JPS61186187A - レ−ザビ−ム加工装置 - Google Patents

レ−ザビ−ム加工装置

Info

Publication number
JPS61186187A
JPS61186187A JP60024474A JP2447485A JPS61186187A JP S61186187 A JPS61186187 A JP S61186187A JP 60024474 A JP60024474 A JP 60024474A JP 2447485 A JP2447485 A JP 2447485A JP S61186187 A JPS61186187 A JP S61186187A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
laser beam
reflecting mirror
collimator
ring
reflector
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP60024474A
Other languages
English (en)
Inventor
Kimiharu Yasui
公治 安井
Masaaki Tanaka
正明 田中
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP60024474A priority Critical patent/JPS61186187A/ja
Publication of JPS61186187A publication Critical patent/JPS61186187A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕 この発明は、レーザビーム加工装置、す々わち高融点材
料の溶接、マイクロの溶接、穴あけ、または切断などの
加工を行なうレーザビーム加工装置に関するもので、特
にこの発明は不安定形共振器によって生成されるリング
状のレーザビームの形状変換装置に関するものでるる。 〔従来の技術〕 第12図は従来のこの種レーザビーム加工装置を示す構
成図で、(1)は凹面鏡、(2)は凸面鏡で、この凸面
鏡(2)と凹面鏡(1)とによって不安定形レーザ共振
器(A)を構成している。(3)はレーザ光源としてた
とえばr Cot J  を用い、放電によって励起さ
れた循環ガスからなるレーザ媒質、(4)は環状反射鏡
。 (5)は上記凹面鏡(1)と凸面鏡(2)との間で生成
されたリング状のレーザビーム、(6)はこのレーザビ
ーム(5)の回折損として外部に取出されるリング状の
平行レーザビーム、(力はこの平行レーザビーム(6)
ヲ一対の平板形反射tilt(8)、 (8)および集
光レンズ(9)を介して被加物α1に照射されるリング
状レーザビームでめる。 従来のレーザビーム加工装置は上記のように構成されて
いるので、不安定形レーザ共振器(〜、すなわち凹面鏡
(1)と凸面@ (2)との間を往復する光は、レーザ
媒質(3)によって増幅される。そして、不安定形レー
ザ共振器(A)の回折損がリング状の平行レーザビーム
(6)が環状反射鏡(4)によってレーザ共振器外部に
リング状レーザビーム(7)として取出され、一対の平
板形反射鏡(8)、 (8)および集光レンズ(9)を
介して被加工物(11に照射され、これを加工する。 このリング状レーザビーム(7)のM値〔不安定共振器
を用いたレーザ共振器(A)から取出され九レーザビー
ムを集光する場合の集光性能を表わす指数をいう〕は、
このリング状レーザビーム(7)の内径をρ1.外径を
ρ!とすると。 M=ρt/ρ1       ・・・・・・〔1〕とな
る。そして、このM値、および凹面鏡(1)と凸面鏡(
2)の曲率半径をR,−Rいならびに凹面鏡(1)と凸
面鏡(2)との距離をLとすると、リング状レーザビー
A(力として取出される条件は、 L −R,=”y+       −−−−−−C2]L Rt =    M        ・・・・・・〔6
〕となる。ま几、リング状レーザビーム(7)が均質で
6るとすれば、集光レンズ(9)によって集光した場合
、その中央強度は、リング状レーザビーム(7)の内径
をρ1.外径なPv、M値をρ、/P0、レーザパワー
をW7、および波長をλとすれば、 Wγ     1 1a下”Pt (I  M、 )   −−(4)とし
て表わすことができる。 したがって、リング状レーザビーム(7)の外径ρ。 が一定の場合には、M値が大きいほど中央強度が強く集
光性能がよい。 一方、上記M値と発信器の結合率δgeo とは、δg
eo=1−■    ・・・・・・〔5〕で結ばれるが
、これは安定形のレーザ共振器の部分反射鏡の透過率に
対応するもので、M値が太きいほど大きくなる1つこれ
は、レーザビームの発振効率の減少を意味するもので、
軸直交型放電励起CO,レーザにおいて放!’[力と、
レーザ出力との関係を示すレーザ共振器の発振特性を示
す第11図において、M=1.5〜2.0とすると、た
