JPS61183620A - Production of liquid crystal display element - Google Patents

Production of liquid crystal display element

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JPS61183620A
JPS61183620A JP60024015A JP2401585A JPS61183620A JP S61183620 A JPS61183620 A JP S61183620A JP 60024015 A JP60024015 A JP 60024015A JP 2401585 A JP2401585 A JP 2401585A JP S61183620 A JPS61183620 A JP S61183620A
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conductor
thin film
liquid crystal
crystal display
substrate
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Shoichiro Takahara
高原 晶一郎
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Abstract

PURPOSE:To prevent the breakdown of electrically insulating thin film by releasing static electricity generated during orientation from a substrate through a ground circuit. CONSTITUTION:Plural display electrodes 2, a grounded electric conductor 9 and electric conductors 10 for connecting the electrodes 2 to the conductor 9 are simultaneously formed on a substrate 1 for liq. crystal display elements. Circuits 3 for giving electric signals by interposing the electrically insulating thin films 4 to the electrodes 2 are formed, and a thin film 8 for the orientation is formed on the whole surface of the substrate including the electrodes 2, the conductors 9, 10 and the circuits 3. The surface of the thin film 8 is oriented while the conductor 9 is grounded, and then the conductors 10 are cut off.

Description

【発明の詳細な説明】 (イ)発明の目的 〔産業上の利用分野〕 この発明は液晶表示素子の製造方法に係り、とくに各表
示電極に電気絶縁性薄膜を介して電気信号を与える構造
を有する液晶表示素子の製造方法に関する。
[Detailed Description of the Invention] (a) Purpose of the Invention [Field of Industrial Application] The present invention relates to a method for manufacturing a liquid crystal display element, and particularly relates to a method for manufacturing a liquid crystal display element, and particularly a structure in which an electrical signal is applied to each display electrode via an electrically insulating thin film. The present invention relates to a method of manufacturing a liquid crystal display element having the following.

〔従来技術〕[Prior art]

基板上の表示電極に金属−絶縁膜−金属構造を有する非
線形抵抗素子(Metal−Insulator−Me
tal素子、以後MIM素子と略称する)を介して゛電
気信号を供給する液晶表示素子が、一般的に使用される
ようになってきている。このMIM素子は、基板上にお
いて表示電極への信号を供給する導電体の途中に電気絶
縁性薄膜を介在させることによって形成される。そして
、MIM素子は、導電体への入力信号の電圧が小さいと
きに高抵抗となり、入力信号の電圧が液晶表示を行なう
に充分な高さの電圧が印加されたとき低抵抗となる非線
型的な特性を有し、液晶の駆動時において、隣接する表
示電極に電気信号がもれる、いわゆるクロスト7り電圧
の発生を防止する作用を有する。
A nonlinear resistance element (Metal-Insulator-Metal) has a metal-insulator-metal structure on the display electrode on the substrate.
2. Description of the Related Art Liquid crystal display elements that supply electrical signals through tal elements (hereinafter abbreviated as MIM elements) have come into general use. This MIM element is formed by interposing an electrically insulating thin film in the middle of a conductor that supplies signals to display electrodes on a substrate. MIM elements have a non-linear structure in which they exhibit high resistance when the voltage of the input signal to the conductor is low, and have low resistance when the voltage of the input signal is high enough to display a liquid crystal display. It has excellent characteristics and has the effect of preventing the occurrence of so-called cross voltage, in which electrical signals leak to adjacent display electrodes when the liquid crystal is driven.

ところで、液晶表示素子の基板の製造時には最終的に基
板上に配向膜を形成し、配向膜の表面にラビング法によ
り配向処理を施す。
Incidentally, when manufacturing a substrate for a liquid crystal display element, an alignment film is finally formed on the substrate, and the surface of the alignment film is subjected to an alignment treatment by a rubbing method.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problem that the invention seeks to solve]

このとき前述のMIM素子を形成する絶縁性薄膜の厚み
は300人〜700人であるように形成されているため
、前述の配向処理において発生した静電気が、極めて高
い確率でこの絶縁性薄膜を破壊する。そして、これによ
って、MIM素子が短絡してしまうので、駆動時にMI
M素子を用いてクロストーク電圧の発生を防ぐという効
果が実現できなくなるという問題があった。またこの静
電気を除去するために基板あるいは前述のラビング法に
おけるラビング材などに、それらを介して静電気を逃が
すための回路を設ける方法も用いられているが、充分な
効果を得ていない。
At this time, since the thickness of the insulating thin film forming the aforementioned MIM element is formed to be 300 to 700 thick, the static electricity generated during the above-mentioned alignment process has an extremely high probability of destroying this insulating thin film. do. This causes the MIM element to short-circuit, so when driving, the MIM element
There is a problem in that the effect of preventing the generation of crosstalk voltage by using the M element cannot be achieved. In addition, in order to remove this static electricity, a method of providing a circuit for discharging static electricity through the substrate or the rubbing material used in the above-mentioned rubbing method has been used, but this method has not been sufficiently effective.

