耐え得る高い吸着容量を持つ吸着剤と併せてそ
の使用方法の開発が望まれている。すなわち、高純度水
素ガスの中でも特に半導体工業及び電子工業分野で用い
られる水素ガスは高い精製度が要求されている。本発明
は特に水素ガス中の微量窒素を工業的、経済的にも満足
し得る条件で、前記工業分野で用いられる超高純度(例
えば純度99.9999%)あるいはそれ以上の純度の
水素ガスを有効に製造する方法を提供するものである。
から、水素ガス中の微量不純物を吸着除去するに際して
、実用に耐え得る高い吸着容量を持つ吸着剤と併せてそ
の使用方法の開発が望まれている。すなわち、高純度水
素ガスの中でも特に半導体工業及び電子工業分野で用い
られる水素ガスは高い精製度が要求されている。本発明
は特に水素ガス中の微量窒素を工業的、経済的にも満足
し得る条件で、前記工業分野で用いられる超高純度(例
えば純度99.9999%)あるいはそれ以上の純度の
水素ガスを有効に製造する方法を提供するものである。
本発明者等は長年にわたりゼオライトの結晶構造及びそ
の吸着特性、特にゼオライトに含有される陽イオン種と
吸着特性の変化等について鋭意研究を進めてきた結果、
カルシウムイオン交換したモルデナイト型ゼオライトが
低温において極めて高い窒素吸着容量を示し、窒素吸着
剤特に水素精製用吸着剤として極めて優れている事を見
出し本発明を完成させるに至った。
の吸着特性、特にゼオライトに含有される陽イオン種と
吸着特性の変化等について鋭意研究を進めてきた結果、
カルシウムイオン交換したモルデナイト型ゼオライトが
低温において極めて高い窒素吸着容量を示し、窒素吸着
剤特に水素精製用吸着剤として極めて優れている事を見
出し本発明を完成させるに至った。
本発明に用いられるモルデナイト型ゼオライトは無水基
準において一般式 %式% (ここでnは金属イオンMの原子価) で表わされる組成を有し、その結晶構造は約7人の有効
細孔径を有する一次元細孔を持つことで特徴づけること
が出来る。またその固有の結晶構造はX線回折図により
他のゼオライトとは明瞭に区別することが出来る。モル
デナイト型ゼオライトは天然に産出するものと合成によ
って得られるものとがあるが、純度及び品質の安定性の
点から本発明の目的の為には合成品を用いることが好ま
しい。合成モルデナイトは一般に上式中のMがNaで表
わされるナトリウム型で得られるが、本発明に用いられ
るモルデナイトは上式中のMの一部がCaで表わされる
カルシウムイオン交換型が用いられる。
準において一般式 %式% (ここでnは金属イオンMの原子価) で表わされる組成を有し、その結晶構造は約7人の有効
細孔径を有する一次元細孔を持つことで特徴づけること
が出来る。またその固有の結晶構造はX線回折図により
他のゼオライトとは明瞭に区別することが出来る。モル
デナイト型ゼオライトは天然に産出するものと合成によ
って得られるものとがあるが、純度及び品質の安定性の
点から本発明の目的の為には合成品を用いることが好ま
しい。合成モルデナイトは一般に上式中のMがNaで表
わされるナトリウム型で得られるが、本発明に用いられ
るモルデナイトは上式中のMの一部がCaで表わされる
カルシウムイオン交換型が用いられる。
合成モデルナイト中のナトリウムイオンをカルシウムイ
オンで交換する方法はいかなる方法であってもよいが、
一般にはナトリウム型モデルナイトを塩化カルシウムの
ごとき水溶性塩の水溶液中に入れてイオン交換を行う。
オンで交換する方法はいかなる方法であってもよいが、
一般にはナトリウム型モデルナイトを塩化カルシウムの
ごとき水溶性塩の水溶液中に入れてイオン交換を行う。
イオン交換を行う際はモデルナイトを含むイオン交換水
溶液を、例えば80℃の温度に加温しながら十分時間接
触させて、イオン交換平衡状態に到達させる事が好まし
い。この条件を満足する方法として、モルデナイト粉末
をイオン交換する場合にはカルシウムイオンを含む水溶
