JPS61181832A - Production of heat-resistant resin - Google Patents

Production of heat-resistant resin

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JPS61181832A
JPS61181832A JP2010185A JP2010185A JPS61181832A JP S61181832 A JPS61181832 A JP S61181832A JP 2010185 A JP2010185 A JP 2010185A JP 2010185 A JP2010185 A JP 2010185A JP S61181832 A JPS61181832 A JP S61181832A
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JP
Japan
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dianhydride
mol
bis
heat
tetracarboxylic dianhydride
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JP2010185A
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Akira Toko
都甲 明
Toshiro Takeda
敏郎 竹田
Naoji Takeda
直滋 竹田
Saburo Iida
飯田 三郎
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Sumitomo Bakelite Co Ltd
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Sumitomo Bakelite Co Ltd
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  • Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
  • Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)

Abstract

PURPOSE:To improve the balance of the obtained polyimide resin among heat resistance, flexibility, color lightness, adhesiveness, etc., by using specified compounds as tetracarboxylic acid dianhydride and diamine components. CONSTITUTION:3,3',4,4'-Benzophenonetetracarboxylic acid dianhydride is used as an essential component of the tetracarboxylic acid dianhydride component (the content is preferably 20mol% or higher). 2,8-Diaminodiphenylene oxide (the content is preferably 0.5-50mol%), 2,4-diaminotoluene (the content is preferably 20mol%) and 1,3-bis(m-aminophenyl)tetramethyldisiloxane (the content is preferably 0.1-30mol%) are used as essential components of the diamine component.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、光透過率の優れた重合体主鎖中(二へテロの
イミド環及びフラン環を有する強靭な耐熱性樹脂の製造
に関するものである。その目的とするところは、閉環処
理(二より、イミド化した硬化樹脂が、ポリイミド樹脂
としての耐熱性、耐摩耗性、耐薬品性、電気絶縁性、皮
膜形成性、可撓性、機械特性などが優れ、電子デバイス
用材料。
Detailed Description of the Invention [Field of Industrial Application] The present invention relates to the production of a tough heat-resistant resin having dihetero imide rings and furan rings in the polymer main chain with excellent light transmittance. The objective is to improve the heat resistance, abrasion resistance, chemical resistance, electrical insulation, film-forming properties, flexibility, and Material for electronic devices with excellent mechanical properties.

電気絶縁材料、被覆剤、接着剤、塗料、成形品、fJN
層品、繊維あるいはフィルム材料などとして有用な耐熱
性樹脂を提供するにあるが、中でも、特に電子デバイス
用の液晶表示素子の配向膜として有用な耐熱性樹脂を提
供する(二ある。
Electrical insulation materials, coatings, adhesives, paints, molded products, fJN
The purpose of the present invention is to provide heat-resistant resins that are useful as layered products, fibers, or film materials, and in particular, to provide heat-resistant resins that are useful as alignment films for liquid crystal display elements for electronic devices (there are two types).

〔従来技術〕[Prior art]

従来1重合体主鎖中1−へテロ環例えばイミド、イミダ
ゾール、チアゾール、オキサゾール、オキサジアゾール
、トリアゾール、キノキサリン、チアジアゾール、オキ
サジノン、キナゾリン、イミダゾピロロン、イソインド
ロキナゾロンなどを有するものが耐熱性が優れるという
ことはよく知られたことである。しかしながら、これら
公知の重合体は重合体主鎖が剛直であり、フィルム、皮
膜あるいは塗膜とした時(=柔軟性、屈曲性、伸びある
いは接着性などが乏しい。その為、例えば液晶用配向膜
として使用すると、ラビング作業(二耐えられず、液晶
を十分(:配向できず表示素子としての機能をはたしえ
ない。またこれ等の重合体は硬化に際し加熱すると著し
く着色し、褐色ないしは黒褐色(二なる。その為、例え
ば液晶用配向膜として使用すると液晶表示素子が茶色を
帯び、視野が暗くなり。
Conventionally, polymers having a 1-hetero ring in the main chain, such as imide, imidazole, thiazole, oxazole, oxadiazole, triazole, quinoxaline, thiadiazole, oxazinone, quinazoline, imidazopyrrolone, isoindoroquinazolone, etc., are heat resistant. It is well known that it is superior. However, these known polymers have rigid polymer main chains, and when formed into films, films, or coatings (=poor flexibility, flexibility, elongation, or adhesion), for example, alignment films for liquid crystals. When used as a liquid crystal, it cannot withstand rubbing work and the liquid crystal cannot be properly aligned and cannot function as a display element.In addition, these polymers become extremely colored when heated during curing, resulting in a brown or blackish-brown color. (For this reason, for example, when used as an alignment film for liquid crystal, the liquid crystal display element becomes brownish and the field of view becomes dark.

