JPS61186187A - レ−ザビ−ム加工装置 - Google Patents
レ−ザビ−ム加工装置Info
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- JPS61186187A JPS61186187A JP60024474A JP2447485A JPS61186187A JP S61186187 A JPS61186187 A JP S61186187A JP 60024474 A JP60024474 A JP 60024474A JP 2447485 A JP2447485 A JP 2447485A JP S61186187 A JPS61186187 A JP S61186187A
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- reflecting mirror
- collimator
- ring
- reflector
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
〔産業上の利用分野〕
この発明は、レーザビーム加工装置、す々わち高融点材
料の溶接、マイクロの溶接、穴あけ、または切断などの
加工を行なうレーザビーム加工装置に関するもので、特
にこの発明は不安定形共振器によって生成されるリング
状のレーザビームの形状変換装置に関するものでるる。 〔従来の技術〕 第12図は従来のこの種レーザビーム加工装置を示す構
成図で、(1)は凹面鏡、(2)は凸面鏡で、この凸面
鏡(2)と凹面鏡(1)とによって不安定形レーザ共振
器(A)を構成している。(3)はレーザ光源としてた
とえばr Cot J を用い、放電によって励起さ
れた循環ガスからなるレーザ媒質、(4)は環状反射鏡
。 (5)は上記凹面鏡(1)と凸面鏡(2)との間で生成
されたリング状のレーザビーム、(6)はこのレーザビ
ーム(5)の回折損として外部に取出されるリング状の
平行レーザビーム、(力はこの平行レーザビーム(6)
ヲ一対の平板形反射tilt(8)、 (8)および集
光レンズ(9)を介して被加物α1に照射されるリング
状レーザビームでめる。 従来のレーザビーム加工装置は上記のように構成されて
いるので、不安定形レーザ共振器(〜、すなわち凹面鏡
(1)と凸面@ (2)との間を往復する光は、レーザ
媒質(3)によって増幅される。そして、不安定形レー
ザ共振器(A)の回折損がリング状の平行レーザビーム
(6)が環状反射鏡(4)によってレーザ共振器外部に
リング状レーザビーム(7)として取出され、一対の平
板形反射鏡(8)、 (8)および集光レンズ(9)を
介して被加工物(11に照射され、これを加工する。 このリング状レーザビーム(7)のM値〔不安定共振器
を用いたレーザ共振器(A)から取出され九レーザビー
ムを集光する場合の集光性能を表わす指数をいう〕は、
このリング状レーザビーム(7)の内径をρ1.外径を
ρ!とすると。 M=ρt/ρ1 ・・・・・・〔1〕とな
る。そして、このM値、および凹面鏡(1)と凸面鏡(
2)の曲率半径をR,−Rいならびに凹面鏡(1)と凸
面鏡(2)との距離をLとすると、リング状レーザビー
A(力として取出される条件は、 L −R,=”y+ −−−−−−C2]L Rt = M ・・・・・・〔6
〕となる。ま几、リング状レーザビーム(7)が均質で
6るとすれば、集光レンズ(9)によって集光した場合
、その中央強度は、リング状レーザビーム(7)の内径
をρ1.外径なPv、M値をρ、/P0、レーザパワー
をW7、および波長をλとすれば、 Wγ 1 1a下”Pt (I M、 ) −−(4)とし
て表わすことができる。 したがって、リング状レーザビーム(7)の外径ρ。 が一定の場合には、M値が大きいほど中央強度が強く集
光性能がよい。 一方、上記M値と発信器の結合率δgeo とは、δg
eo=1−■ ・・・・・・〔5〕で結ばれるが
、これは安定形のレーザ共振器の部分反射鏡の透過率に
対応するもので、M値が太きいほど大きくなる1つこれ
は、レーザビームの発振効率の減少を意味するもので、
軸直交型放電励起CO,レーザにおいて放!’[力と、
レーザ出力との関係を示すレーザ共振器の発振特性を示
す第11図において、M=1.5〜2.0とすると、た
