JPS61195275A

JPS61195275A - 焼成炉

Info

Publication number: JPS61195275A
Application number: JP3377385A
Authority: JP
Inventors: 謙次田中; 勝小嶋
Original assignee: Murata Manufacturing Co Ltd
Current assignee: Murata Manufacturing Co Ltd
Priority date: 1985-02-21
Filing date: 1985-02-21
Publication date: 1986-08-29
Also published as: JPH0359356B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】（産業上の利用分野）本発明はセラミックス原料の仮焼合成、セラミックス成
形体の焼成等を行う焼成炉に関する。

（従来技術）従来よりセラミックス原料の仮焼合成、セラミックス成
形体の焼成等には、トンネル型連続焼成炉やパッチ式焼
成炉あるいはロータリキルン等の炉が使用されてきた。

上記トンネル型連続焼成炉は、たとえば第３図（、）に
示すように、トンネル状の炉体１が水平に配置されたも
ので、炉体１の内部は予熱ゾーンｌａ。

焼成ゾーン１ｂおよび冷却ゾーン１ｃに区画され、これ
ら予熱ゾーン１ａ＋焼成ゾーン１ｂおよび冷却ゾーン１
ｃは夫々第３図（ｂ）に折れ線ｈ１　で示すような温度
分布を有している。

上記のような構成を有するトンネル炉でセラミックス成
形体を焼成する場合、第４図に示すように焼成するセラ
ミックス成形体２を箱体状の焼成匣３にたて詰め、もし
くは横詰めする。この焼成匣３を第３図（、）に示すよ
うに台板４上に積載し、図示しないブツシャにより、先
ず、炉体１の予熱ゾーン１ａ内に矢印Ａ１で示すように
自動的にブツシュする。この予熱ゾーン１ａ内にてセラ
ミックス成形体２中のバインダ（成形助剤）を燃焼させ
た（脱バインダ工程）後、上記台板４を炉体１の焼成ゾ
ーン１ｂにブツシュしてセラミックス成形体２を１２０
０℃〜１３５０℃の温度で２時間ないし３時間焼成する
。この焼成が完了すると、セラミックス成形体２は炉体
１の冷却ゾーン１ｃにプッシェされて冷却された後、炉
体１から矢印Ａ２で示すように引き出される。

バッチ式焼成炉も、第４図に示すものと同様の焼成匣３
にセラミックス成形体２をたて詰めもしくは横詰めし、
この焼成匣３を台板４上に積載し、いわゆるバッチ処理
により焼成を行う。

以上のトンネル型連続焼成炉やバッチ式焼成炉では、い
ずれも焼成匣３や合板４等の焼成炉材を必要とするうえ
、これら焼成炉材が有している熱容量のため熱効率も低
く、セラミックス成形体の単位処理量に対する設備も大
きくなるという問題を有していた。また、焼成匣３内の
セラミックス成形体２は、焼成匣３に詰め込まれたま）
の形状を保って熱処理されるが、焼成匣３の中心部と外
周部とでは温度差が生じ、焼成匣３の異なった位置に詰
め込まれたセラミックス成形体２は夫々異なった熱履歴
を受ける。この熱履歴の差は、焼成匣３にセラミックス
成形体２を多段多列に詰め込んだり、焼成匣３を多段に
積み重ねて焼成する場合に顕著であり、焼成後のセラミ
ックス成形体２の特性に大きなバラツキが生じるといっ
た問題もあった・さらに、ロータリキルンはセメント合成に代表される設
備であるが、設備コストも高く、また、小形のものでは
設備面積当りの処理量が小さい等の問題があった。

（発明の目的）本発明は焼成炉における上記問題点に鑑みてなされたも
のであって、被焼成物の単位処理量当りの設備面積およ
び設備コストが低く、かつ、被焼成物を連続的に高効率
で均一に焼成するようにした焼成炉を提供することを目
的としている。

（発明の構成）このため、本発明は、炉体内部に所定の間隔をおいて配
置された隔壁の間に形成された入りッＹ内に被焼成物を
流下させ、この流下の過程で隔壁内に配置された発熱体
により被焼成物を焼成し、スリット下部開口に設けられ
た定量排出手段により焼成の終った被焼成物を排出する
ようにしたことを特徴としている。上記被焼成物は幅の
狭いスリット内を流下するので、この流下の過程で、隔
壁内の発熱体から効率よく熱を受けて焼成される。

（発明の効果）本発明によれば、被焼成物は内部に発熱体が配置された
隔壁の開に形成された幅の狭いスリット内を流下する過
程で、隔壁内の発熱体から熱を受けて焼成されるので、
従来のトンネル炉のように熱容量の大きな焼成匣を必要
とせず、熱効率が高く省エネルギー化を図ることができ
、焼成炉の形状も小形化することができる。また、本発
明によれば、個々の被焼成物は炉内を連続的に流下する
過程で焼成されるので、個々の被焼成物について焼成条
件かはパ一定となり、品質のバラツキの少い焼成物を得
ることができる。

（実施例）以下、添付図面を参照しっ）本発明の詳細な説明する。

セラミックス原料を仮焼合成するセラミックス原料仮焼
炉に本発明を適用した実施例を第１図に示す。

第１図のセラミックス原料仮焼炉は、上部が仮焼するセ
ラミックス原料を投入するためのホッパ部１１となった
縦長の箱形の炉体１２を有している。炉体１２の上記ホ
ッパ部１１の下部には、第２図に示すように、複数枚の
隔壁１３，１３．・・・が間隔ｄをおいて配置されてい
る。上記炉体１２および隔壁１３．１３．・・・は、い
ずれもアルミナ（Ａ、Ｑ２０．）系の耐火物もしくは炭
化硅素（ＳｉＣ）系の耐火物等により構成された多孔質
のものである６上記炉体１２および隔壁１３，１３．・
・・は、たとえば上記耐火物材料の泥しよう鋳込み等の
手法により成形したものを焼成することにより製造する
ことができる。