液中にモルデナイト粉末を入れて加温したスラリーを十
分時間攪拌する方法が挙げられる。また、モルデナイト
粉末を結合剤と共に成型し焼成した成形体をイオン交換
する場合には、この成形体をカラムに充填して加温した
カルシウムイオンを含む水溶液をカラムの一方から流通
する流通法も採用することが出来る。
溶液を、例えば80℃の温度に加温しながら十分時間接
触させて、イオン交換平衡状態に到達させる事が好まし
い。この条件を満足する方法として、モルデナイト粉末
をイオン交換する場合にはカルシウムイオンを含む水溶
液中にモルデナイト粉末を入れて加温したスラリーを十
分時間攪拌する方法が挙げられる。また、モルデナイト
粉末を結合剤と共に成型し焼成した成形体をイオン交換
する場合には、この成形体をカラムに充填して加温した
カルシウムイオンを含む水溶液をカラムの一方から流通
する流通法も採用することが出来る。
イオン交換後、モルデナイトを十分洗浄し、乾燥してカ
ルシウムイオン交換モルデナイトを得る。本発明に用い
られるカルシウムイオン交換モルデナイトのカルシウム
イオン交換率は30%以上、好ましくは60%以上のも
のが用いられる。
ルシウムイオン交換モルデナイトを得る。本発明に用い
られるカルシウムイオン交換モルデナイトのカルシウム
イオン交換率は30%以上、好ましくは60%以上のも
のが用いられる。
このようにして得られたカルシウムイオン交換モルデナ
イトは成形体の形で用いられるのが一般的であり、粉末
状の場合は適当な結合剤を用いて球状または円柱状、あ
るいはその他の所望の形状に成形した後焼成を行って成
形体に十分な機械的強度を賦与すると同時にモルデナイ
トの脱水・活性化を行う。この際の焼成は一般的に50
0〜100℃の範囲の温度で行われる。また、モルデナ
イト成形体をカルシウムイオン交換した場合にはイオン
交換、洗滌、乾燥後脱水・活性化を行う。活性化は一般
的に300〜500℃の温度で行われる。
イトは成形体の形で用いられるのが一般的であり、粉末
状の場合は適当な結合剤を用いて球状または円柱状、あ
るいはその他の所望の形状に成形した後焼成を行って成
形体に十分な機械的強度を賦与すると同時にモルデナイ
トの脱水・活性化を行う。この際の焼成は一般的に50
0〜100℃の範囲の温度で行われる。また、モルデナ
イト成形体をカルシウムイオン交換した場合にはイオン
交換、洗滌、乾燥後脱水・活性化を行う。活性化は一般
的に300〜500℃の温度で行われる。
このようにして活性化されたカルシウムイオン交換モル
デナイト成形体を原料水素ガスと接触させることによっ
て微量の窒素ガスの吸着除去を行う。この方法は特に限
定されるものではないが、一般的には吸着塔に充填され
た吸着層に原料水素ガスを流通させる方法が採用される
。
デナイト成形体を原料水素ガスと接触させることによっ
て微量の窒素ガスの吸着除去を行う。この方法は特に限
定されるものではないが、一般的には吸着塔に充填され
た吸着層に原料水素ガスを流通させる方法が採用される
。
また必要に応じて、吸着剤を充填した状態で原料水素ガ
スを流通させる前に再度、脱水・活性化を行う。その場
合にはヘリウム、水素ガスなどを流通しながら、あるい
は真空下で300〜500℃の温度で活性化される。
スを流通させる前に再度、脱水・活性化を行う。その場
合にはヘリウム、水素ガスなどを流通しながら、あるい
は真空下で300〜500℃の温度で活性化される。
本発明で用いられる原料水素は水または食塩水電解ガス
、アンモニア分解ガス、コークス炉ガスなどいかなる方
法で製造されたものであっても使用できるが、その窒素
濃度が低いもの、特に1000容量 ppm以下のもの
が適している。
、アンモニア分解ガス、コークス炉ガスなどいかなる方
法で製造されたものであっても使用できるが、その窒素
濃度が低いもの、特に1000容量 ppm以下のもの
が適している。
次いで活性化された吸着剤層に原料水素ガスを流通して