とえば放電電力20KWで、レーザビーム出力は1.7
KWから1.4 KWに減少していることがわかる。 〔発明が解決しようとする問題点〕 従来のレーザビーム加工装置は上記のように構成されて
いるので、上述し几ように集光特性の優れたレーザビー
ムを得るためにM値を上げるには、レーザ共振器(A)
、すなわち凹面a (1)と凸面鏡(2)との距離、ま
たはこの両凹凸面m(1)、 (2)の曲率半径を上記
[2〕、 [6〕式に従って変更する必要がるるか、こ
れはレーザ共振器(A)の改造がきわめて面倒であり、
また上記M値を上げると、上記〔5〕式により透過率が
増大してレーザビー云の発振効率が低下し、高出力のレ
ーザビームがレーザ共振器力ら得られない欠点がめる。 この発明はかかる点に着目してなされたもので。 レーザビームの発振効率を同一に保持し、かつレーザビ
ームの外径Ptを変えないで上記M値を変換することが
できるレーザビーム加工装置を提供しようとするもので
るる。 〔問題点を解決するための手段〕 この発明にかかるレーザビーム加工装置、レーザビーム
共振器の外部において互いに対向する円錐形反射鏡と、
凹形環状反射鏡、およびコリメータ(Co l l i
mator) (光源の光を集光レンズや分光器など
に送るために、レンズ系を利用して平行光線束にする装
置で、「規準器」ともいう)を設けたものでるる。 〔作用〕 この発明は、円錐形反射鏡と、凹形環状反射鏡とによっ
てレーザビームのM値を変えるとともに、レーザビーム
の外径をコリメータにより入射レーザビームと一致させ
て発振効率を向上させ、高出力のレーザビームを得るよ
うにしたものでbる。 〔発明の実施例〕 第1図〜第5図は何れもこの発明の一実施例を示すもの
で、第1図はレーザビーム加工装置の構成を示す断面図
、第2図はコリメータを示す断面図、第3図は凹形環状
反射鏡を示す斜視図、第4図は円錐形反射鏡の斜視図、
第5図は入射レーザビームの特性図でめる。なお、第1
図〜第4図において上述し几従来のもの(第12図)と
同一符号は同一構成部材につきその説明を省略する。 ′1f、第1図、第6.゛4および第4図において、(
2)は平板形反射鏡(8)によって反射されたリング状
の平行レーザビーム、(7)は環状反射鏡−によって第
3図に示す凹形環状反射鏡α玲のすり鉢形反射面(11
a)に向って反射されたリング状の平行レーザビーム:
*1)は上記凹形環状反射鏡α力により第4図に示す
円錐形反射鏡(ロ)に向って反射され九リング状のレー
ザビーム、勾は上記円錐形反射W、(2)により平板形
反射鏡(8)に向って反射されたリング状の平行レーザ
ビーム、翰は上記平板形反射鏡(8)によりコリメータ
(1)に向って反射されたリング状の平行レーザビーム
、(ハ)は上記コリメータ(1)から集光レンズ(9)
に向って串射されたリング状の加工レーザビーム、α1
け被加工物である。 次に、第2図は上記コリメータ■の内部を示す断面図で
、このコリメータ(至)は、上記平板形反射鏡(8)か
ら反射されたリング状の平行レーザビーム翰を末広がり
に発散させる円錐形反射鏡01)と、この円錐形反射鏡
61)から反射された発散反射レーザビームを環状反射
##、(至)に向って反射させる凹形環状反射鏡02と
によって構成されている。なお、上記円錐形反射鏡01
)と、凹形環状反射鏡o2とは曲率半径が同一で、符号
が逆になされているこの発明のレーザビーム加工装置は
上記のように構成されているので、不安定形レーザ共振
器(〜。 すなわち凹面fi (1)と凸面鏡(2)との間を往復
する元は、レーザ媒質(3)によって増幅される。そし
て不安定レーザ共振器(A)の回折損がリング状の平行
レーザビーム(7)として取出される。次に、この平行
レーザビーム(7) tit平板状反射鏡(8)→環状
反射鏡■→凹形環状反射鏡αη→円錐形反射鏡(6)→
平板形反射鏡(8)を経てコリメータ■内に入射される
わけでるるが、上記凹形環状反射鏡CL、)の水平軸と
のなす角度θ、Iと、円錐形反射鏡(2)の水平軸との
なす角度θ1.とを、θ1.=θ8.の関係に形成して
おけばリング状の平行レーザビーム翰は互いに平行に出
射される。欠に、コリメータ(1)内に入射されたリン
グ状の平行レーザビーム(資)は、第2図に示すように
円錐形反射鏡0D→凹形環状反射鏡02→環状反射鏡?