隔壁１３，１３．・・・およびこれら隔壁１３，１３゜
・・・に対向する炉体１２の側壁１２ａの内部には夫々
空洞１５が形成されており、隔壁１３，１３．・・・お
よび上記側壁１２ａの各空洞１５内には、複数の発熱体
１６，１６．・・・が炉体１２の内部が所定の温度分布
となるように上下方向に間隔を置いて配置されている。

上記発熱体１６．１６．・・・としては、たとえば炭化
硅素（ＳｉＣ）系の棒状発熱体を使用することができる
が、焼成炉の用途や目的に合わせて、パネル状発熱体や
その他の発熱体を使用することもできる。

上記隔壁１３．１３．・・・の間に形成される幅がｄの
スリ７）　１４．１４．・・・は、隔壁１３．１３．・
・・の上部ではホッパ部１１に開口するとともに、隔壁
１３．１３．・・・の下部では炉体１２の底部に開口し
ている。上記隔壁１３，１３．・・・の上端部には、ホ
ッパ部１１に投入されたセラミックス原料１７を上記ス
リ７）　１４，１４．・・・に導くための斜面１３ａが
形成されている。炉体１２の側壁１２ａにも上記と同様
の斜面１３ａが形成されている。上記スリ７）１４，１
４．・・・の炉体１２の底部側の開口には、ロータリバ
ルブ等の定量排出装置１８．１８゜・・・が配置されて
いる。

以上にその構成を説明したセラミックス原料仮焼炉では
、第１図に示すように、ホッパ部１１が隔壁１３，１３
．・・・等の開に形成されるスリット１４から上昇する
熱により、ホッパ部１１に投入されたセラミックス原料
１７（第２図参照）を予熱する予熱ゾーン２１ａを構成
し、スリット１４．１４゜・・・内の隔壁１３，１３．
・・・の空洞Ｉ　Ｓ、１５．・・・に対向する部分が焼
成ゾーン２１ｂを構成する。また、この焼成ゾーン２１
ｂの下部は、仮焼の終ったセラミックス原料１７の冷却
ゾーン２１ｃとなっている。

炉体１２の上記ホッパ部１１に投入されて予熱されたセ
ラミックス原料１７は、第２図に示すように、定量排出
装置１８により仮焼の終ったセラミックス原料１７が排
出されるのに伴って、順次、隔壁１３，１３．・・・の
間に形成されたスリット１４゜１４、・・・に導かれる
。セラミックス原料１７は、スリ７）　１４，１４．・
・・内で発熱体１６，１６．・・・により加熱される。

上記スリ７）　１４，１４．・・・内のセラミックス原
料１７は、仮焼が終ったセラミックス原料１７が定量排
出装置１８により一定量づっ炉体１２の底部から排出さ
れるにつれて、上記スリ７）　１４，１４．・・・内を
流下する。この過程で上記セラミックス原料１７は発熱
体１６，１６．・・・により加熱されて仮焼合成が進行
する。仮焼ゾーン２１ｂにおけるセラミックス原料１７
の仮焼合成の合成炭の制御は、発熱体１６，１６．・・
・の温度と、定量排出装置１８による仮焼合成の終った
セラミックス原料１７の排出量の制御により行うことが
できる。

仮焼ゾーン２１ｂにて仮焼合成の終ったセラミックス原
料１７は、焼成ゾーン２１ｂから冷却ゾーン２１ｃに導
かれ、この冷却ゾーン２１ｃで冷却された後、上記定量
排出装置１８により炉体１２の外部に排出される。

上記実施例では、セラミックス原料１７は、スリット１
４，１４．・・・内を自重により流下するようにするた
め予め造粒処理を行うとともに、スリ７）　１４，１４
．、、、の幅ｄを３Ｏｎ＋ｍないし８０ｍｍと比較的狭
く設定することにより、スリット１４゜１４、・・・内
を落下するセラミックス原料１７全体がほず均一に加熱
され、品質の良好なセラミックス原料１７の仮焼物を得
ることができた。

本発明はセラミックス原料仮焼炉に限定されず、成形の
終ったセラミックス成形体の本焼成炉等にも適用するこ
とができる。

【図面の簡単な説明】

第１１図は本発明に係る焼成炉の一実施例の斜視図、第
２図は第１図の焼成炉の内部構造を示す部分拡大断面図
、第３図（、）は従来の焼成炉の説明図、第３図（ｂ）
は第３図（ａ）の焼成炉の温度分布図、・　第４図は第
３図（ａ）の焼成炉に使用される焼成匣の斜視図である
。１１・・・ホッパ部、　　　　１２・・・炉体、１３・
・・隔壁、　　　　　　１４・・・スリット、１５・・
・空洞、　　　　　１６・・・発熱体、１７・・・セラ
ミックス原料、１８・・・定量排出装置。

Claims

【特許請求の範囲】

（１）炉体上部に配置され、投入された被焼成物が予熱
されるホッパ部と、このホッパ部の下部に炉体内に所定
の間隔をおいて配置され、上部では上記ホッパ部に開口
するとともに、下部では炉体底部に開口するスリットを
画成する複数の隔壁と、上記隔壁の内部に配置された発
熱体と、炉体底部の開口に配置され上記スリット内を流
下する過程で焼成された被焼成物が定量排出される定量
排出手段とを備えていることを特徴とする焼成炉。