この発明は、絶縁性薄膜を介して各表示電極に電気信号
を与えるようにした構造を有する液晶表示素子が、配向
処理時に発生する静電気によって破壊されることを防ぐ
液晶表示素子の量産に適した製造方法を提供するもので
ある。
This invention is suitable for mass production of liquid crystal display elements that prevent liquid crystal display elements having a structure in which electrical signals are applied to each display electrode through an insulating thin film from being destroyed by static electricity generated during alignment processing. A manufacturing method is provided.

(ロ)発明の構成 この発明による液晶表示素子の製造方法は、液晶表示素
子用の基板上に、複数の表示電極と、接地導電体と、そ
の各表示電極をその接地導電体に接続する接続導電体と
を同時にパターン形成し、電気信号を供給する第1導電
体と、この第1導電体から電気絶縁性薄膜を介在させて
前記各表示電極に電気信号を与える第2導電体からなる
回路を形成し、その後基板表面全体に配向用薄膜を形成
し、前記接地導電体を接地した状態で、その配向用薄膜
上に配向処理を施し、次に前記接続導電体を切断する、
ことを特徴とする。
(B) Structure of the Invention The method for manufacturing a liquid crystal display element according to the present invention includes a substrate for a liquid crystal display element, a plurality of display electrodes, a ground conductor, and a connection for connecting each display electrode to the ground conductor. A circuit consisting of a first conductor which is patterned simultaneously with a conductor and supplies an electric signal, and a second conductor which supplies an electric signal to each of the display electrodes from the first conductor with an electrically insulating thin film interposed therebetween. , then forming a thin film for alignment on the entire surface of the substrate, performing an alignment treatment on the thin film for alignment while the ground conductor is grounded, and then cutting the connecting conductor.
It is characterized by

前記基板材料の具体例としてホウケイ酸ガラス、セラミ
ックス、シリコンウェファなどが挙げられる。このとき
ナトリウムガラスを用いてもよいが、この場合には、表
面に二酸化シリコンSiO2などの絶縁膜を形成してお
く処理が必要である。
Specific examples of the substrate material include borosilicate glass, ceramics, silicon wafer, and the like. At this time, sodium glass may be used, but in this case it is necessary to form an insulating film such as silicon dioxide SiO2 on the surface.

前記第1導電体としてはタンタルTa、クロムCr、ア
ルミニウムANなどを用いることができる。ただし製造
されたMIM型液晶表示素子の作動の安定性を考慮する
とTaが好適である。
As the first conductor, tantalum Ta, chromium Cr, aluminum AN, etc. can be used. However, considering the stability of operation of the manufactured MIM type liquid crystal display element, Ta is preferable.

また前記絶縁性薄膜を形成する場合に陽極酸化法を用い
ると、得られる絶縁性薄膜はTa205となる。フォト
リソグラフィック法などを用いてパターン形成する場合
は、それが酸化アルミニウムAA203などの他の絶縁
材料であってもよい。
Further, when an anodic oxidation method is used to form the insulating thin film, the obtained insulating thin film becomes Ta205. When patterned using a photolithographic method or the like, it may be other insulating material such as aluminum oxide AA203.

前記第2導電体にはTaの他にニッケルN t ’−ク
ロムCr、銀Ag、銅Cu、金Auなどを用いてもよい
。一般的には、Ta5Ni、Crが多く用いられる。
In addition to Ta, nickel N t '-chromium Cr, silver Ag, copper Cu, gold Au, etc. may be used for the second conductor. Generally, Ta5Ni and Cr are often used.

また前記第1および第2導電体の材料としてTaを用い
、前記絶縁性薄膜の材料としてTa205を用いる組合
せが最も好ましい。
The most preferable combination is to use Ta as the material for the first and second conductors and use Ta205 as the material for the insulating thin film.

