JPS61192435A - 静電吸着保持装置 - Google Patents
静電吸着保持装置Info
- Publication number
- JPS61192435A JPS61192435A JP60033497A JP3349785A JPS61192435A JP S61192435 A JPS61192435 A JP S61192435A JP 60033497 A JP60033497 A JP 60033497A JP 3349785 A JP3349785 A JP 3349785A JP S61192435 A JPS61192435 A JP S61192435A
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- Japan
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- sample
- insulating layer
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/20—Means for supporting or positioning the objects or the material; Means for adjusting diaphragms or lenses associated with the support
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Jigs For Machine Tools (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、静電吸着力を利用する保持装置、特に吸着・
解放の応答時間を短縮した静電吸着保持装置に関する。
解放の応答時間を短縮した静電吸着保持装置に関する。
［従来の技術］
従来、この種の保持装置として、第５図に示す構成のも
のが知られている。この装置は、光やＸ線、電子ビーム
、イオンビームを用いた半導体製造装置例えば露光Ｂ置
やエツチング装置に、マスクやウェハ、あるいはその装
置の構成部品等を必要に応じて固定あるいは解放するた
めに用いられる。図中、１は有機物やセラミックス材料
で作られた吸着基板、２．３は一対の電極、４は絶縁層
、５は試料（被吸着物）である。
のが知られている。この装置は、光やＸ線、電子ビーム
、イオンビームを用いた半導体製造装置例えば露光Ｂ置
やエツチング装置に、マスクやウェハ、あるいはその装
置の構成部品等を必要に応じて固定あるいは解放するた
めに用いられる。図中、１は有機物やセラミックス材料
で作られた吸着基板、２．３は一対の電極、４は絶縁層
、５は試料（被吸着物）である。
この装置において、電極２，３間に電圧を印加すると、
導電性の試料５を介して電界が絶縁層４の中に発生する
。この結果、絶縁層４は誘電分極を生じ、ある電荷を発
生し、この時、試料５と電極２．３の間に静電的な吸引
力を発生する。すなわち、試料５は絶縁層４に静電吸着
される。
導電性の試料５を介して電界が絶縁層４の中に発生する
。この結果、絶縁層４は誘電分極を生じ、ある電荷を発
生し、この時、試料５と電極２．３の間に静電的な吸引
力を発生する。すなわち、試料５は絶縁層４に静電吸着
される。
ところで、この装置においては、電極２，３間への電圧
印加を止めてもしばらくの間、試料５が吸着されたまま
の状態になってしまうという欠点があった。これは、吸
着後、電極２．３間へ印加する電圧を遮断しても試料５
と電極２．３の間にある絶縁層４は、分極したままで電
荷が残留するためである。さらに、この従来の装置は、
絶縁層４の上に試料５が無い場合に、空気等の流動に伴
う静電気を発生し、ゴミ等を絶縁層に吸着してしまうと
いう欠点もあった。
印加を止めてもしばらくの間、試料５が吸着されたまま
の状態になってしまうという欠点があった。これは、吸
着後、電極２．３間へ印加する電圧を遮断しても試料５
と電極２．３の間にある絶縁層４は、分極したままで電
荷が残留するためである。さらに、この従来の装置は、
絶縁層４の上に試料５が無い場合に、空気等の流動に伴
う静電気を発生し、ゴミ等を絶縁層に吸着してしまうと
いう欠点もあった。
Ｉ弁明の目的］
本発明は、静電吸着保持装置において、被保持物体の吸
着・解放、特に解放に必要な時間を短縮するとともに、
吸着面の静電気や上記解放後に残留する電荷による吸着
面へのゴミ等の付着を根絶することにある。
着・解放、特に解放に必要な時間を短縮するとともに、
吸着面の静電気や上記解放後に残留する電荷による吸着
面へのゴミ等の付着を根絶することにある。
［実施例の説明］
以下、図面により本発明の詳細な説明する。
第１図は本発明の一実施例に係る静電吸着保持装置の構
成を示す。同図において、１は有機物やセラミックスで
作られた吸着基板、２．３は１対の電極、４は絶縁層、
５は試料である。
成を示す。同図において、１は有機物やセラミックスで
作られた吸着基板、２．３は１対の電極、４は絶縁層、
５は試料である。
６は、光に感じて導電性を発現する材料、例えばポリ−
Ｎ−ビニルカルバゾール、臭素化ポリ−Ｎ−ビニルカル
