JPS61184726A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
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- JPS61184726A JPS61184726A JP2469285A JP2469285A JPS61184726A JP S61184726 A JPS61184726 A JP S61184726A JP 2469285 A JP2469285 A JP 2469285A JP 2469285 A JP2469285 A JP 2469285A JP S61184726 A JPS61184726 A JP S61184726A
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- Japan
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- recording medium
- crucible
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発萌は磁性薄膜を有する磁気記録媒体の製造方法に関
し、詳しくは大容量高速蒸着を可能にして大量生産に適
した磁気記録媒体の製造方法に関する。
し、詳しくは大容量高速蒸着を可能にして大量生産に適
した磁気記録媒体の製造方法に関する。
「従来技術」
磁気テープ、磁気シートのような磁気記録媒体は、オー
ディオ分野やビデオ分野で広く使用されている。このよ
うな例えば磁気テープは、強磁性粉末をバインダーに分
散させた塗布型のものも使用されているが、最近高密度
記録に対する要望が高まるにつれてバインダーの分だけ
記録密度が小さくなるこの塗布型のものにかわって飽和
磁化が大きくしかもバインダーを必要としないで直接、
蒸着、スパッタリング、イオンブレーティング等により
支持体上に強磁性金属薄膜を形成できる薄膜型磁気記録
媒体が多く使用されるようになってきた。
ディオ分野やビデオ分野で広く使用されている。このよ
うな例えば磁気テープは、強磁性粉末をバインダーに分
散させた塗布型のものも使用されているが、最近高密度
記録に対する要望が高まるにつれてバインダーの分だけ
記録密度が小さくなるこの塗布型のものにかわって飽和
磁化が大きくしかもバインダーを必要としないで直接、
蒸着、スパッタリング、イオンブレーティング等により
支持体上に強磁性金属薄膜を形成できる薄膜型磁気記録
媒体が多く使用されるようになってきた。
磁性薄膜を工業的規模で製造するに適した方法の１つと
して電子ビーム加熱による真空１Ｍ法がある。従来、こ
の電子ビーム加熱による蒸着法においては、半導体工業
を中心として水冷銅ハースが蒸発源用るつぼとして用い
られていた。しかし、水冷銅ハースを用いた場合、蒸着
材料の蒸発速度の制御性には優れているものの、磁気記
録媒体の製造に用いるような高融点金属の大容量高速蒸
発には不適当であった。
して電子ビーム加熱による真空１Ｍ法がある。従来、こ
の電子ビーム加熱による蒸着法においては、半導体工業
を中心として水冷銅ハースが蒸発源用るつぼとして用い
られていた。しかし、水冷銅ハースを用いた場合、蒸着
材料の蒸発速度の制御性には優れているものの、磁気記
録媒体の製造に用いるような高融点金属の大容量高速蒸
発には不適当であった。
また、磁気記録媒体製造用としては、特開昭５６−１６
９２２９号に酸化マグネシウムを主成分とする蒸発源用
るつぼが示されているが、くり返し使用の耐久性が不充
分であり実用上問題点があった。
９２２９号に酸化マグネシウムを主成分とする蒸発源用