33を経て被加工物α1に対向する集光レンズ(9)に
向ってリング状の加工レーザビーム(ハ)として出射さ
れるわけであるが、この加工レーザビーム(ハ)と。 上記リング状の平行レーザビーム□□□とは互いに相似
形で、外径のみが変化してコリメート作業を行なうわけ
である。 いま、上記リング状の平行レーザビーム(至)の内径を
ρ、(i)、そして外径をρ2(i)とすると、(ρt
Pl)を一定に保持したまま平行レーザビーム(ハ
)は外径のみが縮少されたレーザビームとして出射され
るが、この平行レーザビーム翰の内径をρ1(d、そし
て外径なρ2(d′とすると1 、、(i) 、、(i) = (o) (υ
01100.〔6〕P2 ρ1 となり、それぞれのM値は、 となり、さらに第1図に示すように、凹形環状反射鏡(
ロ)とJ円錐形反射鏡(6)間の距離をし、そしてこの
両反射鏡αや、(6)の水平軸とのなす角度が011
” ’?tとすると、 ρ−=ρ2” −L 、tanθ1129000.〔9
〕となる。したがって、レーザビームのM値は、上記〔
8〕式によって変換され、また外径は上記
料の溶接、マイクロの溶接、穴あけ、または切断などの
加工を行なうレーザビーム加工装置に関するもので、特
にこの発明は不安定形共振器によって生成されるリング
状のレーザビームの形状変換装置に関するものでるる。 〔従来の技術〕 第12図は従来のこの種レーザビーム加工装置を示す構
成図で、(1)は凹面鏡、(2)は凸面鏡で、この凸面
鏡(2)と凹面鏡(1)とによって不安定形レーザ共振
器(A)を構成している。(3)はレーザ光源としてた
とえばr Cot J を用い、放電によって励起さ
れた循環ガスからなるレーザ媒質、(4)は環状反射鏡
。 (5)は上記凹面鏡(1)と凸面鏡(2)との間で生成
されたリング状のレーザビーム、(6)はこのレーザビ
ーム(5)の回折損として外部に取出されるリング状の
平行レーザビーム、(力はこの平行レーザビーム(6)
ヲ一対の平板形反射tilt(8)、 (8)および集
光レンズ(9)を介して被加物α1に照射されるリング
状レーザビームでめる。 従来のレーザビーム加工装置は上記のように構成されて
いるので、不安定形レーザ共振器(〜、すなわち凹面鏡
(1)と凸面@ (2)との間を往復する光は、レーザ
媒質(3)によって増幅される。そして、不安定形レー
ザ共振器(A)の回折損がリング状の平行レーザビーム
(6)が環状反射鏡(4)によってレーザ共振器外部に
リング状レーザビーム(7)として取出され、一対の平
板形反射鏡(8)、 (8)および集光レンズ(9)を
介して被加工物(11に照射され、これを加工する。 このリング状レーザビーム(7)のM値〔不安定共振器
を用いたレーザ共振器(A)から取出され九レーザビー
ムを集光する場合の集光性能を表わす指数をいう〕は、
このリング状レーザビーム(7)の内径をρ1.外径を
ρ!とすると。 M=ρt/ρ1 ・・・・・・〔1〕とな
る。そして、このM値、および凹面鏡(1)と凸面鏡(
2)の曲率半径をR,−Rいならびに凹面鏡(1)と凸
面鏡(2)との距離をLとすると、リング状レーザビー
A(力として取出される条件は、 L −R,=”y+ −−−−−−C2]L Rt = M ・・・・・・〔6
〕となる。ま几、リング状レーザビーム(7)が均質で
6るとすれば、集光レンズ(9)によって集光した場合
、その中央強度は、リング状レーザビーム(7)の内径
をρ1.外径なPv、M値をρ、/P0、レーザパワー
をW7、および波長をλとすれば、 Wγ 1 1a下”Pt (I M、 ) −−(4)とし
て表わすことができる。 したがって、リング状レーザビーム(7)の外径ρ。 が一定の場合には、M値が大きいほど中央強度が強く集
光性能がよい。 一方、上記M値と発信器の結合率δgeo とは、δg
eo=1−■ ・・・・・・〔5〕で結ばれるが