バゾール、塩素化ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール ビニルアセナフテン、２，５−ジフェニルオキサゾール
、２，５−ビス（ｐ−アミンフェノール）− １．
３． ４−オキシチアゾールもしくは２，５ービス（
ｐ−７ミノフエノール）− １． ３． ４−ト
リアゾール等の有機透光性光導電材料またはシリコン、
酸化チタン、酸化亜鉛、流化カドミウムもしくはセレン
等の光導電性無機材料、あるいは上記材料の複合もしく
は積層材からなる光導電膜である。このような光導電性
材料としては種々の波長対感度特性を有するものが知ら
れており、また、適当な顔料成分等を添加することによ
り、この感度特性を調整することも可能である。また、
この光導電膜６の厚さは本発明の趣旨から比較的任意で
あるが、普通には１μ〜１００μ程度が好ましい。
Ｎ−ビニルカルバゾール、臭素化ポリ−Ｎ−ビニルカル
バゾール、塩素化ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール ビニルアセナフテン、２，５−ジフェニルオキサゾール
、２，５−ビス（ｐ−アミンフェノール）− １．
３． ４−オキシチアゾールもしくは２，５ービス（
ｐ−７ミノフエノール）− １． ３． ４−ト
リアゾール等の有機透光性光導電材料またはシリコン、
酸化チタン、酸化亜鉛、流化カドミウムもしくはセレン
等の光導電性無機材料、あるいは上記材料の複合もしく
は積層材からなる光導電膜である。このような光導電性
材料としては種々の波長対感度特性を有するものが知ら
れており、また、適当な顔料成分等を添加することによ
り、この感度特性を調整することも可能である。また、
この光導電膜６の厚さは本発明の趣旨から比較的任意で
あるが、普通には１μ〜１００μ程度が好ましい。
ここで、光とは、赤外、可視、紫外および遠紫外光の他
、Ｘ線等上記光導電性材料を感光し得るあらゆる光を意
味している。
、Ｘ線等上記光導電性材料を感光し得るあらゆる光を意
味している。
７は照明装置で、例えば白熱ランプ、螢光ランプ、水銀
灯、レーザ発成照明装置あるいはＸ線発生装置等である
。また、オプチカルファイバー、あるいは反射鏡レンズ
装置等を用いて光を導いても結果は同じである。
灯、レーザ発成照明装置あるいはＸ線発生装置等である
。また、オプチカルファイバー、あるいは反射鏡レンズ
装置等を用いて光を導いても結果は同じである。
次に、第１図の装置の動作を説明する。
導電性を有する試料５を光導電層６の上に設置し、照明
装Ｍ７を消灯した状態で電極２．３に不図示の電源装置
により電圧を印加する。これにより、絶縁層４および光
導電膜６が分極され、試料５は光導電膜６上に吸着され
る。この状態で、照明装置７を点灯すると、光導電膜６
が導電状態となり、電極２．３間に電圧が印加されたま
まであり絶縁層４が分極しているにもかかわらず、試料
５を解放することができる。また、この状態で照明装置
７を消灯すれば試料５を吸着することができるのは勿論
である。
装Ｍ７を消灯した状態で電極２．３に不図示の電源装置
により電圧を印加する。これにより、絶縁層４および光
導電膜６が分極され、試料５は光導電膜６上に吸着され
る。この状態で、照明装置７を点灯すると、光導電膜６
が導電状態となり、電極２．３間に電圧が印加されたま
まであり絶縁層４が分極しているにもかかわらず、試料
５を解放することができる。また、この状態で照明装置
７を消灯すれば試料５を吸着することができるのは勿論
である。
第２図は、本発明の他の実施例に係る静電吸着保持装置
の構成を示す。同図の装置は、第１図の装置に対し、吸
着基板１として透光性の良い材料、例えばガラスやＢＮ
．Ｓｉ３Ｎ４等の無機材料またはアクリルポリカーボネ
ート、ポリイミド等の有殿材料を用い、また、電極２，
３を炭素、Ｎ１、Ａｇ、Ａｎ等の導電薄膜で形成するこ
とによっていわゆるハーフミラ−状にし、さらに、絶縁
ｍ４としてＢＮやＳｉ３Ｎ４等の無機材料またはポリイ
ミド、ポリスチロール等、透光性の良い材料を用い、そ
の上部に光導電膜６を配置したものである。
の構成を示す。同図の装置は、第１図の装置に対し、吸
着基板１として透光性の良い材料、例えばガラスやＢＮ
．Ｓｉ３Ｎ４等の無機材料またはアクリルポリカーボネ
ート、ポリイミド等の有殿材料を用い、また、電極２，
３を炭素、Ｎ１、Ａｇ、Ａｎ等の導電薄膜で形成するこ
とによっていわゆるハーフミラ−状にし、さらに、絶縁
ｍ４としてＢＮやＳｉ３Ｎ４等の無機材料またはポリイ
ミド、ポリスチロール等、透光性の良い材料を用い、そ
の上部に光導電膜６を配置したものである。
この場合は、吸着を解放するための照明装置７を吸着基
板１の裏面に設置することができる。なお、動作につい
ては、第１図の装置と同様である。
板１の裏面に設置することができる。なお、動作につい
ては、第１図の装置と同様である。
第３図は、第２図を変形した例で、吸着保持すべき物体
が試料ではなく、機構部品、例えばＸＹテーブルの如き
ものまたはその一部であるような場合に好適である。第
３図の装置においては、被吸着物５′と電極３の間に電
圧を印加するように構成すれば、このような被吸着物５
′に対しブレーキあるいはクランプの役目を果すことが
できる。
が試料ではなく、機構部品、例えばＸＹテーブルの如き