るつぼが示されているが、くり返し使用の耐久性が不充
分であり実用上問題点があった。
特開昭５８−１８８３３５号には酸化ジルコニウムを主
成分とする蒸発源用るつぼが提案されているが、焼結安
定化のために酸化ジルコニウムと共に用いる、いわゆる
安定化剤と溶融金属との反応等の問題があり、くり返し
使用に耐えないという欠点があった。
成分とする蒸発源用るつぼが提案されているが、焼結安
定化のために酸化ジルコニウムと共に用いる、いわゆる
安定化剤と溶融金属との反応等の問題があり、くり返し
使用に耐えないという欠点があった。
さらに、酸化マグネシウムや酸化ジルコニウムに窒化ケ
イ素ウィスカーあるいは炭化ケイ素ウィスカー等を添加
して、強度を高めたウィスカー補強セラミックを用いた
蒸発源用るつぼも検討されているが、改良された特性を
得ているものもあるが充分とはいえなかった。
イ素ウィスカーあるいは炭化ケイ素ウィスカー等を添加
して、強度を高めたウィスカー補強セラミックを用いた
蒸発源用るつぼも検討されているが、改良された特性を
得ているものもあるが充分とはいえなかった。
また、酸化アルミニウム＜Ａｌ□０３）は体膨張係数が
９．６ｘ１０ Ｋ （１７７３″Ｋ）程度で、酸化
マグネシウム（Ｍａｃ）の１６．ＯＸ １０ Ｋ
と比べると小さく、耐火材として急激な温度変化に際し
耐火材自身の体積の変化率が小さく、クラックを生じに
くい利点を有し、さらにコストも安価で経済性も優れて
いる利点を有しており、従来から代表的なるつぼ材とし
て用いられてきたが、融点が２３２３°にと比較的低く
、高融点金属である鉄系の金属を蒸発させるるつぼを形
成する素材としては耐久性が悪く不適当であった。
９．６ｘ１０ Ｋ （１７７３″Ｋ）程度で、酸化
マグネシウム（Ｍａｃ）の１６．ＯＸ １０ Ｋ
と比べると小さく、耐火材として急激な温度変化に際し
耐火材自身の体積の変化率が小さく、クラックを生じに
くい利点を有し、さらにコストも安価で経済性も優れて
いる利点を有しており、従来から代表的なるつぼ材とし
て用いられてきたが、融点が２３２３°にと比較的低く
、高融点金属である鉄系の金属を蒸発させるるつぼを形
成する素材としては耐久性が悪く不適当であった。
［発明の目的］
本発明は上記の事情に鑑み為されたもので、本発明の第
１の目的は、蒸着プロセスを用いて製造される１ｌｌＩ
ｌ型磁気記録媒体の工業規模における効率的生産を行な
うことを可能にした磁気記録媒体の製造方法を提供する
ことである。
１の目的は、蒸着プロセスを用いて製造される１ｌｌＩ
ｌ型磁気記録媒体の工業規模における効率的生産を行な
うことを可能にした磁気記録媒体の製造方法を提供する
ことである。
本発明の第２の目的は、大容量、高速蒸着を可能にした
磁気記録媒体の製造方法を提供することである。
磁気記録媒体の製造方法を提供することである。
本発明の第３の目的は、長時間の蒸発操作においても、
蒸発源が安定な特性を有する磁気記録媒体の製造方法を
提供することである。
蒸発源が安定な特性を有する磁気記録媒体の製造方法を
提供することである。
本発明の第４の目的は、蒸発源るつぼのくり返し使用耐
久性に優れた磁気記録媒体の製造方法を提供することで
ある。
久性に優れた磁気記録媒体の製造方法を提供することで
ある。
し発明の構成］
本発明の上記目的は強磁性を有する金属、合金または酸
化物を電子ビーム加熱により蒸発させ基板上に磁性Ｊ躾
を形成することにより磁気記録媒体を製造する方法にお
いて、前記強磁性を有する金属、合金または酸化物を保
持する蒸発源るつぼが酸化アルミニウム、酸化ジルコニ
ウムおよび酸化ハフニウムの混合物を主成分とする磁気
記録媒体の製造方法により達成される。
化物を電子ビーム加熱により蒸発させ基板上に磁性Ｊ躾
を形成することにより磁気記録媒体を製造する方法にお