精製を行う際には吸着塔を−70〜−10℃、好ましく
は−60〜−30℃に冷部する。
精製を行う際には吸着塔を−70〜−10℃、好ましく
は−60〜−30℃に冷部する。
さらに水素ガスの圧力は常圧〜150Kg/CIiの範
囲の圧力である。
囲の圧力である。
一10℃よりも高い温度では吸着容量が非常に小さくな
るので実用的な条件ではない。また−70℃よりも低い
温度にすれば吸着容量は増大すると考えられるが、−7
0℃よりも低い温度に冷却する為には大がかりな冷却装
置が必要となるので経済的に有利な方法とはなり得ない
。したがって本発明の好ましい吸着条件は、上記範囲内
において比較的高い圧力と比較的低い温度の組み合わせ
である。このような条件を組み合わせることによって従
来にはなかった高い吸着容量を保持しかつ経済性にも優
れた水素ガスの精製方法を実現することが出来る。
るので実用的な条件ではない。また−70℃よりも低い
温度にすれば吸着容量は増大すると考えられるが、−7
0℃よりも低い温度に冷却する為には大がかりな冷却装
置が必要となるので経済的に有利な方法とはなり得ない
。したがって本発明の好ましい吸着条件は、上記範囲内
において比較的高い圧力と比較的低い温度の組み合わせ
である。このような条件を組み合わせることによって従
来にはなかった高い吸着容量を保持しかつ経済性にも優
れた水素ガスの精製方法を実現することが出来る。
〔作用及びその効果〕
すなわち、本発明の方法によれば、
(1)イオン交換可能な陽イオンの30%以上をカルシ
ウムイオンで交換したモルデナイト型ゼオライトを用い
、 (2)−70〜−10℃の温度で、常圧〜150Kg/
c!iの圧力下で吸着処理をする ことによって高純度の水素ガスを得ることが出来る。
ウムイオンで交換したモルデナイト型ゼオライトを用い
、 (2)−70〜−10℃の温度で、常圧〜150Kg/
c!iの圧力下で吸着処理をする ことによって高純度の水素ガスを得ることが出来る。
本発明において用いられるカルシウムイオン交換モルデ
ナイトを得る為の原料であるナトリウム型モルデナイト
は一般に窒素ガスに対する親和性が強く吸着容量が大き
いことが知られている。しかしながら吸着容量が大きい
のは窒素ガスの分圧が比較的高い場合であって、本発明
の目的とする水素ガス中の低濃度の窒素ガス分圧に相当
するような低分圧領域においては、工業的吸着剤として
用い得る程大きな吸着容量を示さない。
ナイトを得る為の原料であるナトリウム型モルデナイト
は一般に窒素ガスに対する親和性が強く吸着容量が大き
いことが知られている。しかしながら吸着容量が大きい
のは窒素ガスの分圧が比較的高い場合であって、本発明
の目的とする水素ガス中の低濃度の窒素ガス分圧に相当
するような低分圧領域においては、工業的吸着剤として
用い得る程大きな吸着容量を示さない。
一方、本発明に用いられるイオン交換可能な陽イオンの
30%以上をカルシウムイオンで交換したモルデナイト
では、窒素ガス分圧が高い場合にはナトリウム型やその
他のイオン交換モルデナイトよりも低い吸着容量を示す
が、ある範囲の低分圧領域でかつ低い温度領域では逆に
どのイオン交換モルデナイトよりも高い吸着容量を示す
ことが本発明者らによって見出された。
30%以上をカルシウムイオンで交換したモルデナイト
では、窒素ガス分圧が高い場合にはナトリウム型やその
他のイオン交換モルデナイトよりも低い吸着容量を示す
が、ある範囲の低分圧領域でかつ低い温度領域では逆に
どのイオン交換モルデナイトよりも高い吸着容量を示す
ことが本発明者らによって見出された。
低温低圧領域におけるゼオライトの吸着特性の変化はぜ
オライドの一般的特性ではなく、モルデナイト型ゼオラ
イトの結晶構造とカルシウムイオンの組み合せによるも
のと推定される。このような低温低圧領域においては、
交換可能な陽イオンの一部をカルシウムイオンで交換す
れば交換率の上昇と共に吸着容量が増加するが、その交
換率が30%よりも小さいと工業的に用いて有利な程高