ものまたはその一部であるような場合に好適である。第
３図の装置においては、被吸着物５′と電極３の間に電
圧を印加するように構成すれば、このような被吸着物５
′に対しブレーキあるいはクランプの役目を果すことが
できる。
作動状況は前述と同様である。
第４図は、本発明のさらに他の実施例を示す。
この装置は、光導電膜６を絶縁層４の吸着面に埋め込ん
で光導電膜６に試料５が直接触れない構造としたもので
ある。この構造であれば、光導電膜６の摩耗を防止でき
るため、長寿命で、高精度を長期間維持することができ
る。なお、この構造においては、当初、光導電膜６が絶
縁層４の吸着面より出張っているような場合でも、絶縁
層４より柔らかい光導電膜６の方がより速く摩耗して結
果的には吸着面より引込んだ構造に落着くため、以後は
光導電膜６の摩耗を防止することができる。
で光導電膜６に試料５が直接触れない構造としたもので
ある。この構造であれば、光導電膜６の摩耗を防止でき
るため、長寿命で、高精度を長期間維持することができ
る。なお、この構造においては、当初、光導電膜６が絶
縁層４の吸着面より出張っているような場合でも、絶縁
層４より柔らかい光導電膜６の方がより速く摩耗して結
果的には吸着面より引込んだ構造に落着くため、以後は
光導電膜６の摩耗を防止することができる。
また、吸着面における絶縁層４と光導電膜６のパターン
は特に限定されないが、例えば両者を吸着基板位置に縞
模様または格子模様状あるいは環状に配したりしてビン
チャック支持にすることが可能である。
は特に限定されないが、例えば両者を吸着基板位置に縞
模様または格子模様状あるいは環状に配したりしてビン
チャック支持にすることが可能である。
し発明の効果］
以上のように本発明によると、吸着面に光導電膜を設け
、この光導電膜に光を照射することにより吸着面の全部
または一部を導電性にして吸着を解放するようにしたた
め、絶縁層の帯電による影響を全く受けない。従って、
静電吸着保持装置の特に解放時間を短縮することができ
、高速応答の装置を実現することができる。また、吸着
面の電荷を完全に除去するので、残留する静電気による
ゴミの吸着面への付着を根絶することができる。
、この光導電膜に光を照射することにより吸着面の全部
または一部を導電性にして吸着を解放するようにしたた
め、絶縁層の帯電による影響を全く受けない。従って、
静電吸着保持装置の特に解放時間を短縮することができ
、高速応答の装置を実現することができる。また、吸着
面の電荷を完全に除去するので、残留する静電気による
ゴミの吸着面への付着を根絶することができる。
ざらに、従来の静電吸着装置では、高速ガス流や、機械
的なワイパー、例えばブラッシングの如き方法で吸着面
に付着したゴミを取り除こうとしても同時に発生する静
電気のため逆にゴミの付着を強くしてしまうという問題
があったが、本発明によると静電気の残留は全くないの
で自在にゴミを取り除くことが可能となる。
的なワイパー、例えばブラッシングの如き方法で吸着面
に付着したゴミを取り除こうとしても同時に発生する静
電気のため逆にゴミの付着を強くしてしまうという問題
があったが、本発明によると静電気の残留は全くないの
で自在にゴミを取り除くことが可能となる。
第１図は本発明の一実施例に係る静電吸着保持装置の要
部縦断面図、第２〜４図はそれぞれ本発明の他の実施例
に係る静電吸着保持装置の要部縦断面図、第５図は従来
の静電吸着保持装置の要部縦断面図である。 １：吸着基板、２．３：電極、４：絶縁層、５：試料、
６：光導電膜、７：照明装置。 第１図 第２ 図 第４図 第５図
部縦断面図、第２〜４図はそれぞれ本発明の他の実施例
に係る静電吸着保持装置の要部縦断面図、第５図は従来
の静電吸着保持装置の要部縦断面図である。 １：吸着基板、２．３：電極、４：絶縁層、５：試料、
６：光導電膜、７：照明装置。 第１図 第２ 図 第４図 第５図
Claims (1)
- 絶縁性材料表面を帯電することにより発生する静電吸着
力を利用して該表面に被保持物を吸着保持する保持装置
において、上記絶縁性材料の表面および裏面の少なくと
も一方に光導電性を有する光導電膜を設けるとともに、
該光導電膜を照射可能な光源を設けたことを特徴とする
静電吸着保持装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60033497A JPS61192435A (ja) | 1985-02-21 | 1985-02-21 | 静電吸着保持装置 |
| US06/830,746 US4667110A (en) | 1985-02-21 | 1986-02-19 | Apparatus for holding an object by use of electrostatic attracting force |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60033497A JPS61192435A (ja) | 1985-02-21 | 1985-02-21 | 静電吸着保持装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61192435A true JPS61192435A (ja) | 1986-08-27 |