いて、前記強磁性を有する金属、合金または酸化物を保
持する蒸発源るつぼが酸化アルミニウム、酸化ジルコニ
ウムおよび酸化ハフニウムの混合物を主成分とする磁気
記録媒体の製造方法により達成される。
［発明の具体的構成］
本発明の製造方法に用いられる酸化アルミニウム、酸化
ジルコニウムおよび酸化ハフニウムの混合物を主成分と
する蒸発源るつぼにおいては、ざらに酸化アルミニウム
が９５重−％以下７５１量％以上で、かつ酸化ジルコニ
ウムと酸化ハフニウムの合計が２５重履％以下５ｍ１１
％以上、さらに酸化マグネシウムが０．５重量％以下の
含有率で構成されるものが好ましい。
ジルコニウムおよび酸化ハフニウムの混合物を主成分と
する蒸発源るつぼにおいては、ざらに酸化アルミニウム
が９５重−％以下７５１量％以上で、かつ酸化ジルコニ
ウムと酸化ハフニウムの合計が２５重履％以下５ｍ１１
％以上、さらに酸化マグネシウムが０．５重量％以下の
含有率で構成されるものが好ましい。
本発明の製造方法においては、上記の如く蒸発源るつぼ
の組成に特徴があるが、本発明では、融点が高い酸化ジ
ルコニウムと酸化ハフニウムの混合物を比較的融点の低
い酸化アルミニウムに固溶して蒸発源るつぼを作成し、
熱膨張係数をおさえながら、酸化アルミニウムるつぼよ
り高融点で繰り返し使用耐久性に優れた蒸発源るつぼ用
材料を見い出したものである。
の組成に特徴があるが、本発明では、融点が高い酸化ジ
ルコニウムと酸化ハフニウムの混合物を比較的融点の低
い酸化アルミニウムに固溶して蒸発源るつぼを作成し、
熱膨張係数をおさえながら、酸化アルミニウムるつぼよ
り高融点で繰り返し使用耐久性に優れた蒸発源るつぼ用
材料を見い出したものである。
本発明に用いられる蒸発源るつぼの組成において、酸化
アルミニウムが９５重量％以上とすると純酸化アルミニ
ウムと同様な性質を呈し、熱衝撃に対し弱くなり、繰返
し耐久性が悪（なるので好ましくなく、また、酸化アル
ミニウムを７５重量％以下、酸化ジルコニウムと酸化ハ
フニウムの混合物を２５重量％以上とすると良好な固溶
状態が得られにくくなり好ましくなく、酸化マグネシウ
ムを０．５１１％以上用いると酸化アルミニウム、酸化
ジルコニウムに比し、膨張係数が大きくなり、割れを生
じやすくなるので好ましくない。
アルミニウムが９５重量％以上とすると純酸化アルミニ
ウムと同様な性質を呈し、熱衝撃に対し弱くなり、繰返
し耐久性が悪（なるので好ましくなく、また、酸化アル
ミニウムを７５重量％以下、酸化ジルコニウムと酸化ハ
フニウムの混合物を２５重量％以上とすると良好な固溶
状態が得られにくくなり好ましくなく、酸化マグネシウ
ムを０．５１１％以上用いると酸化アルミニウム、酸化
ジルコニウムに比し、膨張係数が大きくなり、割れを生
じやすくなるので好ましくない。
第１図は本発明の製造方法を実施するための装置の一例
の要部断面図である。同図において、この装置の内部は
、全体を符号１で示す真空槽により外気から気密にシー
ルされており、真空槽１内は分離隔＋１！２により非磁
性基板３を送出・巻取る室と蒸着室に分けられ、真空槽
１の底部には排気管４が設けられ、排気管４は真空排気
装＠５に接続している。
の要部断面図である。同図において、この装置の内部は
、全体を符号１で示す真空槽により外気から気密にシー
ルされており、真空槽１内は分離隔＋１！２により非磁
性基板３を送出・巻取る室と蒸着室に分けられ、真空槽
１の底部には排気管４が設けられ、排気管４は真空排気
装＠５に接続している。
送出・巻取る室には、基板走行系として、送出軸６．２
個のフリーローラー７、基板支持体８、巻取軸９を有し
ている。蒸着室には蒸着系として電子ビーム発生装置１
０、るつぼ１１、るつぼ１１内にセットされた蒸着用強