い吸着容量を示さない。しかしながら30%以上、特に
60%以上で吸着容量が非常に大きくなるので、好まし
くは60%以上の交換率のものが用いられる。
オライドの一般的特性ではなく、モルデナイト型ゼオラ
イトの結晶構造とカルシウムイオンの組み合せによるも
のと推定される。このような低温低圧領域においては、
交換可能な陽イオンの一部をカルシウムイオンで交換す
れば交換率の上昇と共に吸着容量が増加するが、その交
換率が30%よりも小さいと工業的に用いて有利な程高
い吸着容量を示さない。しかしながら30%以上、特に
60%以上で吸着容量が非常に大きくなるので、好まし
くは60%以上の交換率のものが用いられる。
原料水素ガスを加圧することは、窒素ガス濃度が低い場
合、その分圧を本発明のカルシウムイオン交換モルデナ
イトが大きな吸着容量を示す圧力領域に合せる操作であ
る。前記したように低分圧領域でかつ低い温度領域で窒
素ガスに対して大きな吸着容量を示すのが本発明に用い
られる吸着剤の特徴であり、その濃度に応じて常圧〜1
50Kg/Cdに加圧すれば原料水素ガス中の窒素ガス
の分圧は大きな窒素吸着容量を示す圧力領域に入ること
となる。また、水素ガス圧力を必要以上に上げる事は装
置上、経済上の困難を伴うので、この点からも実用的圧
力範囲は上記の範囲となる。
合、その分圧を本発明のカルシウムイオン交換モルデナ
イトが大きな吸着容量を示す圧力領域に合せる操作であ
る。前記したように低分圧領域でかつ低い温度領域で窒
素ガスに対して大きな吸着容量を示すのが本発明に用い
られる吸着剤の特徴であり、その濃度に応じて常圧〜1
50Kg/Cdに加圧すれば原料水素ガス中の窒素ガス
の分圧は大きな窒素吸着容量を示す圧力領域に入ること
となる。また、水素ガス圧力を必要以上に上げる事は装
置上、経済上の困難を伴うので、この点からも実用的圧
力範囲は上記の範囲となる。
上記のような条件を組み合わせることにより、吸着容量
が増大する結果、大量の水素ガスを処理できるのみなら
ず、精製ガス中の、窒素濃度が非常に低い事も本発明の
大きな特徴であり、窒素濃度081ppffl以下の水
素ガスを得ることも可能である。
が増大する結果、大量の水素ガスを処理できるのみなら
ず、精製ガス中の、窒素濃度が非常に低い事も本発明の
大きな特徴であり、窒素濃度081ppffl以下の水
素ガスを得ることも可能である。
次いで、出口ガス中の窒素濃度が増加し始めた時点で水
素ガスの流通を止め、吸着剤の再生を行って繰返し使用
することが出来る。その再生方法は、例えば吸着圧力を
維持したまま吸着剤の温度を室温または100℃未満程
度の温度にう 加熱しながら、精製水素ガスを原料水素とは逆の方向か
ら流通することによって容易に可能である。このような
再生方法を用いた場合の再生ガスの必要量は水素ガスの
要求精製度にもよるが精製ガス量の数%程度であり非常
に効率が良い事も本発明の特徴である。
素ガスの流通を止め、吸着剤の再生を行って繰返し使用
することが出来る。その再生方法は、例えば吸着圧力を
維持したまま吸着剤の温度を室温または100℃未満程
度の温度にう 加熱しながら、精製水素ガスを原料水素とは逆の方向か
ら流通することによって容易に可能である。このような
再生方法を用いた場合の再生ガスの必要量は水素ガスの
要求精製度にもよるが精製ガス量の数%程度であり非常
に効率が良い事も本発明の特徴である。
以下実施例においてさらに詳細に説明する。
実施例中、rppmJは容量による。
実施例1
Si Oz /A、e203比=10のナトリウム型合
成モルデナイト粉末を60℃に加温した20wt%塩化
カルシウム水溶液中に入れ、2時間攪拌した後置液分離
し、固形物を十分洗浄した。このイオン交換操作を3回
繰返してカルシウムイオン交換率66%のモルデナイト
を得た。このカルシウムイオン交換モルデナイト粉末を
粘土質バインダーと共に混合し、成形、焼成して直径1