また前記の表示電極、接地導電体および接続導電体には
In2O3を用いることが好ましいが他に酸化スズ5n
02、AI、Ag、Cuなどを用いてもよい。
In addition, it is preferable to use In2O3 for the display electrode, the ground conductor, and the connection conductor, but in addition, tin oxide 5n
02, AI, Ag, Cu, etc. may also be used.

また前記配向用薄膜には5i02を用いることが好まし
いが、ポリイミド膜やフッ化マグネシウムMgF2など
の他の絶縁性を有する材料を用いてもよい。
Further, although it is preferable to use 5i02 for the alignment thin film, other insulating materials such as a polyimide film or magnesium fluoride MgF2 may be used.

〔実施例〕〔Example〕

以下図面に示す実施例に基づいてこの発明を詳述する。 The present invention will be described in detail below based on embodiments shown in the drawings.

なおこれによってこの発明が限定されるものではない。Note that this invention is not limited to this.

第1図は、この発明による製造方法によって製造した液
晶表示素子の一部分を示す断面図である。
FIG. 1 is a sectional view showing a portion of a liquid crystal display element manufactured by the manufacturing method according to the present invention.

(1)は基板、(2)は表示電極、(3)は電気信号を
供給する第1導電体、(4)は電気絶縁性薄膜、(5)
は薄膜(4)を介して電気信号を表示電極(2)に与え
る第2導電体である。基板(1)の表面にはMIM素子
(6)が形成されており、MIM素子(6)を含む基板
(1)の表面には配向処理を施した配向用薄膜(8)が
形成されている。対向基板(la)には、第1図の紙面
に平行な帯状電極(2a)が形成され、帯状電極(2a
)を含む対向基板(1a)の表面にも配向処理を施した
配向用薄膜(8a)が形成されている。これらの配向用
薄膜(8)、(8a)に挟まれる空間部に液晶(7)が
封入されている。
(1) is a substrate, (2) is a display electrode, (3) is a first conductor that supplies electrical signals, (4) is an electrically insulating thin film, (5)
is a second conductor that provides an electrical signal to the display electrode (2) via the thin film (4). An MIM element (6) is formed on the surface of the substrate (1), and an alignment thin film (8) subjected to alignment treatment is formed on the surface of the substrate (1) including the MIM element (6). . A strip electrode (2a) parallel to the plane of the paper in FIG. 1 is formed on the counter substrate (la).
) An alignment thin film (8a) that has been subjected to alignment treatment is also formed on the surface of the counter substrate (1a). A liquid crystal (7) is sealed in a space sandwiched between these alignment thin films (8) and (8a).

このような構成を有する液晶表示素子は、いわゆるドツ
トマトリックス方式に従う駆動方式である。この方式は
情報表示手段として液晶表示素子に求められている、表
示単位の高密度化、表示画面の高密度化などの要請に対
応する方策の一つである。
A liquid crystal display element having such a structure is driven by a so-called dot matrix method. This method is one of the measures to meet the demands of liquid crystal display elements as information display means, such as higher density display units and higher density display screens.

次に、第2図〜第5図を用いてこの発明による液晶表示
素子の製造工程の一実施例を説明する。
Next, an embodiment of the manufacturing process of a liquid crystal display element according to the present invention will be described using FIGS. 2 to 5.

まず、第1工程において第2図(a)に平面図を、第2
図(b)にそのA−A矢視断面図を示すように、たとえ
ばホウケイ酸ガラスなどの材料から形成された基板(1
)の表面に、複数の表示電極(2)と、接地導電体(9
)と、表示電極(2)を接地導電体(9)に接続する接
続導電体α0)を透明導電膜によってパターン形成する
。この透明導電膜はたとえば酸化インジウムIn2O3
などによって形成する。
First, in the first step, a plan view is shown in FIG.
As shown in the A-A cross-sectional view in Figure (b), a substrate (1
), a plurality of display electrodes (2) and a ground conductor (9
) and a connecting conductor α0) connecting the display electrode (2) to the ground conductor (9) are patterned using a transparent conductive film. This transparent conductive film is made of, for example, indium oxide In2O3.
Formed by etc.