磁性材料１２がそれぞれ配ＩＩされており、また反応性
ガス（例えば酸素ガス等）を導入する導入口１３が設け
られている。
個のフリーローラー７、基板支持体８、巻取軸９を有し
ている。蒸着室には蒸着系として電子ビーム発生装置１
０、るつぼ１１、るつぼ１１内にセットされた蒸着用強
磁性材料１２がそれぞれ配ＩＩされており、また反応性
ガス（例えば酸素ガス等）を導入する導入口１３が設け
られている。
上記ｉ置において、るつぼ１１内にセットされた蒸着用
強磁性材料１２を電子ビーム発生装置１０から出た電子
ビームにより加熱し蒸発させる。
強磁性材料１２を電子ビーム発生装置１０から出た電子
ビームにより加熱し蒸発させる。
その蒸気流６ゞ゛円筒上の基板支持体８に沿って移動す
る基板３上に強磁性材料１２のＩｍを形成する。
る基板３上に強磁性材料１２のＩｍを形成する。
なお、第１図に示した装置に、さらに蒸気流の一部をさ
えぎるよう上記基板支持体８とるつぼ１１の間にマスク
板（図示せず）を設けることは任意であり、また、真空
槽１内に反応性ガス（例えば、アルゴン等の希ガス、酸
素、窒素、−ＩＩ化炭素、水素、メタンガス等）を導入
することも任意である。
えぎるよう上記基板支持体８とるつぼ１１の間にマスク
板（図示せず）を設けることは任意であり、また、真空
槽１内に反応性ガス（例えば、アルゴン等の希ガス、酸
素、窒素、−ＩＩ化炭素、水素、メタンガス等）を導入
することも任意である。
本発明に用いられる強磁性を有する金属、合金、酸化物
としては、Ｆｅ％ｃｏ、Ｎｉ等の金属、Ｆｅ −Ｃｏ
、Ｆｅ −Ｎｉ 、Ｇｏ −Ｎｉ 、 Ｆｅ −Ｃｏ
−Ｎｔ 、Ｇｏ −Ｃｕ 、Ｇｏ−Ｙ％Ｃｏ−Ｐｒ、Ｇ
ｏ −８ｓ １Ｃｏ −Ｐｔ 、Ｇｏ −Ｃｒ 、Ｆｅ
−８ｉ 、Ｇｏ −８ｉ 、Ｃｏ−Ｐ、Ｃｏ−Ｂ、Ｃ
ｏ −Ｖ、Ｃｏ −Ｃｅ 、Ｃｏ−Ｗ、Ｃｏ −
Ｍｎ 、Ｑｏ −ＡＰ 、Ｃｏ −Ｎｉ −
Ｐ、 ｃｏ −Ｎｉ−Ｂ、Ｃｏ −Ｎｉ−Ｖ、Ｃ
ｏ −Ｎｉ −８ａｌ 、Ｃｏ −Ｎｉ −Ｃ
ｒ 。
としては、Ｆｅ％ｃｏ、Ｎｉ等の金属、Ｆｅ −Ｃｏ
、Ｆｅ −Ｎｉ 、Ｇｏ −Ｎｉ 、 Ｆｅ −Ｃｏ
−Ｎｔ 、Ｇｏ −Ｃｕ 、Ｇｏ−Ｙ％Ｃｏ−Ｐｒ、Ｇ
ｏ −８ｓ １Ｃｏ −Ｐｔ 、Ｇｏ −Ｃｒ 、Ｆｅ
−８ｉ 、Ｇｏ −８ｉ 、Ｃｏ−Ｐ、Ｃｏ−Ｂ、Ｃ
ｏ −Ｖ、Ｃｏ −Ｃｅ 、Ｃｏ−Ｗ、Ｃｏ −
Ｍｎ 、Ｑｏ −ＡＰ 、Ｃｏ −Ｎｉ −
Ｐ、 ｃｏ −Ｎｉ−Ｂ、Ｃｏ −Ｎｉ−Ｖ、Ｃ
ｏ −Ｎｉ −８ａｌ 、Ｃｏ −Ｎｉ −Ｃ
ｒ 。
Ｃｏ −Ｎｉ −Ｃｕ 、 Ｇｏ −Ｎｉ
−Ｚｎ 、 Ｃｏ −Ｎｉ−Ｗ、ｃｏ −３ｍ
−Ｃｕ等の合金、Ｆｅ３Ｏ４、Ｂａ Ｆｅ ２ ｏ４
、Ｓｒ Ｆｅ２０． 、Ｃｏ Ｆｅ２Ｏ４−１ｒ
−Ｆｅ２０Ｂ 、Ｃｒ ０２等の酸化物が挙げられる。
−Ｚｎ 、 Ｃｏ −Ｎｉ−Ｗ、ｃｏ −３ｍ
−Ｃｕ等の合金、Ｆｅ３Ｏ４、Ｂａ Ｆｅ ２ ｏ４
、Ｓｒ Ｆｅ２０． 、Ｃｏ Ｆｅ２Ｏ４−１ｒ
−Ｆｅ２０Ｂ 、Ｃｒ ０２等の酸化物が挙げられる。
上記強磁性材料の薄膜を形成させる基板としては、非磁
性金属、紙、プラスチック等の可撓性基板が好ましく、
非磁性金属としては、例えばアルミニウム、アルミニウ
ム合金、銅、亜鉛、スズ、ステンレス、チタン等が挙げ
られ、プラスチックとしては、例えは酢朕セルロース、
ｔｉ１１！！セルロース、メチルセルロース、エチルセ
ルロース、ポリアミド、ポリメチルメタクリレート、ポ
リパラバン酸、ポリエーテルイミド、ポリサルフォン、
ポリエーテルケトン、ボリテ１〜ラフルオロエチレン、
ポリトリフルオロエチレン、エチレンまたはプロピレン
のようなα−オレフィンの重合体あるいは共重合体、塩
化ビニルの重合体あるいは共重合体、ポリ塩化ごニリデ
