JPS61201771A - 蒸着装置 - Google Patents
蒸着装置Info
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- JPS61201771A JPS61201771A JP4508185A JP4508185A JPS61201771A JP S61201771 A JPS61201771 A JP S61201771A JP 4508185 A JP4508185 A JP 4508185A JP 4508185 A JP4508185 A JP 4508185A JP S61201771 A JPS61201771 A JP S61201771A
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- vapor deposition
- vapor
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明はシャッタに付着した蒸着物質を回収できるよ
うにした蒸着装置に関するものである。
うにした蒸着装置に関するものである。
第３図は例えば特公昭５４−９５９２号公報に開示され
た蒸着装置に、膜厚検出器、膜厚計、シャッタ駆動装置
を取付けてシャッタの制御を自動的に行うようにした従
来の装置を示し、図において真空槽（１）の上、下に上
部ベース（２）、下部ベース（３）が結合されていて、
下部ベース（３）わら排気口（４）が突出している。真
空槽（１）内にＦｉ物質蒸気発生炉（５）、イオン引出
し電極（６）、物質蒸気発生炉支持台（１）、イオン引
出し電極支持台（８）、電子放射用フィラメントαＱ、
物質蒸気発生炉加熱ヒータ四、基板取付台叫、シャッタ
の、付着速度（イオン化蒸気尭生速度）および付着膜厚
を検出する検出器の等が収納されている。
た蒸着装置に、膜厚検出器、膜厚計、シャッタ駆動装置
を取付けてシャッタの制御を自動的に行うようにした従
来の装置を示し、図において真空槽（１）の上、下に上
部ベース（２）、下部ベース（３）が結合されていて、
下部ベース（３）わら排気口（４）が突出している。真
空槽（１）内にＦｉ物質蒸気発生炉（５）、イオン引出
し電極（６）、物質蒸気発生炉支持台（１）、イオン引
出し電極支持台（８）、電子放射用フィラメントαＱ、
物質蒸気発生炉加熱ヒータ四、基板取付台叫、シャッタ
の、付着速度（イオン化蒸気尭生速度）および付着膜厚
を検出する検出器の等が収納されている。
真空４（１）の外部には、直流高圧電源（９）、電子放
射用フィラメント加熱電源（至）、物質蒸気発生炉加熱
用ヒータ電源αＱ、電流計の、膜厚計（至）およびシャ
ッタ駆動装置Ｇ等が配置されている０（ロ）は電子ビー
ム、（６）は物質蒸気噴射用小孔、α４はイオン化して
付着させる物質、α′ｌ）ハ物質蒸気、ｔｔ＊ｒｔ被蒸
着体である基板、１２１はイオン化し九クラスタビーム
をそｎぞれ示している。
射用フィラメント加熱電源（至）、物質蒸気発生炉加熱
用ヒータ電源αＱ、電流計の、膜厚計（至）およびシャ
ッタ駆動装置Ｇ等が配置されている０（ロ）は電子ビー
ム、（６）は物質蒸気噴射用小孔、α４はイオン化して
付着させる物質、α′ｌ）ハ物質蒸気、ｔｔ＊ｒｔ被蒸
着体である基板、１２１はイオン化し九クラスタビーム
をそｎぞれ示している。
第４図に、シャッタ■、基板α９、検出器のの位置関係
を上方から見た状態を示している。
を上方から見た状態を示している。
以上の構成により、物質−を物質蒸気発生炉（５）に入
れ、刀ロ熱ヒータ四を電源（２）で加熱する。物質α４
＃−１溶融して物質蒸気αηを発生し、物質蒸気発生炉
（５）内の圧力が高くなるので物質蒸気α′ｔ）ｒｉ小
孔（２）よシ噴射し、上部に飛び出す。飛び出した物質
蒸気α力は電子放射用フィラメントＱＯを通過するとき
に電子ビーム（ロ）を衝突し、蒸気原子の電子が飛ばさ
れ°Ｃイオン化する。イオン化したクラスタビームｃａ
ｒｔイオン引出し電極（６）ヲ基板取付合−関に電源（
９）で与えられた電位により加速され、基板■の方向に
移動し、シャッタ（２）が開状態のとき、基板Ｑ９に衝
突する。衝突したクラスタビームωは基板器の下面に堆
積して薄膜を形成する０ シヤツタ■が閉状態のときには、イオン化したクラスタ