コントラストが低下し表示素子としての機能をはださな
くなる。従来もこの様な観点より、耐熱性と可撓性と淡
色性と接着性を両立させるべく種々検討が行なわれてき
たが一方が良くなると他方が悪くなるのが通例であった
The contrast decreases and the display element no longer functions as a display element. From this point of view, various studies have been made in the past in order to achieve a balance between heat resistance, flexibility, light color property, and adhesiveness, but it has generally been the case that when one is good, the other is bad.

〔発明の目的〕[Purpose of the invention]

本発明は、これまでのかかる欠点を克服すべく検討した
結果、ジアミン成分として2.8−ジアミノジフェニレ
ンオキサイドと、2.4−ジアミノトルエンと、1.3
−ビス(m−アミノフェニル)テトラメチルジシロキサ
ンを、又テトラカルボン酸ジ無水物成分として3.3′
, 4.4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸ジ無水
物をそれぞれ必須成分として使用する事により、耐熱性
と可撓性と淡色性と接着性のバランスが良くとれた耐熱
性樹脂が得られることを見い出し本発明を完成する(:
到ったものである。
As a result of studies aimed at overcoming such drawbacks, the present invention has developed a system that uses 2,8-diaminodiphenylene oxide, 2,4-diaminotoluene, and 1.3-diaminodiphenylene oxide as diamine components.
-bis(m-aminophenyl)tetramethyldisiloxane and 3.3' as the tetracarboxylic dianhydride component.
, 4. It was discovered that by using 4'-benzophenone tetracarboxylic dianhydride as an essential component, a heat-resistant resin with a good balance of heat resistance, flexibility, light color, and adhesiveness could be obtained. Complete the invention (:
It has arrived.

〔発明の構成〕[Structure of the invention]

本発明は、ジアミンとテトラカルボン酸ジ無水物とを反
応させイミド環を形成させる(二際し、ジアミン成分と
して2.8−ジアミノジフェニレンオキナイドと、2.
4−ジアミノトルエンと、1.3−ビス(m−アミノフ
ェニル)テトラメチルジシロキサンとを、又、テトラカ
ルボン酸ジ無水物とシテ、3.3′,4.4’−ベンゾ
フェノンテトラカルボン酸ジ無水物を必須成分として使
用することを特徴とする耐熱性樹脂の製造方法である。
In the present invention, a diamine and a tetracarboxylic dianhydride are reacted to form an imide ring (2.8-diaminodiphenylene oquinide is used as the diamine component; 2.
4-diaminotoluene and 1,3-bis(m-aminophenyl)tetramethyldisiloxane; This is a method for producing a heat-resistant resin characterized by using an anhydride as an essential component.

本発明で使用するジアミンの内、必須成分は2.8−ジ
アミノジフェニレンオキサイドと、2,4−ジアミノト
ルエンと1.3−ビス(m−アミノフェニル)テトラメ
チルジシロキサンである。2.8−ジアミノジフェニレ
ンオキサイドの1つの作り方を反応式で示すと次の様(
二なる。
Among the diamines used in the present invention, essential components are 2,8-diaminodiphenylene oxide, 2,4-diaminotoluene, and 1,3-bis(m-aminophenyl)tetramethyldisiloxane. 2. One way to make 8-diaminodiphenylene oxide is shown in the reaction formula as follows (
Two.