ン、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリエチレンテレ
フタレートのようなポリエステル等が挙げられる。
性金属、紙、プラスチック等の可撓性基板が好ましく、
非磁性金属としては、例えばアルミニウム、アルミニウ
ム合金、銅、亜鉛、スズ、ステンレス、チタン等が挙げ
られ、プラスチックとしては、例えは酢朕セルロース、
ｔｉ１１！！セルロース、メチルセルロース、エチルセ
ルロース、ポリアミド、ポリメチルメタクリレート、ポ
リパラバン酸、ポリエーテルイミド、ポリサルフォン、
ポリエーテルケトン、ボリテ１〜ラフルオロエチレン、
ポリトリフルオロエチレン、エチレンまたはプロピレン
のようなα−オレフィンの重合体あるいは共重合体、塩
化ビニルの重合体あるいは共重合体、ポリ塩化ごニリデ
ン、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリエチレンテレ
フタレートのようなポリエステル等が挙げられる。
［実施例］
以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発
明はこれらに限定されるものではない。
明はこれらに限定されるものではない。
実施例１
第１図に示した蒸着装置を用いて、ポリエチレンテレフ
タレートのプラスチック基板（１５μｍ厚）を一定の速
度４０ｍ／ｍｉｎで走行させながら、Ｃｏ −Ｎｉ
（８０： ２０）の磁性材料を電子ビーム加熱により１
６００℃に加熱して蒸発させ、同時に酸素ガスを１．０
Ｎ−ｊ／ ａｋｉｎで真空槽内に導入しながら、圧力６
．５Ｘ １０ Ｐ ａで膜厚１５００Ａとなるように
ａ膜を形成した。この時用いた蒸発源るつぼを構成する
材料は、酸化アルミニウム８８．９重量％、酸化ジルコ
ニウム（ＩＶ）＋Ｍ化ハフニウムＮＶ）混合物１０．９
重】％、酸化マグネシウム（ＩＩ）０．１重量％であっ
た。
タレートのプラスチック基板（１５μｍ厚）を一定の速
度４０ｍ／ｍｉｎで走行させながら、Ｃｏ −Ｎｉ
（８０： ２０）の磁性材料を電子ビーム加熱により１
６００℃に加熱して蒸発させ、同時に酸素ガスを１．０
Ｎ−ｊ／ ａｋｉｎで真空槽内に導入しながら、圧力６
．５Ｘ １０ Ｐ ａで膜厚１５００Ａとなるように
ａ膜を形成した。この時用いた蒸発源るつぼを構成する
材料は、酸化アルミニウム８８．９重量％、酸化ジルコ
ニウム（ＩＶ）＋Ｍ化ハフニウムＮＶ）混合物１０．９
重】％、酸化マグネシウム（ＩＩ）０．１重量％であっ
た。
１時間蒸着を行なった後、真空槽を大気圧にもどした。
上記蒸着操作を１０回繰り返し、それぞれで得られた磁
気テープ試料をそれぞれＡ−１〜Ａ−１０とした。
気テープ試料をそれぞれＡ−１〜Ａ−１０とした。
比較例１
実施例１で用いた蒸発源るつぼを従来用いられている酸
化マグネシウムるつぼ（Ｍ！７０９８．５重量％）に代
えた以外は実施例１と同様の条件で磁気テープ試料を作
成した。ここでは、蒸着操作の５回目で蒸発源るつぼに
亀裂が生じ、７回目で再使用不能となった。それぞれで
得られた磁気テープ試料をそれぞれＢ−１〜Ｂ−７とし
た。
化マグネシウムるつぼ（Ｍ！７０９８．５重量％）に代
えた以外は実施例１と同様の条件で磁気テープ試料を作
成した。ここでは、蒸着操作の５回目で蒸発源るつぼに
亀裂が生じ、７回目で再使用不能となった。それぞれで
得られた磁気テープ試料をそれぞれＢ−１〜Ｂ−７とし
た。
実施例２
第１図に示した蒸着装置を用いて、ポリエチレンテレフ
タレートのプラスチック基板（１５μｍ厚）を一定の速
度２０ｎｌ／＋ａｉｎで走行させながら、Ｆｅを電子ビ
ーム加熱により１６００℃で蒸発させ、同時に酸素ガス
を４．ＯＮ−ア／ ｗｉｎで真空槽内に導入しながら圧
