JPS61207595A - 金属ストリツプの電解処理装置 - Google Patents

金属ストリツプの電解処理装置

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JPS61207595A
JPS61207595A JP4644985A JP4644985A JPS61207595A JP S61207595 A JPS61207595 A JP S61207595A JP 4644985 A JP4644985 A JP 4644985A JP 4644985 A JP4644985 A JP 4644985A JP S61207595 A JPS61207595 A JP S61207595A
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JP
Japan
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electrolytic treatment
electrodes
treatment tank
strip
metal strip
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JP4644985A
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English (en)
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JPH0210880B2 (ja
Inventor
Yasuhiro Seto
瀬戸 靖裕
Shuji Masuda
増田 修司
Kiyotoshi Iwasaki
岩崎 清俊
Yukiyoshi Tachibana
立花 至芳
Tsutomu Namieno
勉 波江野
Ryoichi Yoshihara
良一 吉原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Steel Corp
Original Assignee
Nippon Steel Corp
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) この発明は金属ストリップを連続的に電解処理する水平
パス型の電解処理装置に関する。
(従来の技術) 金属ストリップの電解処理、た乍え;f鋼帯の電解めっ
き、酸洗、脱QFiあるいは析出金属剥離処理のために
水平型電解処理槽が用いられている。
第6図は従来の水平型電解処理槽の一例を示している。
!解液りの満された電解処理槽35に電極15を懸垂し
、鋼帯Sを電極15面に近接させて電解処理を行なう。
第7図は従来の水平型電解処理槽の他の例を示している
。電極保持槽3Bに収納した上下対をなす電極15の間
に鋼帯Sを通過させ、かつ極間に電解液を充満して電解
処理を行う。
同様の水平型電解処理槽が特開昭54−138831号
公報、あるいは特開昭57−101892号公報に開示
されている。
(発明が解決しようとする問題点) これらの電解処理槽は電解液の飛散、漏れを防止する目
的で、何れも電極15や電極保持槽38を覆う槽35.
37を備えている。したがって、電極15、電極保持槽
36および電極15への給電用の給電;H4y 1 ?
は何れも水平型電解処理槽の処理液中に没するか、また
は処理液の飛散する環境に晒されるため、防蝕処理とし
て高級耐蝕材料の使用、または耐蝕材のライニング等が
採られている。
このことは、製作においては製作費、製作期間の増大化
を招き、かつ実用においては腐蝕による事故の原因とな
っている。また、電極、電極保持槽が回収槽で覆われた
構造のため電極等の保守性、操作性が著しく劣る欠点を
有している。
一方、第7図の電解処理槽では、たとえばめっき等の場
合に、銅帯の端部への析出金属の過剰付着を防止する目
的で工・ンヂマスクが設置されることがある。この場合
、エッヂマスクを進退させるため、電極保持槽36の側
壁を貫通して棒状体を外部より槽内に挿入する。また、
電極15への給電のため、給電帯】7も、電極保持槽3
6を貫通して電極I5に接続される。これらは何れも電
極保持槽38の完全な防漏を阻害するものであり、かつ
、このことが回収槽37の設置要因となっていた。
この発明は前述の欠点を解消すべくなされたもので、電
極処理槽の防漏を余るとともに回収槽を簡略化した水平
型電解処理装置を提供するものである。
(問題点を解決するための手段) この発明の金属ストリップの電解処理装置は金属ストリ
ップが水平方向に貫通して走行する電解処理槽と、金属
ストリップの上下面を覆うようにして電解処理槽内に配
置された上下対をなす板状電極と、電極に接続された給
電帯と、電解処理槽に接続された電解液供給管と、電解
処理槽の金属ストリップ入口およびIt目1にそれぞれ
隣接する給電ロールとから構成されている。そして、前
記電解処理槽の頂壁および底壁にそれぞれ開口部を設け
、開1部の縁に沿って頂壁、底壁と電極との間にシール
機構を配置し、開口部を通して各電極に前記給電帯を接
続している。また、前記金属ストリップ入口および出口
にそれぞれ電解液回収槽を配置している。
(作用) 電解液供給装置によって供給された電解液が充満した電
解処理槽内を久ロ、出口で給電ロールによって保持され
た金属ストリップは水平方向に走行する。電解処理槽内
で−L下★4をなす板状電極間を通過するときに、めっ
きなどの電解処理がぶされる。
電解処理槽の頂壁および底壁には給電帯より電極に給電
するためにそれぞれ開口部が設けられている。電解処理
槽の頂壁および底壁に設けられた開「1部の縁に沿って
頂壁、底壁と電極との間にシール機構を配置することに
より開口部から電解液が漏出するのを防止する。電解処
理槽の金属ストリップ入口、出口の開口から漏れ出る電
解液は、これら入口、出口にそれぞれ配置された電解液
回収槽内に流れ落ち、回収される。
第1図〜第3図はこの発明の電解処理装置の一実施例を
示している。
電解処理装置は主として、電解処理槽1、電極15、電
解液供給管19、給電ロール21および電解液回収槽2
3とからなっている。   □電解処理槽lは前壁2、
後壁3、雨空4、底壁5および側壁6とからなり、箱形
をしている。前壁2および後壁3にはそれぞれ金属スト
リップ人口9および出口lOが、また頂壁4およ゛び底
壁5にはそれぞれ矩形をした開「1部11が設けられて