.5+s+の円柱状ペレットを得た。
成モルデナイト粉末を60℃に加温した20wt%塩化
カルシウム水溶液中に入れ、2時間攪拌した後置液分離
し、固形物を十分洗浄した。このイオン交換操作を3回
繰返してカルシウムイオン交換率66%のモルデナイト
を得た。このカルシウムイオン交換モルデナイト粉末を
粘土質バインダーと共に混合し、成形、焼成して直径1
.5+s+の円柱状ペレットを得た。
このカルシウムイオン交換モルデナイト成形体を内径2
5Mのステンレス製吸着塔に充填した後、ヘリウムガス
流通下で350℃で3時間活性化を行った。吸着塔を放
冷後、さらに−50℃まで冷却し、濃度135ppmの
窒素ガスを含有する水素ガスを100Kg/cIdに加
圧してS V = 2000/H「で吸着剤層に流通し
た。精製水素ガス中の窒素濃度をガスクロマトグラフに
より追跡し、窒素ガス濃度がlppmとなった時点を破
過点として破過点までの水素ガス精製容量から窒素ガス
吸着容量を求めた。また、吸着圧力を変えた事以外は全
く同様の事を繰返して、水素ガス圧力が50及び10K
g/cdの場合の窒素ガス吸着容量を求めた。結果を第
1表に示す。
5Mのステンレス製吸着塔に充填した後、ヘリウムガス
流通下で350℃で3時間活性化を行った。吸着塔を放
冷後、さらに−50℃まで冷却し、濃度135ppmの
窒素ガスを含有する水素ガスを100Kg/cIdに加
圧してS V = 2000/H「で吸着剤層に流通し
た。精製水素ガス中の窒素濃度をガスクロマトグラフに
より追跡し、窒素ガス濃度がlppmとなった時点を破
過点として破過点までの水素ガス精製容量から窒素ガス
吸着容量を求めた。また、吸着圧力を変えた事以外は全
く同様の事を繰返して、水素ガス圧力が50及び10K
g/cdの場合の窒素ガス吸着容量を求めた。結果を第
1表に示す。
実施例2
実施例1で調製したカルシウムイオン交換モルデナイト
成形体を用い、吸着温度を一30℃及び−40℃に変え
た事以外は実施例1と全く同じ方法により圧力100K
g/ ci 、 S V = 2000/ Hrで原料
水素ガスを流通させた。その場合の水素ガス精製容」か
ら窒素ガス吸着容量を求めた。
成形体を用い、吸着温度を一30℃及び−40℃に変え
た事以外は実施例1と全く同じ方法により圧力100K
g/ ci 、 S V = 2000/ Hrで原料
水素ガスを流通させた。その場合の水素ガス精製容」か
ら窒素ガス吸着容量を求めた。
その結果を第2表に示す。
実施例3
実施例1と同様の方法によりカルシウムイオン交換率が
48%及び73%のカルシウムイオン交換モルデナイト
成形体を得た。これを実施例1と全く同様の方法により
吸着温度−50℃、圧力1007(y/cd、 S V
−2000/ Hrで窒素ガスを157ppmの濃度
で含有する水素ガスを流通させた。
48%及び73%のカルシウムイオン交換モルデナイト
成形体を得た。これを実施例1と全く同様の方法により
吸着温度−50℃、圧力1007(y/cd、 S V
−2000/ Hrで窒素ガスを157ppmの濃度
で含有する水素ガスを流通させた。
その場合の水素ガス精製容量から窒素ガス吸着容量を求
めた。その結果を第3表に示す。
めた。その結果を第3表に示す。
第3表
比較例1
イオン交換水溶液として塩化マグネシウム水溶液を用い
た以外は実施例1と同様の方法によりイオン交換率45
%のマグネシウムイオン交換モルデナイト成形体を造り
、実施例1と同様の方法により吸着温度−50℃、圧力
50Kg/ci、 SV −2000/ )l rで窒
素ガス濃度151ppI11の水素ガスを流通させた。
た以外は実施例1と同様の方法によりイオン交換率45
%のマグネシウムイオン交換モルデナイト成形体を造り
、実施例1と同様の方法により吸着温度−50℃、圧力
50Kg/ci、 SV −2000/ )l rで窒
素ガス濃度151ppI11の水素ガスを流通させた。
破過点までの水素ガス精製容量から窒素ガス吸着容量を