力１．５ｘ １０ Ｐ ａで膜厚２０００人となるよ
うに薄膜を形成した。
タレートのプラスチック基板（１５μｍ厚）を一定の速
度２０ｎｌ／＋ａｉｎで走行させながら、Ｆｅを電子ビ
ーム加熱により１６００℃で蒸発させ、同時に酸素ガス
を４．ＯＮ−ア／ ｗｉｎで真空槽内に導入しながら圧
力１．５ｘ １０ Ｐ ａで膜厚２０００人となるよ
うに薄膜を形成した。
この時得られたテープをＣ−１〜Ｃ−１０とした。
比較例２
実施例２の条件と同様な条件で、蒸着を行なった。この
時、るつぼ材は、酸化アルミニウムを用いた。るつぼは
３回目には亀裂を生じ５回で、使用不能となった。この
時得られたテープをＤ−１〜Ｄ−５とした。
時、るつぼ材は、酸化アルミニウムを用いた。るつぼは
３回目には亀裂を生じ５回で、使用不能となった。この
時得られたテープをＤ−１〜Ｄ−５とした。
上記実施例１．２および比較例１．２で得られた磁気テ
ープ試料Ａ−１〜Ａ−１０，８−１〜Ｂ−７、Ｃ−１〜
Ｃ−１０およびＤ−１〜Ｄ−５について保磁力を測定し
、その結果を第２図に保磁力の変化率（％）で示した。
ープ試料Ａ−１〜Ａ−１０，８−１〜Ｂ−７、Ｃ−１〜
Ｃ−１０およびＤ−１〜Ｄ−５について保磁力を測定し
、その結果を第２図に保磁力の変化率（％）で示した。
ここで保磁力の変化率は、蒸着長１０００ｍ＋あたりの
変化率で示した値である。
変化率で示した値である。
さらに、作成したそれぞれの磁気テープ試料を１ｘ２イ
ンチ幅にスリットし、ＶＨ８型ＶＴＲで４ＭＨ２の出力
変動を調べた。結果を第３図に示した。
ンチ幅にスリットし、ＶＨ８型ＶＴＲで４ＭＨ２の出力
変動を調べた。結果を第３図に示した。
以上の実施例、比較例から明らかなように、本発明の磁
気記録媒体の製造方法によれば、蒸発源るつぼのくり返
し使用耐久性に優れ、得られた磁気記録媒体の保磁力、
出力変動の幅も小さく、均一な磁気特性を有する磁気記
録媒体を大容量、高速で生産可能とし、工業規模におけ
る効率的生産が可能となった。
気記録媒体の製造方法によれば、蒸発源るつぼのくり返
し使用耐久性に優れ、得られた磁気記録媒体の保磁力、
出力変動の幅も小さく、均一な磁気特性を有する磁気記
録媒体を大容量、高速で生産可能とし、工業規模におけ
る効率的生産が可能となった。
図面は本発明の一実施例を示し、第１図は本発明の磁気
記録媒体の製造方法の実施に使用する製造装置の概略断
面図、第２図は本発明の製造方法で得られた磁気試料テ
ープ（ＡおよびＣで表わす）と比較のＩＩ造方法で得ら
れた磁気試料テープ（ＢおよびＤで表わす）の保磁力の
変化率を示した図、第３図は第２図と同様の出力変動を
示した図である。 １・・・真空槽、 ３・・・基板、１０・
・・電子ビーム発生装置、１１・・・蒸発源るつぼ１２
・・・強磁性材料、１３・・・反応性ガス導入口特許出
願人 小西六写真工業株式会社 代 理 人 弁理士 市之瀬 宮夫ρ：、−ｔ、−、、
ｉｌデー：ｙ（ｆ、’ １巾ユ 第１図
記録媒体の製造方法の実施に使用する製造装置の概略断
面図、第２図は本発明の製造方法で得られた磁気試料テ
ープ（ＡおよびＣで表わす）と比較のＩＩ造方法で得ら
れた磁気試料テープ（ＢおよびＤで表わす）の保磁力の
変化率を示した図、第３図は第２図と同様の出力変動を
示した図である。 １・・・真空槽、 ３・・・基板、１０・
・・電子ビーム発生装置、１１・・・蒸発源るつぼ１２
・・・強磁性材料、１３・・・反応性ガス導入口特許出
願人 小西六写真工業株式会社 代 理 人 弁理士 市之瀬 宮夫ρ：、−ｔ、−、、
ｉｌデー：ｙ（ｆ、’ １巾ユ 第１図
Claims (2)
- （１）強磁性を有する金属、合金または酸化物を電子ビ
ーム加熱により蒸発させ基板上に磁性薄膜を形成するこ