ビームツバシャッタのにさえぎられて基板α９に衝突す
ることができないので薄膜形成が停止される。このよう
にシャッタΩの開閉でイオン化した蒸気の付着膜厚を制
御する。シャッタ０の閉止は膜厚検出器ので検出した膜
厚を膜厚計（至）で判別処理し、シャッタ駆動装置四に
閉指令が出ることにより制御される。以上の動作中、真
空槽（１）は排気口（４）に接続した真空ポンプにより
真空が保持されている。− 〔発明が解決しようとする問題点〕 従来の蒸着装置は以上のように構成されているのでシャ
ッタには蒸着物質が付着する。このため蒸着物質の回収
にはシャッタを一旦取外す必要があり、操業を停止しな
ければならないという問題点があった。
れ、刀ロ熱ヒータ四を電源（２）で加熱する。物質α４
＃−１溶融して物質蒸気αηを発生し、物質蒸気発生炉
（５）内の圧力が高くなるので物質蒸気α′ｔ）ｒｉ小
孔（２）よシ噴射し、上部に飛び出す。飛び出した物質
蒸気α力は電子放射用フィラメントＱＯを通過するとき
に電子ビーム（ロ）を衝突し、蒸気原子の電子が飛ばさ
れ°Ｃイオン化する。イオン化したクラスタビームｃａ
ｒｔイオン引出し電極（６）ヲ基板取付合−関に電源（
９）で与えられた電位により加速され、基板■の方向に
移動し、シャッタ（２）が開状態のとき、基板Ｑ９に衝
突する。衝突したクラスタビームωは基板器の下面に堆
積して薄膜を形成する０ シヤツタ■が閉状態のときには、イオン化したクラスタ
ビームツバシャッタのにさえぎられて基板α９に衝突す
ることができないので薄膜形成が停止される。このよう
にシャッタΩの開閉でイオン化した蒸気の付着膜厚を制
御する。シャッタ０の閉止は膜厚検出器ので検出した膜
厚を膜厚計（至）で判別処理し、シャッタ駆動装置四に
閉指令が出ることにより制御される。以上の動作中、真
空槽（１）は排気口（４）に接続した真空ポンプにより
真空が保持されている。− 〔発明が解決しようとする問題点〕 従来の蒸着装置は以上のように構成されているのでシャ
ッタには蒸着物質が付着する。このため蒸着物質の回収
にはシャッタを一旦取外す必要があり、操業を停止しな
ければならないという問題点があった。
この発明は上記のような問題点を解消するためになされ
たもので、シャッタの開閉動作でシャッタに付着した蒸
着物質を除去し回収できるようにした蒸着装置を得るこ
とを目的とする。
たもので、シャッタの開閉動作でシャッタに付着した蒸
着物質を除去し回収できるようにした蒸着装置を得るこ
とを目的とする。
この発明に係る蒸着装置に、シャッタの開閉動作位置の
ほぼ中間部にシャッタと接触できる除去部材とこの除去
部材を支持した容器からなる回収装置を設けたものであ
る。
ほぼ中間部にシャッタと接触できる除去部材とこの除去
部材を支持した容器からなる回収装置を設けたものであ
る。
この発明における蒸着装置は、シャッタが開閉動作され
るとき、シャッタが除去部材と接触して移動するときに
シャッタに付着した蒸着物質が除去部材で除去され、容
器内に回収される。
るとき、シャッタが除去部材と接触して移動するときに
シャッタに付着した蒸着物質が除去部材で除去され、容
器内に回収される。
以下、この発明の一実施例を図について説明する。第１
図において、（１）Ｉ／ｉ真空槽、１２１１ｒｔシヤツ
タ、（至）はシャッタ（２）に付着した蒸着物質を回収
可能に配置された回収装置、回収装置（至）は所定の開
口を有する容器（２６ａ ）と、容器（２６ａ）の開口
の所定の両側と固着されシャッタ（２）と接触できる除
去部材（２６ｂ）例えばワイヤブラシで構成されている
。
図において、（１）Ｉ／ｉ真空槽、１２１１ｒｔシヤツ
タ、（至）はシャッタ（２）に付着した蒸着物質を回収
可能に配置された回収装置、回収装置（至）は所定の開
口を有する容器（２６ａ ）と、容器（２６ａ）の開口
の所定の両側と固着されシャッタ（２）と接触できる除
去部材（２６ｂ）例えばワイヤブラシで構成されている
。
＠は真空槽（１）の壁面に堰付けられた支持台で、回収
装置＠をシャッタ（２）の開閉位置のはげ中間の所定の
位置となるように支持している。
装置＠をシャッタ（２）の開閉位置のはげ中間の所定の
位置となるように支持している。
！２図−（ａ）図に、第１図の■−■断面の拡大図であ