次に、第2工程において、第3図(alに平面図を、第
3図山)にそのB−B矢視断面図を示すように、外部か
らの電気信号を導入する第1導電体(3)をパターン形
成する。このとき第1導電体(3)は、たとえばタンタ
ルTaなどの金属材料で形成し、2000人〜4000
人の厚みに、その延在方向とは  垂直方向の断面が略
台形を成すようにパターン形成する。このようなパター
ン形成にはフォトリソグラライツク技術とプラズマ排工
法や反応性イオンエツチング(RIE)法などを組み合
せた技術が多く用いられる。さらに、陽極酸化法で第1
導電体(3)の表面に厚さ2000人〜400b人の五
酸化タンタルTa205の薄膜を絶縁性薄膜(4)とし
て形成する。
Next, in the second step, as shown in FIG. 3 (a plan view is shown in al, and a cross-sectional view taken along the line B-B in FIG. 3) Form a pattern. At this time, the first conductor (3) is formed of a metal material such as tantalum Ta, and has a conductor of 2000 to 4000.
A pattern is formed in the thickness of a person so that its cross section in a direction perpendicular to its extending direction forms a substantially trapezoidal shape. For forming such patterns, a technique that combines photolithographic technique, plasma exhaust method, reactive ion etching (RIE) method, etc. is often used. In addition, the first
A thin film of tantalum pentoxide (Ta205) with a thickness of 2000 to 400 μm is formed as an insulating thin film (4) on the surface of the conductor (3).

ただし、第1導電体(3)のうちMIM素子(6)(第
1図)を形成する領域には、あらかじめフォトレジスト
などの感光性材料を形成しておき、前記処理の後そのフ
ォトレジストを除去して、その部分に厚さ300人〜7
00人Ta205の薄膜を形成する。
However, in the region of the first conductor (3) where the MIM element (6) (Fig. 1) is to be formed, a photosensitive material such as a photoresist is formed in advance, and the photoresist is removed after the above treatment. Remove and apply a thickness of 300 to 7
00 to form a thin film of Ta205.

そして、第4図(a)に平面図を、第4図(b)にその
C−C矢視断面図を示すように、第1導電体(3)を絶
縁性薄膜(4)を介して表示電極(2)に接続する第2
導電体(5)を形成する。このとき前述したように第2
導電体(5)と絶縁性薄膜(4)と第1導電体(3)と
は、液晶表示素子の駆動時において非線型的特性を有す
るMIM素子としての機能を有することができる。
Then, as shown in FIG. 4(a) as a plan view and as shown in FIG. 4(b) as a cross-sectional view taken along the line C-C, the first conductor (3) is inserted through the insulating thin film (4). The second electrode connected to the display electrode (2)
A conductor (5) is formed. At this time, as mentioned above, the second
The conductor (5), the insulating thin film (4), and the first conductor (3) can function as an MIM element having nonlinear characteristics when driving the liquid crystal display element.

ここで非線型的特性とは、第1導電体への入力信号の電
圧が小さいときに高抵抗となり、入力信号の電圧が液晶
表示を行なうに充分な高さの電圧が印加されたとき低抵
抗となるような抵抗値に関する特性である。換言すれば
、いわゆるプール・フランケル効果を有する電圧■−電
電流時特性ことであり、それは、kおよびβを定数とす
るとき、1=k・V・exp(β/V”) で表わされる。なお第2導電体(5)は、たとえばタン
タルTaなどの材料で形成される。
Here, nonlinear characteristics mean that when the voltage of the input signal to the first conductor is small, the resistance becomes high, and when the voltage of the input signal is high enough to display a liquid crystal display, the resistance becomes low. This is a characteristic related to the resistance value such that In other words, it is a voltage vs. current characteristic having the so-called Poole-Frankel effect, which is expressed as 1=k.V.exp (.beta./V''), where k and .beta. are constants. Note that the second conductor (5) is formed of a material such as tantalum Ta.

次に第3工程において、前述の工程を終了した基板(1
)の表面全体にわたって、配向用薄膜(8)を形成する
。配向用薄膜(8)はたとえば二酸化シリコン5i02
などから形成される。そこで、接地導電体(9)を接地
した上で、配向用薄膜(8)の表面に配向処理を行なう
。ここで配向処理の方法は前述したようにラビング法が
多く用いられており、したがって絶縁材料から成る配向
用薄膜(8)の両表面に摩擦により静電気が発生する。
Next, in the third step, the substrate (1
) A thin film for alignment (8) is formed over the entire surface of the substrate. The alignment thin film (8) is made of silicon dioxide 5i02, for example.
It is formed from etc. Therefore, after the ground conductor (9) is grounded, the surface of the alignment thin film (8) is subjected to alignment treatment. As described above, the rubbing method is often used for the orientation treatment, and therefore static electricity is generated due to friction on both surfaces of the orientation thin film (8) made of an insulating material.