求めた。その結果を第4表に示す。
求めた。その結果を第4表に示す。
比較例2
A型ゼオライトをカルシウムイオンで交換したゼオラム
A−5成形体を用い、比較例1と全く同一の条件で水素
ガス流通テストを行った。
A−5成形体を用い、比較例1と全く同一の条件で水素
ガス流通テストを行った。
その場合の窒素ガス吸着容量を求めた。その結果を第4
表に示す。
表に示す。
参考例
実施例1で用いたカルシウム交換モルデナイト、比較例
1で用いたマグネシウム交換モルデナイト及びこれらの
イオン交換モルデナイトの原料であるナトリウム型モル
デナイトの、−SO℃における窒素低分圧領域における
平衡吸着容量(Ncc/g)を電子式ミクロ天秤により
求めた結果を第5表に示す。
1で用いたマグネシウム交換モルデナイト及びこれらの
イオン交換モルデナイトの原料であるナトリウム型モル
デナイトの、−SO℃における窒素低分圧領域における
平衡吸着容量(Ncc/g)を電子式ミクロ天秤により
求めた結果を第5表に示す。
2g8医
Claims (1)
- イオン交換可能な陽イオンの30%以上をカルシウムイ
オンで交換したモルデナイト型ゼオライトを、−70〜
−10℃の温度、常圧〜150Kg/cm^2の圧力下
で水素ガスと接触させることを特徴とする水素ガス中の
窒素の除去方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4915185A JPS61209902A (ja) | 1985-03-12 | 1985-03-12 | 水素ガスの精製方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4915185A JPS61209902A (ja) | 1985-03-12 | 1985-03-12 | 水素ガスの精製方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61209902A true JPS61209902A (ja) | 1986-09-18 |
Family
ID=12823095
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4915185A Pending JPS61209902A (ja) | 1985-03-12 | 1985-03-12 | 水素ガスの精製方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61209902A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0714849A1 (en) | 1994-11-28 | 1996-06-05 | Mitsui Toatsu Chemicals, Incorporated | Production process for refined hydrogen iodide |
-
1985
- 1985-03-12 JP JP4915185A patent/JPS61209902A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0714849A1 (en) | 1994-11-28 | 1996-06-05 | Mitsui Toatsu Chemicals, Incorporated | Production process for refined hydrogen iodide |
US5693306A (en) * | 1994-11-28 | 1997-12-02 | Mitsui Toatsu Chemicals, Inc. | Production process for refined hydrogen iodide |
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