2.8−ジブロム ジフェニレンオキサイド 2.8−ジアミノ ジフェニレンオキサイド 参考文献:福井大学工学部研究報告 16 (2123
8<768 )上記以外のジアミンも勿論使用すること
ができる。例えば1m−フェニレンジアミン、p−フェ
ニレンジアミン、4,4′−ジアミノジフェニルプロパ
ン、4.4′−ジアミノジフェニルメタン、ベンジジン
、4.4’−ジアミノジフェニルスルフィド、4.4′
−ジアミノジフェニルスルホン、 3.3’−ジアミノ
ジフェニルスルホン、4.4′−ジアミノジフェニルエ
ーテル、2.6−シアミツピリジン、ビス(4−アミノ
フェニル)ホスフインオキンド、ビス(4−アミノフェ
ニル)−N−メチルアミン、1.5−ジアミノナフタリ
ン、3.3’−ジメチル−4,4′−ジアミノビフェニ
ル、3.3′−ジメトキシペンジジン、2.4−ビス(
β−アミノ−t−ブチル)トルエン、ビス(p−β−ア
ミノ−t−ブチルフェニル)エーテル、p−ビス(2メ
チル−4−アミノペンチル)ベンゼン、p−ビス(l、
t−ジメチル−5−アミノペンチル)ベンゼン、m−キ
シリレンジアミン、p−キシリレンジアミン、ビス(p
−アミノプロポキンル)メタン、エチレンジアミン、プ
ロピレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、ヘプタメ
チレンジアミン、オクタメチレンジアミン、ノナメチレ
ンジアミン、デカメチレンジアミン、3−メチルヘプタ
メチレンジアミン、4.4−ジメチルへブタメチレンジ
アミン%2゜11−ジアミノデカン、1.2−ビス(3
−アミノプロポキシ)エタン、2.2−ジメチルプロピ
レンジアミン、3−メトキシへキサメチレンジアミン、
2.5−ジメチルへキサメチレンジアミン、2.5−ジ
メテルノナメチレンジアミン、1.4−シアミノンクロ
ヘキサン、2.12−ジアミノオクタデカン、2.5−
ジアミノ−1,3,4−オキサジアゾールなどである。
2.8-dibromodiphenylene oxide 2.8-diaminodiphenylene oxide Reference: University of Fukui Faculty of Engineering Research Report 16 (2123
8<768) Of course, diamines other than those mentioned above can also be used. For example, 1m-phenylenediamine, p-phenylenediamine, 4,4'-diaminodiphenylpropane, 4,4'-diaminodiphenylmethane, benzidine, 4,4'-diaminodiphenyl sulfide, 4,4'
-Diamino diphenyl sulfone, 3.3'-diaminodiphenylsulfone, 4.4'-diaminodiphenyl ether, 2.6-cyamitsupyridine, bis(4-aminophenyl)phosphine oquindo, bis(4-aminophenyl)- N-methylamine, 1,5-diaminonaphthalene, 3,3'-dimethyl-4,4'-diaminobiphenyl, 3,3'-dimethoxypenzidine, 2,4-bis(
β-amino-t-butyl)toluene, bis(p-β-amino-t-butylphenyl)ether, p-bis(2methyl-4-aminopentyl)benzene, p-bis(l,
t-dimethyl-5-aminopentyl)benzene, m-xylylenediamine, p-xylylenediamine, bis(p
-Aminopropoquine)methane, ethylenediamine, propylenediamine, hexamethylenediamine, heptamethylenediamine, octamethylenediamine, nonamethylenediamine, decamethylenediamine, 3-methylheptamethylenediamine, 4.4-dimethylheptamethylenediamine% 2゜11-diaminodecane, 1.2-bis(3
-aminopropoxy)ethane, 2,2-dimethylpropylenediamine, 3-methoxyhexamethylenediamine,
2.5-dimethylhexamethylene diamine, 2.5-dimetelnonamethylene diamine, 1.4-cyaminone clohexane, 2.12-diaminooctadecane, 2.5-
Diamino-1,3,4-oxadiazole and the like.