、これは安定形のレーザ共振器の部分反射鏡の透過率に
対応するもので、M値が太きいほど大きくなる1つこれ
は、レーザビームの発振効率の減少を意味するもので、
軸直交型放電励起CO,レーザにおいて放!’[力と、
レーザ出力との関係を示すレーザ共振器の発振特性を示
す第11図において、M=1.5〜2.0とすると、た
とえば放電電力20KWで、レーザビーム出力は1.7
KWから1.4 KWに減少していることがわかる。 〔発明が解決しようとする問題点〕 従来のレーザビーム加工装置は上記のように構成されて
いるので、上述し几ように集光特性の優れたレーザビー
ムを得るためにM値を上げるには、レーザ共振器(A)
、すなわち凹面a (1)と凸面鏡(2)との距離、ま
たはこの両凹凸面m(1)、 (2)の曲率半径を上記
[2〕、 [6〕式に従って変更する必要がるるか、こ
れはレーザ共振器(A)の改造がきわめて面倒であり、
また上記M値を上げると、上記〔5〕式により透過率が
増大してレーザビー云の発振効率が低下し、高出力のレ
ーザビームがレーザ共振器力ら得られない欠点がめる。 この発明はかかる点に着目してなされたもので。 レーザビームの発振効率を同一に保持し、かつレーザビ
ームの外径Ptを変えないで上記M値を変換することが
できるレーザビーム加工装置を提供しようとするもので
るる。 〔問題点を解決するための手段〕 この発明にかかるレーザビーム加工装置、レーザビーム
共振器の外部において互いに対向する円錐形反射鏡と、
凹形環状反射鏡、およびコリメータ(Co l l i
mator) (光源の光を集光レンズや分光器など
に送るために、レンズ系を利用して平行光線束にする装
置で、「規準器」ともいう)を設けたものでるる。 〔作用〕 この発明は、円錐形反射鏡と、凹形環状反射鏡とによっ
てレーザビームのM値を変えるとともに、レーザビーム
の外径をコリメータにより入射レーザビームと一致させ
て発振効率を向上させ、高出力のレーザビームを得るよ
うにしたものでbる。 〔発明の実施例〕 第1図〜第5図は何れもこの発明の一実施例を示すもの
で、第1図はレーザビーム加工装置の構成を示す断面図
、第2図はコリメータを示す断面図、第3図は凹形環状
反射鏡を示す斜視図、第4図は円錐形反射鏡の斜視図、
第5図は入射レーザビームの特性図でめる。なお、第1
図〜第4図において上述し几従来のもの(第12図)と
同一符号は同一構成部材につきその説明を省略する。 ′1f、第1図、第6.゛4および第4図において、(
2)は平板形反射鏡(8)によって反射されたリング状
の平行レーザビーム、(7)は環状反射鏡−によって第
3図に示す凹形環状反射鏡α玲のすり鉢形反射面(11
a)に向って反射されたリング状の平行レーザビーム:
*1)は上記凹形環状反射鏡α力により第4図に示す
円錐形反射鏡(ロ)に向って反射され九リング状のレー
ザビーム、勾は上記円錐形反射W、(2)により平板形
反射鏡(8)に向って反射されたリング状の平行レーザ
ビーム、翰は上記平板形反射鏡(8)によりコリメータ
(1)に向って反射されたリング状の平行レーザビーム
、(ハ)は上記コリメータ(1)から集光レンズ(9)
に向って串射されたリング状の加工レーザビーム、α1
け被加工物である。 次に、第2図は上記コリメータ■の内部を示す断面図で
、このコリメータ(至)は、上記平板形反射鏡(8)か
ら反射されたリング状の平行レーザビーム翰を末広がり
に発散させる円錐形反射鏡01)と、この円錐形反射鏡
61)から反射された発散反射レーザビームを環状反射
##、(至)に向って反射させる凹形環状反射鏡02と
によって構成されている。なお、上記円錐形反射鏡01
)と、凹形環状反射鏡o2とは曲率半径が同一で、符号
が逆になされているこの発明のレーザビーム加工装置は
上記のように構成されているので、不安定形レーザ共振