発生した静電気は配向用薄膜(8)と接触する表示電極
(2)と接地導電体(9)と第2導電体(5)と接続導
電体αψとに導びかれるが、表示電極(2)と接続導電
体α0と接地導電体(9)とが構成する直列回路を介し
て、接地導電体(9)が接続される外部接地へ放出され
る。こうして約数1000 V/cI11の電界を有す
ることもある静電気によるMIM素子(6)の形成領域
の絶縁性薄膜(4)の破壊が防がれる。
The generated static electricity is led to the display electrode (2) in contact with the alignment thin film (8), the ground conductor (9), the second conductor (5), and the connecting conductor αψ. It is discharged to the external ground to which the ground conductor (9) is connected via a series circuit constituted by the connecting conductor α0 and the ground conductor (9). In this way, destruction of the insulating thin film (4) in the formation region of the MIM element (6) due to static electricity, which may have an electric field of about several thousand V/cI11, is prevented.

次に第4工程において、第5図(a)に平面図を、第5
図(b)にそのD−D矢視断面図を示すように、基板(
1)の接続導電体αΦを切断する。この切断は、たとえ
ばイツトリウム・アルミニウム・ガーネット(YAG、
以後YAGと略称する)結晶などを用いたYAGレーザ
ー装置(図示せず)によって行なう。従って表示電極(
2)は、第2導電体(5)とMIM素子(6)を介して
のみ、第1導電体(3)に接続される回路を構成する。
Next, in the fourth step, the plan view is shown in FIG.
The substrate (
1) Cut the connecting conductor αΦ. This cutting can be done, for example, by yttrium aluminum garnet (YAG).
This is carried out using a YAG laser device (not shown) using a crystal (hereinafter abbreviated as YAG). Therefore, the display electrode (
2) constitutes a circuit that is connected to the first conductor (3) only via the second conductor (5) and the MIM element (6).

このようにして、静電気によるMIM素子(6)が破壊
されることが防止され、換言すると第1導電体(3)と
第2導電体(5)とが直接導通することなく、プール・
フランケル効果をもつMIM素子(6)を含んだ液晶表
示素子を製造することができる。このとき接続導電体−
の切除に伴い切除部分を被覆している配向用薄膜(8)
も切除されることになるがこの切除部分の幅は1μm〜
2μm程度であり、配向処理によって実現される全体と
しての配向効果に対する影響は無視できる程度であるこ
とが確められている。
In this way, the MIM element (6) is prevented from being destroyed by static electricity, in other words, the first conductor (3) and the second conductor (5) are not directly electrically connected, and the pool
A liquid crystal display element including an MIM element (6) having the Frankel effect can be manufactured. At this time, the connected conductor -
Orientation thin film (8) covering the excised part when the
will also be removed, but the width of this removed portion is 1 μm ~
It has been confirmed that the thickness is about 2 μm, and that the influence on the overall alignment effect achieved by the alignment treatment is negligible.

また、前述の実施例の工程順序を変更し、前述の第2工
程と第3工程の間で第1工程を実施してもよく、同等の
効果が得られる。この場合、第1および第2導電体(3
) (5)の表面に接続導電体α〔や表示電極(2)な
どが透明導電膜によって形成され、第4図山)に対応す
る基板(2)の断面は第6図(a)に、第5図(b)に
対応する基板(2)の断面は第6図(b)に示すように
なる。
Furthermore, the same effect can be obtained by changing the order of steps in the above-described embodiment and implementing the first step between the second and third steps described above. In this case, the first and second conductors (3
) On the surface of (5), the connecting conductor α [and the display electrode (2), etc. are formed by a transparent conductive film, and the cross section of the substrate (2) corresponding to the peak in Figure 4 is shown in Figure 6 (a). The cross section of the substrate (2) corresponding to FIG. 5(b) is as shown in FIG. 6(b).

このようにしてラビング法による配向処理時に発生する
静電気が充分に外部に放出され、MIM素子を構成する
絶縁性薄膜(4)の破壊は確実に防止される。
In this way, the static electricity generated during the alignment process using the rubbing method is sufficiently discharged to the outside, and destruction of the insulating thin film (4) constituting the MIM element is reliably prevented.