| JPH0561063B2 JPH0561063B2 (ja) | 1993-09-03 |
Family
ID=12388184
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60033497A Granted JPS61192435A (ja) | 1985-02-21 | 1985-02-21 | 静電吸着保持装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4667110A (ja) |
| JP (1) | JPS61192435A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0311750A (ja) * | 1989-06-09 | 1991-01-21 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 試料吸着ホルダ |
| JPH08214572A (ja) * | 1995-02-06 | 1996-08-20 | Natl Res Inst For Metals | 双極子電極プローブと同プローブを用いた 微小物操作方法 |
| JP2019510369A (ja) * | 2016-03-14 | 2019-04-11 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドＡｐｐｌｉｅｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ，Ｉｎｃｏｒｐｏｒａｔｅｄ | チャッキング解除工程中に静電チャック上の残留電荷を除去する方法 |
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| JP2748127B2 (ja) * | 1988-09-02 | 1998-05-06 | キヤノン株式会社 | ウエハ保持方法 |
| JPH0344713A (ja) * | 1989-07-12 | 1991-02-26 | Omron Corp | 静電駆動装置および静電駆動装置の制御回路 |
| US5255153A (en) * | 1990-07-20 | 1993-10-19 | Tokyo Electron Limited | Electrostatic chuck and plasma apparatus equipped therewith |
| DE69231299T2 (de) * | 1991-11-07 | 2001-01-18 | Varian Semiconductor Equipment | Verfahren zur Herstellung einer elektrostatischen Halteplatte |
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| US5801915A (en) * | 1994-01-31 | 1998-09-01 | Applied Materials, Inc. | Electrostatic chuck having a unidirectionally conducting coupler layer |
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| JP2019075477A (ja) * | 2017-10-17 | 2019-05-16 | 株式会社ディスコ | チャックテーブル機構 |
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| US4412133A (en) * | 1982-01-05 | 1983-10-25 | The Perkin-Elmer Corp. | Electrostatic cassette |
-
1985
- 1985-02-21 JP JP60033497A patent/JPS61192435A/ja active Granted
-
1986
- 1986-02-19 US US06/830,746 patent/US4667110A/en not_active Expired - Lifetime
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JP2019510369A (ja) * | 2016-03-14 | 2019-04-11 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドＡｐｐｌｉｅｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ，Ｉｎｃｏｒｐｏｒａｔｅｄ | チャッキング解除工程中に静電チャック上の残留電荷を除去する方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0561063B2 (ja) | 1993-09-03 |
| US4667110A (en) | 1987-05-19 |
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