器(〜。 すなわち凹面fi (1)と凸面鏡(2)との間を往復
する元は、レーザ媒質(3)によって増幅される。そし
て不安定レーザ共振器(A)の回折損がリング状の平行
レーザビーム(7)として取出される。次に、この平行
レーザビーム(7) tit平板状反射鏡(8)→環状
反射鏡■→凹形環状反射鏡αη→円錐形反射鏡(6)→
平板形反射鏡(8)を経てコリメータ■内に入射される
わけでるるが、上記凹形環状反射鏡CL、)の水平軸と
のなす角度θ、Iと、円錐形反射鏡(2)の水平軸との
なす角度θ1.とを、θ1.=θ8.の関係に形成して
おけばリング状の平行レーザビーム翰は互いに平行に出
射される。欠に、コリメータ(1)内に入射されたリン
グ状の平行レーザビーム(資)は、第2図に示すように
円錐形反射鏡0D→凹形環状反射鏡02→環状反射鏡?
33を経て被加工物α1に対向する集光レンズ(9)に
向ってリング状の加工レーザビーム(ハ)として出射さ
れるわけであるが、この加工レーザビーム(ハ)と。 上記リング状の平行レーザビーム□□□とは互いに相似
形で、外径のみが変化してコリメート作業を行なうわけ
である。 いま、上記リング状の平行レーザビーム(至)の内径を
ρ、(i)、そして外径をρ2(i)とすると、(ρt
Pl)を一定に保持したまま平行レーザビーム(ハ
)は外径のみが縮少されたレーザビームとして出射され
るが、この平行レーザビーム翰の内径をρ1(d、そし
て外径なρ2(d′とすると1 、、(i) 、、(i) = (o) (υ
01100.〔6〕P2 ρ1 となり、それぞれのM値は、 となり、さらに第1図に示すように、凹形環状反射鏡(
ロ)とJ円錐形反射鏡(6)間の距離をし、そしてこの
両反射鏡αや、(6)の水平軸とのなす角度が011
” ’?tとすると、 ρ−=ρ2” −L 、tanθ1129000.〔9
〕となる。したがって、レーザビームのM値は、上記〔
8〕式によって変換され、また外径は上記
〔9〕式によ
って変換されることになる。 々お、第5図に示すレーザビーム特性図は、凹形環状反
射鏡α力の水平軸とのなす角度θ、、、、、15とした
場合に、両反射鏡α埠、(2)間の距離りを変えること
によって入射したM = 1. ’l (p+ =
1、ρ、=1.1)のレーザビームのM値の変化状態を
示している。この第5図に示すように側皮射鏡αp、0
■間の距離りを適当に選択することによってM値を大き
くすることができ、このM値の増大によりレーザビーム
の外径は小さくなるが、この発明によればコリメータ(
至)によって元の外径に戻すため外径が一定でM値のみ
任意に大きくしたレーザビームを得ることができ、また
、この第5図に示すようにM値1.5〜5の変化の間で
、外径ハ0.6〜0.2と変化が少ないためコリメータ
が容易となる。 さらに従来のように共振器や反射jj!を交換しなくて
も側皮射鏡CIη、(6)間の距離りを連続的に変化さ
せることによって各種加工条件に適応したレーザビーム
のM値が得られるっ なお、上述した一実施例においては、コリメータ(1)
として各種反射鏡を用いたものについて述べたが、第6
図に示すように焦点距離が相違する一対のレンズリD、
(イ)を用い、入射し穴平行レーザビーム(財)を外径
のみ拡大して加工レーザビーム(ハ)として取出すよう
にしたものでもよい。“また、上述した一実施例におい
ては、レーザビームのM値を変えたのちコリメートする
ようにしたものについて述べたが、コリメートしためと
でM値を変えるようにしてもよい。きらに、上述した一
実施例はレーザビームのM値を上げる場合について述べ
たが、第7図に示すように、レーザビームの出力側から
レーザビームを入射するようにすれば逆ICM値を下げ
ることも可能でめる。さらにまた、第8図および第9図
は、円錐形反射鏡(6)を複数のアーム(至)で枠体−