さらにその製造工程については、静電気を放出する回路
の構成が第2図に示すように簡単であり、その回路の製
作は前述の第1工程のように一回の工程で同時に行われ
るので、設備が単純化され工数が大きく低減される。
Furthermore, regarding the manufacturing process, the configuration of the circuit that discharges static electricity is simple as shown in Figure 2, and the circuit is manufactured at the same time in a single process like the first process described above. is simplified and the number of man-hours is greatly reduced.

(ハ)発明の効果 この発明によれば、配向処理時に配向膜表面に発生する
静電気を、接地回路によって充分に基板外部に放出すの
で、配向処理時に生ずる電気絶縁性薄膜の破壊が確実に
防止される。さらに、この接地回路は、構成が簡単であ
り、単純な工程で製作される。従って、少ない工数、高
い歩留りで、ドツトマトリックス方式などの表示方式に
対応できる液晶表示素子を製造することが可能となる。
(C) Effects of the Invention According to this invention, the static electricity generated on the surface of the alignment film during the alignment process is sufficiently discharged to the outside of the substrate by the grounding circuit, thereby reliably preventing destruction of the electrically insulating thin film that occurs during the alignment process. be done. Furthermore, this grounding circuit has a simple configuration and is manufactured through a simple process. Therefore, it is possible to manufacture a liquid crystal display element compatible with a display method such as a dot matrix method with a small number of man-hours and a high yield.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図はこの発明に係る製造方法によって製造された液
晶表示素子の断面図、第2図(a)〜第5図(alはこ
の発明の一実施例の製造工程を示す平面図、第2図山)
〜第5図(b)は第2図(a)〜第5図(a)のそれぞ
れA−A、B−B、、C−C,D−D矢視断面図、第6
図はこの発明の他の製造工程を示す断面図である。 (1)−・一基板       (2)・−表示電極、
(3)−・第1導電体、   (41−・電気絶縁性薄
膜、(5) −第2導電体、   (6)・−M I 
M素子、!71−−−液晶、      (8)−・−
配向膜、(9L−m−接地導電体、   (l[+>・
・〜接続導電体。 第1図 a 第2図 第3図 (a) (a) (b) 第5図 (a) 手続補正歯(放) 昭和60年6月12日
FIG. 1 is a cross-sectional view of a liquid crystal display element manufactured by the manufacturing method according to the present invention, and FIGS. (Figure mountain)
~Figure 5(b) is a sectional view taken along the arrows A-A, B-B, CC, and D-D of Figures 2(a) to 5(a), respectively.
The figure is a sectional view showing another manufacturing process of the present invention. (1)--One substrate (2)-Display electrode,
(3)--first conductor, (41--electrically insulating thin film, (5)-second conductor, (6)--MI
M element! 71---Liquid crystal, (8)---
Alignment film, (9L-m-ground conductor, (l[+>・
・~Connecting conductor. Figure 1 a Figure 2 Figure 3 (a) (a) (b) Figure 5 (a) Procedural correction tooth (release) June 12, 1985

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、(a)液晶表示素子用の基板上に、複数の表示電極
と、接地導電体と、その各表示電極をそ の接地導電体に接続する接続導電体とを同 時にパターン形成し、 (b)前記各表示電極に電気絶縁性薄膜を介在させて電
気信号を与える回路を形成し、 (c)その後、前記各電極と前記各導電体と前記回路を
含む基板表面全体に配向用薄膜を形 成し、前記接地導電体を接地した状態で、 前記配向用薄膜上に配向処理を施し、 (d)次に、前記接続導電体を切断する、 ことを特徴とする液晶表示素子の製造方法。
[Claims] 1. (a) A plurality of display electrodes, a ground conductor, and a connecting conductor connecting each display electrode to the ground conductor are simultaneously patterned on a substrate for a liquid crystal display element. (b) interposing an electrically insulating thin film on each of the display electrodes to form a circuit that provides an electrical signal; (c) then applying a method to the entire surface of the substrate including each of the electrodes, each of the conductors, and the circuit; A liquid crystal display element characterized in that: an alignment thin film is formed, an alignment treatment is performed on the alignment thin film while the ground conductor is grounded, and (d) the connecting conductor is cut. manufacturing method.
JP60024015A 1985-02-09 1985-02-09 Production of liquid crystal display element Granted JPS61183620A (en)

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