〕、第２−（ｂ）図は、第２−（ａ）図の側面から見た
断面図を示す。
〕、第２−（ｂ）図は、第２−（ａ）図の側面から見た
断面図を示す。
上記以外は従来装置と同一の構成であるので説明は省略
する。
する。
つぎに動作について説明する。８１図及び第２図に示す
ように、回収装置（至）を設けた蒸着装置は、シャッタ
Ｃａ１ｌを第１因に破線で示す開位置に動作させた状態
で、物質蒸気発生炉（５）から蒸発させた物質蒸気Ｑ７
）を基板（至）に付着させ、物質蒸気ａηの基板α９へ
の蒸着量すなわち膜厚が所定の値になると、シャッタ駆
動部Ｑｓｔ−駆動させて、クヤツタ■を第１図に実線で
示す閉位置へ移動させ、物質蒸気μηが基板ｕ９へ蒸着
するのを停止づせることは従来と同様である。
ように、回収装置（至）を設けた蒸着装置は、シャッタ
Ｃａ１ｌを第１因に破線で示す開位置に動作させた状態
で、物質蒸気発生炉（５）から蒸発させた物質蒸気Ｑ７
）を基板（至）に付着させ、物質蒸気ａηの基板α９へ
の蒸着量すなわち膜厚が所定の値になると、シャッタ駆
動部Ｑｓｔ−駆動させて、クヤツタ■を第１図に実線で
示す閉位置へ移動させ、物質蒸気μηが基板ｕ９へ蒸着
するのを停止づせることは従来と同様である。
ここで、基板α９に物質蒸気ａηの蒸着を停止したシャ
ッタのには物質蒸気αηが蒸着される。このように、シ
ャッタのに付着した物質蒸気（１７）すなわち付着物質
は、シャッタ１２υが閉位置から開位置へ移動されると
き、除去部材（２６ｂ）と接触しながら通過するので、
除去部材（２６ｂ）によって付着物質が除去され、シャ
ッタ０から除去された付着物質は容器（２６ａ）内に落
下し、容器（２６ａ）で回収される。なお、シャッタ（
２１）を開位置から閉位置へ移動させるときも、付着物
質の除去が行われる。
ッタのには物質蒸気αηが蒸着される。このように、シ
ャッタのに付着した物質蒸気（１７）すなわち付着物質
は、シャッタ１２υが閉位置から開位置へ移動されると
き、除去部材（２６ｂ）と接触しながら通過するので、
除去部材（２６ｂ）によって付着物質が除去され、シャ
ッタ０から除去された付着物質は容器（２６ａ）内に落
下し、容器（２６ａ）で回収される。なお、シャッタ（
２１）を開位置から閉位置へ移動させるときも、付着物
質の除去が行われる。
上記実施例においては、除去部材（２６ｂ）をワイヤブ
ラシで構成した場合について説明したが、ワイヤブラシ
に限られることはなく、シャッタΩと接触して付着物を
除去できる部材、例えば、シャッタ０の平面とほぼ直角
に所定の弾性を有する部材を容器（２６ａ）と固定し、
シャッタのと接触できる側を付着物を除去できるように
しても上記実施例と同様の動作を期待できる。
ラシで構成した場合について説明したが、ワイヤブラシ
に限られることはなく、シャッタΩと接触して付着物を
除去できる部材、例えば、シャッタ０の平面とほぼ直角
に所定の弾性を有する部材を容器（２６ａ）と固定し、
シャッタのと接触できる側を付着物を除去できるように
しても上記実施例と同様の動作を期待できる。
以上のように、この発明によれば、シャッタの駆動範囲
に容器の上部に除去部材を取付けた脱着可能な回収装置
を配置したことにより、シャッタの開閉動作を利用して
自動的にシャッタに付着した蒸着物質除去し回収するこ
とが可能となる効果がある。
に容器の上部に除去部材を取付けた脱着可能な回収装置
を配置したことにより、シャッタの開閉動作を利用して
自動的にシャッタに付着した蒸着物質除去し回収するこ
とが可能となる効果がある。
第１図はこの発明の一実施例による蒸着装置の断面図、
第２−＆及び第２−ｂ図ｆｌ１１１図のＨ−■線の断面
及び側面図、第３図は従来の蒸着装置の断面図、第４図
はシャッタの拡大図である。 図において、（１）は真空容器、（５）は物質蒸気発生
炉、（６）は小孔、α４は物質、（ロ）は蒸気、Ｑ５１
Ｆ１基板、■はクラスタビーム、０はシャッタ、（至）
は回収装置、（２６ａ）は容器、（２６ｂ） ｒｉ除去
部材である。 なお、各図中同一符号は同一、又は相当部分を示す。
第２−＆及び第２−ｂ図ｆｌ１１１図のＨ−■線の断面
及び側面図、第３図は従来の蒸着装置の断面図、第４図
はシャッタの拡大図である。 図において、（１）は真空容器、（５）は物質蒸気発生