いる。電解処理槽lは支柱13により床−Lに支持され
ている。
電極15は板状をしており、金属ストリップSの上下面
を覆うようにして−L下対をなし電解処理槽1内に配置
されている。この電極15と電解処理槽1の頂壁4.底
壁5との間に上記開口部11の縁に沿ってガスケツ)1
2が配置されている。ガスヶ・ン)12としてたとえば
、セミメタ、リックガスケット、0リングまはた充填材
などが用いられる。ま−#−tllJ r+ 蔗114
 ’、+Y+ l でL ’tit b l RL’ 
M ’iff 1B + 7 A(倉カ鎧されており、
電極15には給電帯17を介して給電装置(図示しない
)から給電される。
電極15は入口側と出口側とに分割されており、両者の
間に開口するようにして電解液供給管18が頂壁4およ
び底壁5に接続されている。電解処理槽l内には電解液
供給管18を介してヘッダー20から電解液が供給され
る。
給IEロール21は−L下対をなし、電解処理槽1の金
属ストリップ人口9および出口10にそれぞれ隣接する
ようにして配置されている。
電解液回収#f423は金属ストリップ入口9および出
「】10にそれぞれ配置されている。金属ストリップ入
119および出口10から漏出し、あるいは金属ストリ
ップSから流れ落ちる電解液を回収するように、少なく
とも金属ストリップ人口9、出口IOと給電ロール21
との間にわたって電解液回収槽23は設けられている。
第4図はこの発明の他の実施例で、電解処理槽がめつき
金属などのエツジオーバーコートを防止 。
するためのエツジマスクを備えた場合の例を示している
。なお、以下の説明において上記第1の実施例と同じ部
材には同一・の参照符号をつけ、これらの説明は省略す
る。
図面に示すように、電解処理槽1の側壁6に設けられた
穴26を駆動棒2日が貫通しており、これの先端にエツ
ジマスク29が取り付けられている。
エツジマスク29は金属ストッリプの幅に応じて駆動棒
28により進退され、金属ストッリプの両側端部な覆っ
て両側端部にめっき金属などが過剰に付着するのを防止
する。
電解処理槽lの側壁6の下縁に沿って樋25が設けられ
ている。樋25は」1記駆動棒28が貫通する穴26か
ら漏れ出る電解液を受け、前記電解液回収槽23に導く
第5図はこの発明のさらに他の実施例で、電解処理槽が
上記エツジマスクを備えた場合の例を示している。
この図面に示すように、電解処理槽1の両側方にそれぞ
れ電解液回収樋31が配置されている。
エツジマスク29の駆動棒28は電解処理槽lの側壁6
の穴26と電解液回収樋31の側壁の穴33とを貫通し
ている。電解液回収樋31の作用も上記第2実施例のも
のと同じである。
この発明は上記実施例に限られるものではなく、たとえ
ば開口部は矩形に代えて、円形であってもよい。
(発明の効果) この発明では電解処理槽の壁と電極との間からの液洩れ
を防止することによって、電解処理装置。
体を覆う電解処理槽直下の回収槽の設置を不要とし、電
解処理槽を外部に露出させることによって次の効果を得
ることができる。
イ、電極への給電導帯の接続を簡略化し、かつ防食対策
の無用化を可能としたため、処理液による腐食トラブル
を解消し、かつメンテナンス費用および設備費用の大幅
削減を果した。
口、電解処理槽が直接外部に露出し、かつフレームに直
に載せられる構造を成すため、フレームと電解処理槽と
の間にジヤツキ等を介在させることによって容易に電極
の高さ調整が可能となった。また据付けにおいても多大
な作業時間短縮が0f能となった。
ハ1回収槽および電解処理槽が従来に比べ小型軽針化し
た為、製作コストが大幅に低減した。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の一実施例を示すもので、電解処理装
置の略側断面図、第2図は第1図のII −11線に沿
う断面図1.第3図i±第1図に示す装置の入側半部の
斜視図、第4図はこの発明の他の実施例を示すもので、
電解処理装置の略正断面図、第5図はこの発明のさらに
他の実施例を示すもので、電解処理装置の略正断面図、
第6図および第7図はそれぞれ従来の電解処理装置の略
側断面図である。 1.35・・・電解処理槽、4・・・頂壁、5・・・底
壁、6・・・側壁、11・・・開口部、12・・・ガス
ッケト、15・・・電極、17・・・導電帯、18・・
・電解液供給管、21・・・給電ロール、23.3?・
・・電解液回収槽、25.31・・・電解液回収樋、2
9・・・エツジマスク。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)金属ストリップが水平方向に貫通して走行する電
    解処理槽と、金属ストリップの上下面を覆うようにして
    電解処理槽内に配置された上下対をなす板状電極と、電
    極に接続された給電帯と、電解処理槽に接続された電解
    液供給管と、電解処理槽の金属ストリップ入口および出
    口にそれぞれ隣接する給電ロールとからなる装置におい
    て、前記電解処理槽の頂壁および底壁にそれぞれ開口部
    を設け、開口部の縁に沿って頂壁、底壁と電極との間に
    シール機構を配置し、開口部を通して各電極に前記給電
    帯を接続し、かつ前記金属ストリップ入口および出口に
    それぞれ電解液回収槽を配置したことを特徴とする金属
    ストリップの電解処理装置。
  2. (2)前記電解処理槽の側壁に沿って、電解液回収樋を
    設けたことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の装
    置。
JP4644985A 1985-03-11 1985-03-11 金属ストリツプの電解処理装置 Granted JPS61207595A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02217500A (ja) * 1989-02-20 1990-08-30 Nippon Steel Corp 極薄金属帯板用洗浄装置

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPH02217500A (ja) * 1989-02-20 1990-08-30 Nippon Steel Corp 極薄金属帯板用洗浄装置

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