とにより磁気記録媒体を製造する方法において、前記強
磁性を有する金属、合金または酸化物を保持する蒸発源
るつぼが酸化アルミニウム、酸化ジルコニウムおよび酸
化ハフニウムの混合物を主成分とすることを特徴とする
磁気記録媒体の製造方法。 - （２）前記蒸発源るつぼの構成物比率が酸化アルミニウ
ム９５重量％以下７５重量％以上で、酸化ジルコニウム
と酸化ハフニウムの合計で２５重量％以下５重量％以上
、さらに酸化マグネシウムが０．５重量％以下の範囲で
構成されることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載
の磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2469285A JPS61184726A (ja) | 1985-02-12 | 1985-02-12 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2469285A JPS61184726A (ja) | 1985-02-12 | 1985-02-12 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61184726A true JPS61184726A (ja) | 1986-08-18 |
Family
ID=12145221
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2469285A Pending JPS61184726A (ja) | 1985-02-12 | 1985-02-12 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61184726A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1323845A1 (fr) * | 2001-12-31 | 2003-07-02 | Memscap | Structure multicouche |
| FR2842829A1 (fr) * | 2002-07-25 | 2004-01-30 | Memscap | Structure multicouche, utilisee notamment en tant que materiau de forte permittivite |
| JP2008115585A (ja) * | 2006-11-02 | 2008-05-22 | Penta Ocean Construction Co Ltd | 津波高潮防災構造物 |
-
1985
- 1985-02-12 JP JP2469285A patent/JPS61184726A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1323845A1 (fr) * | 2001-12-31 | 2003-07-02 | Memscap | Structure multicouche |
| FR2842829A1 (fr) * | 2002-07-25 | 2004-01-30 | Memscap | Structure multicouche, utilisee notamment en tant que materiau de forte permittivite |
| JP2008115585A (ja) * | 2006-11-02 | 2008-05-22 | Penta Ocean Construction Co Ltd | 津波高潮防災構造物 |
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