炉、（６）は小孔、α４は物質、（ロ）は蒸気、Ｑ５１
Ｆ１基板、■はクラスタビーム、０はシャッタ、（至）
は回収装置、（２６ａ）は容器、（２６ｂ） ｒｉ除去
部材である。 なお、各図中同一符号は同一、又は相当部分を示す。
Claims (2)
- （１）高真空領域内で溶融した物質の蒸気を噴出させ、
上記蒸気をイオン化して電界によつて加速させて基板に
蒸着させるものにおいて、上記基板の前面をシャッタが
閉塞可能にし、上記シャッタが上記基板の前面の閉塞を
解除する方向に移動するとき上記シャッタの上記基板と
対向した面に付着した蒸着物質を除去して回収できる回
収装置を設けることを特徴とする蒸着装置。 - （２）回収装置はシャッタと接触して蒸着物質を除去す
る部材と上記蒸着物質を収容する容器からなることを特
徴とする特許請求の範囲第１項記載の蒸着装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4508185A JPS61201771A (ja) | 1985-03-05 | 1985-03-05 | 蒸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4508185A JPS61201771A (ja) | 1985-03-05 | 1985-03-05 | 蒸着装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61201771A true JPS61201771A (ja) | 1986-09-06 |
Family
ID=12709376
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4508185A Pending JPS61201771A (ja) | 1985-03-05 | 1985-03-05 | 蒸着装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61201771A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5382339A (en) * | 1993-09-17 | 1995-01-17 | Applied Materials, Inc. | Shield and collimator pasting deposition chamber with a side pocket for pasting the bottom of the collimator |
| KR20040037661A (ko) * | 2002-10-29 | 2004-05-07 | 주식회사 엘리아테크 | 유기물 증착 장치 |
| JP2022535350A (ja) * | 2019-05-28 | 2022-08-08 | コリア インスティテュート オブ フュージョン エナジー | プラズマｏｅｓ診断用ウィンドウおよびこれを利用したプラズマ装置 |
-
1985
- 1985-03-05 JP JP4508185A patent/JPS61201771A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5382339A (en) * | 1993-09-17 | 1995-01-17 | Applied Materials, Inc. | Shield and collimator pasting deposition chamber with a side pocket for pasting the bottom of the collimator |
| KR20040037661A (ko) * | 2002-10-29 | 2004-05-07 | 주식회사 엘리아테크 | 유기물 증착 장치 |
| JP2022535350A (ja) * | 2019-05-28 | 2022-08-08 | コリア インスティテュート オブ フュージョン エナジー | プラズマｏｅｓ診断用ウィンドウおよびこれを利用したプラズマ装置 |
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