とえば放電電力20KWで、レーザビーム出力は1.7
 KWから1.4 KWに減少していることがわかる。 〔発明が解決しようとする問題点〕 従来のレーザビーム加工装置は上記のように構成されて
いるので、上述し几ように集光特性の優れたレーザビー
ムを得るためにM値を上げるには、レーザ共振器(A)
、すなわち凹面a (1)と凸面鏡(2)との距離、ま
たはこの両凹凸面m(1)、 (2)の曲率半径を上記
[2〕、 [6〕式に従って変更する必要がるるか、こ
れはレーザ共振器(A)の改造がきわめて面倒であり、
また上記M値を上げると、上記〔5〕式により透過率が
増大してレーザビー云の発振効率が低下し、高出力のレ
ーザビームがレーザ共振器力ら得られない欠点がめる。 この発明はかかる点に着目してなされたもので。 レーザビームの発振効率を同一に保持し、かつレーザビ
ームの外径Ptを変えないで上記M値を変換することが
できるレーザビーム加工装置を提供しようとするもので
るる。 〔問題点を解決するための手段〕 この発明にかかるレーザビーム加工装置、レーザビーム
共振器の外部において互いに対向する円錐形反射鏡と、
凹形環状反射鏡、およびコリメータ(Co l l i
mator)  (光源の光を集光レンズや分光器など
に送るために、レンズ系を利用して平行光線束にする装
置で、「規準器」ともいう)を設けたものでるる。 〔作用〕 この発明は、円錐形反射鏡と、凹形環状反射鏡とによっ
てレーザビームのM値を変えるとともに、レーザビーム
の外径をコリメータにより入射レーザビームと一致させ
て発振効率を向上させ、高出力のレーザビームを得るよ
うにしたものでbる。 〔発明の実施例〕 第1図〜第5図は何れもこの発明の一実施例を示すもの
で、第1図はレーザビーム加工装置の構成を示す断面図
、第2図はコリメータを示す断面図、第3図は凹形環状
反射鏡を示す斜視図、第4図は円錐形反射鏡の斜視図、
第5図は入射レーザビームの特性図でめる。なお、第1
図〜第4図において上述し几従来のもの(第12図)と
同一符号は同一構成部材につきその説明を省略する。 ′1f、第1図、第6.゛4および第4図において、(
2)は平板形反射鏡(8)によって反射されたリング状
の平行レーザビーム、(7)は環状反射鏡−によって第
3図に示す凹形環状反射鏡α玲のすり鉢形反射面(11
a)に向って反射されたリング状の平行レーザビーム:
 *1)は上記凹形環状反射鏡α力により第4図に示す
円錐形反射鏡(ロ)に向って反射され九リング状のレー
ザビーム、勾は上記円錐形反射W、(2)により平板形
反射鏡(8)に向って反射されたリング状の平行レーザ
ビーム、翰は上記平板形反射鏡(8)によりコリメータ
(1)に向って反射されたリング状の平行レーザビーム
、(ハ)は上記コリメータ(1)から集光レンズ(9)
に向って串射されたリング状の加工レーザビーム、α1
け被加工物である。 次に、第2図は上記コリメータ■の内部を示す断面図で
、このコリメータ(至)は、上記平板形反射鏡(8)か
ら反射されたリング状の平行レーザビーム翰を末広がり
に発散させる円錐形反射鏡01)と、この円錐形反射鏡
61)から反射された発散反射レーザビームを環状反射
##、(至)に向って反射させる凹形環状反射鏡02と
によって構成されている。なお、上記円錐形反射鏡01
)と、凹形環状反射鏡o2とは曲率半径が同一で、符号
が逆になされているこの発明のレーザビーム加工装置は
上記のように構成されているので、不安定形レーザ共振
器(〜。 すなわち凹面fi (1)と凸面鏡(2)との間を往復
する元は、レーザ媒質(3)によって増幅される。そし
て不安定レーザ共振器(A)の回折損がリング状の平行
レーザビーム(7)として取出される。次に、この平行
レーザビーム(7) tit平板状反射鏡(8)→環状
反射鏡■→凹形環状反射鏡αη→円錐形反射鏡(6)→
平板形反射鏡(8)を経てコリメータ■内に入射される
わけでるるが、上記凹形環状反射鏡CL、)の水平軸と
のなす角度θ、Iと、円錐形反射鏡(2)の水平軸との
なす角度θ1.とを、θ1.=θ8.の関係に形成して
おけばリング状の平行レーザビーム翰は互いに平行に出
射される。欠に、コリメータ(1)内に入射されたリン
グ状の平行レーザビーム(資)は、第2図に示すように
円錐形反射鏡0D→凹形環状反射鏡02→環状反射鏡?
33を経て被加工物α1に対向する集光レンズ(9)に
向ってリング状の加工レーザビーム(ハ)として出射さ
れるわけであるが、この加工レーザビーム(ハ)と。 上記リング状の平行レーザビーム□□□とは互いに相似
形で、外径のみが変化してコリメート作業を行なうわけ
である。 いま、上記リング状の平行レーザビーム(至)の内径を
ρ、(i)、そして外径をρ2(i)とすると、(ρt
  Pl)を一定に保持したまま平行レーザビーム(ハ
)は外径のみが縮少されたレーザビームとして出射され
るが、この平行レーザビーム翰の内径をρ1(d、そし
て外径なρ2(d′とすると1 、、(i)  、、(i) =  (o)   (υ 