に保持させるようにした場合を示している。 次に、第10図(A)、 (B)、 (C)は円錐形反
射鏡(6)と、凹形環状反射鏡α■との動作説明図で、
側皮射鏡(2)。 倶めのなす角度が第10図(A)に示すように、θ、1
=θ1□でめれば、入射レーザビーム(6)は平行なレ
ーザビーム(2)として出力されるが、この入射レーザ
ビーム(至)は通常数Mradの発散角を持っているた
め、上記角度が第10回申)に示すように011<θ、
!とすれば、入射レーザビーム(6)は集光レーザビー
ムとして出力される。したがって、入射レーザビーム四
が発散している場合、θ、1くθ1□の範囲でθ、2
を設定すれば平行レーザビームとして取出すことができ
る。なお、第10図(C)はこの逆の場合を示すもので
ある。 〔発明の効果〕 以上述べたように、この発明によれば、円錐形反射鏡(
6)と、凹形環状反射鏡α■とによってレーザビームの
M値を自在に変えることができるばかりでなく、レーザ
ビームの外径をコリメータωにより入射レーザビームと
一致させるようにしたので、従来のように共振器や、反
射鏡を交換する煩わしさが解消されると共に、発援効率
を向上させ、高出力のレーザビームが得られる効果かり
る。また。 この発明によれば凹形環状反射鏡αηと、円錐形反射・
鏡(12との間の距離りを変えるだけの簡単な操作でレ
ーザビームの発散角度を補正することができる優れた効
果を有するものである。
って変換されることになる。 々お、第5図に示すレーザビーム特性図は、凹形環状反
射鏡α力の水平軸とのなす角度θ、、、、、15とした
場合に、両反射鏡α埠、(2)間の距離りを変えること
によって入射したM = 1. ’l (p+ =
1、ρ、=1.1)のレーザビームのM値の変化状態を
示している。この第5図に示すように側皮射鏡αp、0
■間の距離りを適当に選択することによってM値を大き
くすることができ、このM値の増大によりレーザビーム
の外径は小さくなるが、この発明によればコリメータ(
至)によって元の外径に戻すため外径が一定でM値のみ
任意に大きくしたレーザビームを得ることができ、また
、この第5図に示すようにM値1.5〜5の変化の間で
、外径ハ0.6〜0.2と変化が少ないためコリメータ
が容易となる。 さらに従来のように共振器や反射jj!を交換しなくて
も側皮射鏡CIη、(6)間の距離りを連続的に変化さ
せることによって各種加工条件に適応したレーザビーム
のM値が得られるっ なお、上述した一実施例においては、コリメータ(1)
として各種反射鏡を用いたものについて述べたが、第6
図に示すように焦点距離が相違する一対のレンズリD、
(イ)を用い、入射し穴平行レーザビーム(財)を外径
のみ拡大して加工レーザビーム(ハ)として取出すよう
にしたものでもよい。“また、上述した一実施例におい
ては、レーザビームのM値を変えたのちコリメートする
ようにしたものについて述べたが、コリメートしためと
でM値を変えるようにしてもよい。きらに、上述した一
実施例はレーザビームのM値を上げる場合について述べ
たが、第7図に示すように、レーザビームの出力側から
レーザビームを入射するようにすれば逆ICM値を下げ
ることも可能でめる。さらにまた、第8図および第9図
は、円錐形反射鏡(6)を複数のアーム(至)で枠体−
に保持させるようにした場合を示している。 次に、第10図(A)、 (B)、 (C)は円錐形反
射鏡(6)と、凹形環状反射鏡α■との動作説明図で、
側皮射鏡(2)。 倶めのなす角度が第10図(A)に示すように、θ、1
=θ1□でめれば、入射レーザビーム(6)は平行なレ
ーザビーム(2)として出力されるが、この入射レーザ
ビーム(至)は通常数Mradの発散角を持っているた
め、上記角度が第10回申)に示すように011<θ、
!とすれば、入射レーザビーム(6)は集光レーザビー