 01100.〔6〕P2    ρ1 となり、それぞれのM値は、 となり、さらに第1図に示すように、凹形環状反射鏡(
ロ)とJ円錐形反射鏡(6)間の距離をし、そしてこの
両反射鏡αや、(6)の水平軸とのなす角度が011 
” ’?tとすると、 ρ−=ρ2” −L 、tanθ1129000.〔9
〕となる。したがって、レーザビームのM値は、上記〔
8〕式によって変換され、また外径は上記
〔9〕式によ
って変換されることになる。 々お、第5図に示すレーザビーム特性図は、凹形環状反
射鏡α力の水平軸とのなす角度θ、、、、、15とした
場合に、両反射鏡α埠、(2)間の距離りを変えること
によって入射したM = 1. ’l  (p+ = 
1、ρ、=1.1)のレーザビームのM値の変化状態を
示している。この第5図に示すように側皮射鏡αp、0
■間の距離りを適当に選択することによってM値を大き
くすることができ、このM値の増大によりレーザビーム
の外径は小さくなるが、この発明によればコリメータ(
至)によって元の外径に戻すため外径が一定でM値のみ
任意に大きくしたレーザビームを得ることができ、また
、この第5図に示すようにM値1.5〜5の変化の間で
、外径ハ0.6〜0.2と変化が少ないためコリメータ
が容易となる。 さらに従来のように共振器や反射jj!を交換しなくて
も側皮射鏡CIη、(6)間の距離りを連続的に変化さ
せることによって各種加工条件に適応したレーザビーム
のM値が得られるっ なお、上述した一実施例においては、コリメータ(1)
として各種反射鏡を用いたものについて述べたが、第6
図に示すように焦点距離が相違する一対のレンズリD、
(イ)を用い、入射し穴平行レーザビーム(財)を外径
のみ拡大して加工レーザビーム(ハ)として取出すよう
にしたものでもよい。“また、上述した一実施例におい
ては、レーザビームのM値を変えたのちコリメートする
ようにしたものについて述べたが、コリメートしためと
でM値を変えるようにしてもよい。きらに、上述した一
実施例はレーザビームのM値を上げる場合について述べ
たが、第7図に示すように、レーザビームの出力側から
レーザビームを入射するようにすれば逆ICM値を下げ
ることも可能でめる。さらにまた、第8図および第9図
は、円錐形反射鏡(6)を複数のアーム(至)で枠体−
に保持させるようにした場合を示している。 次に、第10図(A)、 (B)、 (C)は円錐形反
射鏡(6)と、凹形環状反射鏡α■との動作説明図で、
側皮射鏡(2)。 倶めのなす角度が第10図(A)に示すように、θ、1
=θ1□でめれば、入射レーザビーム(6)は平行なレ
ーザビーム(2)として出力されるが、この入射レーザ
ビーム(至)は通常数Mradの発散角を持っているた
め、上記角度が第10回申)に示すように011<θ、
!とすれば、入射レーザビーム(6)は集光レーザビー
ムとして出力される。したがって、入射レーザビーム四
が発散している場合、θ、1くθ1□の範囲でθ、2 
を設定すれば平行レーザビームとして取出すことができ
る。なお、第10図(C)はこの逆の場合を示すもので
ある。 〔発明の効果〕 以上述べたように、この発明によれば、円錐形反射鏡(
6)と、凹形環状反射鏡α■とによってレーザビームの
M値を自在に変えることができるばかりでなく、レーザ
ビームの外径をコリメータωにより入射レーザビームと
一致させるようにしたので、従来のように共振器や、反
射鏡を交換する煩わしさが解消されると共に、発援効率
を向上させ、高出力のレーザビームが得られる効果かり
る。また。 この発明によれば凹形環状反射鏡αηと、円錐形反射・
鏡(12との間の距離りを変えるだけの簡単な操作でレ
ーザビームの発散角度を補正することができる優れた効
果を有するものである。
【図面の簡単な説明】
第1図〜第5図は何れもこの発明の一実施例を示すもの
で、第1図はレーザビーム加工装置の構成を示す断面図
、第2図はコリメータの構成を示す断面図、@3図は凹
形環状反射鏡を示す斜視図、第4図は円錐形反射鏡を示
す斜視図、第5図は入射レーザビームの特性図でるる。 第6図はレンズ系によるコリメータの構成図、第7図は
レーザビームのM値を下げる場合のレーザビーム加工装
置の構成を示す断面図、第8図および第9図は円錐形反
射鏡(6)の保持手段の一例を示す円錐形反射鏡(6)
の斜視図と、レーザビーム加工装置の構成を示す断面図
、第10図(A)、 (B)、 (C)は円錐形反射鏡
CIつと、凹形環状反射鏡α■との動作説明図、第11
図は放電電力と、レーザ出力との関係を示すレーザ共振
器の見損特性図、第12図は従来のレーザビーム加工装
置の構成を示す断面図でるる。 図において、(9)は集光レンズ、αQけ被加工物、(
ロ)09は凹形環状反射鏡、CIつ09は円錐形反射鏡
、(1)はコリメータ、(至)は環状のレーザビーム取
出用反射鏡である。なお、図中同一符号は同一または相
当部分を示す。 代理人 弁理士 木 村 三 朗 162図 第 3r5!J 第 4 図 第8図 第10図 φ) u 手続補正書(自発) 昭和60手12月9日

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)リング状の平行レーザビームを反射させる凹形環
    状反射鏡およびこの凹形環状反射鏡により反射されたリ
    ング状のレーザビームを反射させる円錐形反射鏡を備え
    、この円錐形反射鏡と被加工物に対向する集光レンズと
    の間にリング状のレーザビームの外径と内径の比を変換
    するコリメータを介装したことを特徴とするレーザビー
    ム加工装置。
  2. (2)コリメータは、リング状の平行レーザビームを末
    広がりに発散させる円錐形反射鏡と、この円錐反射鏡に
    よつて反射された発散反射レーザビームを上記円錐形反
    射鏡の近傍にこれを中央にして同心的に配設された環状
    のレーザビーム取出用反射鏡とによつて構成されている
    ことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載のレーザビ
    ーム加工装置。
JP60024474A 1985-02-13 1985-02-13 レ−ザビ−ム加工装置 Pending JPS61186187A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60024474A JPS61186187A (ja) 1985-02-13 1985-02-13 レ−ザビ−ム加工装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60024474A JPS61186187A (ja) 1985-02-13 1985-02-13 レ−ザビ−ム加工装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS61186187A true JPS61186187A (ja) 1986-08-19

Family

ID=12139160

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP60024474A Pending JPS61186187A (ja) 1985-02-13 1985-02-13 レ−ザビ−ム加工装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS61186187A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5674414A (en) * 1994-11-11 1997-10-07 Carl-Zeiss Stiftung Method and apparatus of irradiating a surface of a workpiece with a plurality of beams
EP1372012A3 (de) * 2002-06-15 2005-03-30 CARL ZEISS JENA GmbH Optische Anordnung zur Beobachtung einer Probe oder eines Objekts
CN100457362C (zh) * 2004-01-30 2009-02-04 武汉天宇激光数控技术有限责任公司 激光环切打孔方法及其装置

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5674414A (en) * 1994-11-11 1997-10-07 Carl-Zeiss Stiftung Method and apparatus of irradiating a surface of a workpiece with a plurality of beams
EP1372012A3 (de) * 2002-06-15 2005-03-30 CARL ZEISS JENA GmbH Optische Anordnung zur Beobachtung einer Probe oder eines Objekts
CN100457362C (zh) * 2004-01-30 2009-02-04 武汉天宇激光数控技术有限责任公司 激光环切打孔方法及其装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4357075A (en) Confocal reflector system
JPH0412039B2 (ja)
JP3089017B2 (ja) 集束鏡の組合せを有する高出力レーザ装置
US4050036A (en) Optical system for lasers
RU2047875C1 (ru) Устройство для светолучевой обработки
US3622907A (en) Composite oscillator amplifier laser
US20060186098A1 (en) Method and apparatus for laser processing
US3972599A (en) Method and apparatus for focussing laser beams
EP0025594A1 (en) Axis-monitoring apparatus for a laser beam
US4520486A (en) Gas flow laser oscillator
EP0358464B1 (en) Laser devices and laser system including the laser devices
WO1990013390A1 (en) Laser beam machining device
JPS61186187A (ja) レ−ザビ−ム加工装置
US4783789A (en) Annular lasing apparatus
JPS6363594A (ja) ガスレ−ザ装置
US3242806A (en) Apparatus for reducing the size of a collimated beam of radiant energy
JP3417248B2 (ja) レーザ加工装置
JPH0929467A (ja) レーザ加工装置
JPH0259192A (ja) 大出力レーザ装置
JPS63108318A (ja) レ−ザ−加工装置
CN218240569U (zh) 一种光学模组和医疗装置
JPS63210904A (ja) レ−ザビ−ム入射光学系
US3808554A (en) Optical resonant cavity structure
US5463651A (en) Laser beam generator
JPH0241607Y2 (ja)