ムとして出力される。したがって、入射レーザビーム四
が発散している場合、θ、1くθ1□の範囲でθ、2
を設定すれば平行レーザビームとして取出すことができ
る。なお、第10図(C)はこの逆の場合を示すもので
ある。 〔発明の効果〕 以上述べたように、この発明によれば、円錐形反射鏡(
6)と、凹形環状反射鏡α■とによってレーザビームの
M値を自在に変えることができるばかりでなく、レーザ
ビームの外径をコリメータωにより入射レーザビームと
一致させるようにしたので、従来のように共振器や、反
射鏡を交換する煩わしさが解消されると共に、発援効率
を向上させ、高出力のレーザビームが得られる効果かり
る。また。 この発明によれば凹形環状反射鏡αηと、円錐形反射・
鏡(12との間の距離りを変えるだけの簡単な操作でレ
ーザビームの発散角度を補正することができる優れた効
果を有するものである。
第1図〜第5図は何れもこの発明の一実施例を示すもの
で、第1図はレーザビーム加工装置の構成を示す断面図
、第2図はコリメータの構成を示す断面図、@3図は凹
形環状反射鏡を示す斜視図、第4図は円錐形反射鏡を示
す斜視図、第5図は入射レーザビームの特性図でるる。 第6図はレンズ系によるコリメータの構成図、第7図は
レーザビームのM値を下げる場合のレーザビーム加工装
置の構成を示す断面図、第8図および第9図は円錐形反
射鏡(6)の保持手段の一例を示す円錐形反射鏡(6)
の斜視図と、レーザビーム加工装置の構成を示す断面図
、第10図(A)、 (B)、 (C)は円錐形反射鏡
CIつと、凹形環状反射鏡α■との動作説明図、第11
図は放電電力と、レーザ出力との関係を示すレーザ共振
器の見損特性図、第12図は従来のレーザビーム加工装
置の構成を示す断面図でるる。 図において、(9)は集光レンズ、αQけ被加工物、(
ロ)09は凹形環状反射鏡、CIつ09は円錐形反射鏡
、(1)はコリメータ、(至)は環状のレーザビーム取
出用反射鏡である。なお、図中同一符号は同一または相
当部分を示す。 代理人 弁理士 木 村 三 朗 162図 第 3r5!J 第 4 図 第8図 第10図 φ) u 手続補正書(自発) 昭和60手12月9日
で、第1図はレーザビーム加工装置の構成を示す断面図
、第2図はコリメータの構成を示す断面図、@3図は凹
形環状反射鏡を示す斜視図、第4図は円錐形反射鏡を示
す斜視図、第5図は入射レーザビームの特性図でるる。 第6図はレンズ系によるコリメータの構成図、第7図は
レーザビームのM値を下げる場合のレーザビーム加工装
置の構成を示す断面図、第8図および第9図は円錐形反
射鏡(6)の保持手段の一例を示す円錐形反射鏡(6)
の斜視図と、レーザビーム加工装置の構成を示す断面図
、第10図(A)、 (B)、 (C)は円錐形反射鏡
CIつと、凹形環状反射鏡α■との動作説明図、第11
図は放電電力と、レーザ出力との関係を示すレーザ共振
器の見損特性図、第12図は従来のレーザビーム加工装
置の構成を示す断面図でるる。 図において、(9)は集光レンズ、αQけ被加工物、(
ロ)09は凹形環状反射鏡、CIつ09は円錐形反射鏡
、(1)はコリメータ、(至)は環状のレーザビーム取
出用反射鏡である。なお、図中同一符号は同一または相
当部分を示す。 代理人 弁理士 木 村 三 朗 162図 第 3r5!J 第 4 図 第8図 第10図 φ) u 手続補正書(自発) 昭和60手12月9日
Claims (2)
- (1)リング状の平行レーザビームを反射させる凹形環
状反射鏡およびこの凹形環状反射鏡により反射されたリ
ング状のレーザビームを反射させる円錐形反射鏡を備え
、この円錐形反射鏡と被加工物に対向する集光レンズと
の間にリング状のレーザビームの外径と内径の比を変換
するコリメータを介装したことを特徴とするレーザビー
ム加工装置。 - (2)コリメータは、リング状の平行レーザビームを末
広がりに発散させる円錐形反射鏡と、この円錐反射鏡に
よつて反射された発散反射レーザビームを上記円錐形反
射鏡の近傍にこれを中央にして同心的に配設された環状
のレーザビーム取出用反射鏡とによつて構成されている
ことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載のレーザビ
ーム加工装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60024474A JPS61186187A (ja) | 1985-02-13 | 1985-02-13 | レ−ザビ−ム加工装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60024474A JPS61186187A (ja) | 1985-02-13 | 1985-02-13 | レ−ザビ−ム加工装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61186187A true JPS61186187A (ja) | 1986-08-19 |
Family
ID=12139160
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60024474A Pending JPS61186187A (ja) | 1985-02-13 | 1985-02-13 | レ−ザビ−ム加工装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61186187A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5674414A (en) * | 1994-11-11 | 1997-10-07 | Carl-Zeiss Stiftung | Method and apparatus of irradiating a surface of a workpiece with a plurality of beams |
EP1372012A3 (de) * | 2002-06-15 | 2005-03-30 | CARL ZEISS JENA GmbH | Optische Anordnung zur Beobachtung einer Probe oder eines Objekts |
CN100457362C (zh) * | 2004-01-30 | 2009-02-04 | 武汉天宇激光数控技术有限责任公司 | 激光环切打孔方法及其装置 |
-
1985
- 1985-02-13 JP JP60024474A patent/JPS61186187A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5674414A (en) * | 1994-11-11 | 1997-10-07 | Carl-Zeiss Stiftung | Method and apparatus of irradiating a surface of a workpiece with a plurality of beams |
EP1372012A3 (de) * | 2002-06-15 | 2005-03-30 | CARL ZEISS JENA GmbH | Optische Anordnung zur Beobachtung einer Probe oder eines Objekts |
CN100457362C (zh) * | 2004-01-30 | 2009-02-04 | 武汉天宇激光数控技术有限责任公司 | 激光环切打孔方法及其装置 |
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