又1本発明で使用するテトラカルボン酸ジ無水物の内、
必須成分は、3.3′、4.4′−ベンゾフェノンテト
ラカルボン酸ジ無水物である。しかし、これ以外のテト
ラカルボン酸ジ無水物も勿論使用することができる。例
えばピロメリット酸ジ無水物、2.3,6.7−ナフタ
レンテトラカルボン酸ジ無水物、3.3′,4.4’−
ジフェニルテトラカルボン酸ジ無水物、1,2.5.6
−ナフタレンテトラカルボン酸ジ無水物、2.2′,3
.3’−ジフェニルテトラカルボン酸ジ無水物、2.2
−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)プロパンジ無
水物、3.4.9.10−ペリレンテトラカルボン酸ジ
無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エーテ
ルジ無水物、エチレンテトラカルボン酸ジ無水物、ナフ
タレン−1,2,4,5−テトラカルボン酸ジ無水物、
ナフタレン−1,4,5,8−テトラカルボン酸ジ無水
物、4.8−ジメチル−1,2,3,5,6,7−へキ
サヒドロナフタレン−1,2,5,6−テトラカルボン
酸ジ無水物、2.6−シクロロナフタレンー1.4,5
.8−テトラカルボン酸ジ無水物、2.7−シクロロナ
フタレンー1.45.8−テトラカルボン酸ジ無水物、
2.3,4.7−チトラクロロナフタレンー1.4,5
.8−テトラカルボン酸ジ無水物、フェナンスレン−1
,2,9,10−テトラカルボン酸ジ無水物、シクロペ
ンタン−1,2゜3.4−テトラカルボン酸ジ無水物、
ピロリジン−2、3,4,5−テトラカルボン酸ジ無水
物、ピラジン2、3.5.6−テトラカルボン酸ジ無水
物、2.2−ビス(2,5−ジカルボキシフェニル)プ
ロパンジ無水物、1.1−ビス(2,3−ジカルボキシ
フェニル)エタンジ無水物、1.1−ビス(3,4−ジ
カルボキシフェニル)エタンジ無水物、ビス(2,3−
ジカルボキシフェニル)メタンジ無水物、ビス(3,4
−ジカルボキシフェニル)スルホンジ無水物、ベンゼン
−1,2,3,4−テトラカルボン酸ジ無水物、1.2
,3.4−ブタンテトラカルボン酸ジ無水物、チオフェ
ン−2,3,4,5−テトラカルボン酸ジ無水物などで
ある。
Also, among the tetracarboxylic dianhydrides used in the present invention,
The essential component is 3.3', 4.4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride. However, other tetracarboxylic dianhydrides can of course also be used. For example, pyromellitic dianhydride, 2.3,6.7-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 3.3',4.4'-
Diphenyltetracarboxylic dianhydride, 1,2.5.6
-Naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 2.2',3
.. 3'-diphenyltetracarboxylic dianhydride, 2.2
-Bis(3,4-dicarboxyphenyl)propane dianhydride, 3.4.9.10-perylenetetracarboxylic dianhydride, bis(3,4-dicarboxyphenyl)ether dianhydride, ethylenetetracarboxylic dianhydride anhydride, naphthalene-1,2,4,5-tetracarboxylic dianhydride,
Naphthalene-1,4,5,8-tetracarboxylic dianhydride, 4,8-dimethyl-1,2,3,5,6,7-hexahydronaphthalene-1,2,5,6-tetracarboxylic Acid dianhydride, 2.6-cyclonaphthalene-1.4,5
.. 8-tetracarboxylic dianhydride, 2.7-cyclonaphthalene-1.45.8-tetracarboxylic dianhydride,
2.3,4.7-Titrachloronaphthalene-1.4,5
.. 8-tetracarboxylic dianhydride, phenanthrene-1
, 2,9,10-tetracarboxylic dianhydride, cyclopentane-1,2゜3.4-tetracarboxylic dianhydride,
Pyrrolidine-2,3,4,5-tetracarboxylic dianhydride, pyrazine 2,3,5.6-tetracarboxylic dianhydride, 2,2-bis(2,5-dicarboxyphenyl)propane dianhydride , 1.1-bis(2,3-dicarboxyphenyl)ethane dianhydride, 1.1-bis(3,4-dicarboxyphenyl)ethane dianhydride, bis(2,3-
dicarboxyphenyl)methane dianhydride, bis(3,4
-dicarboxyphenyl) sulfone dianhydride, benzene-1,2,3,4-tetracarboxylic dianhydride, 1.2
, 3,4-butanetetracarboxylic dianhydride, thiophene-2,3,4,5-tetracarboxylic dianhydride, and the like.

必須成分である2、8−ジアミノジフェニレンオキサイ
ドの使用量は0.5〜50モル%が好ましい。
The amount of 2,8-diaminodiphenylene oxide, which is an essential component, is preferably 0.5 to 50 mol%.

0.5モル%以下では耐熱強度の改良効果が小さく父モ
ル%以上では、分子構造の立体障害の為か分子量が大き
くならない。又、2,4−ジアミノトルエンと3.3′
%4.4′−ベンゾフェノンテトラカルボン酸ジ無水物
の使用口はいずれも20モル%以上が好ましく、これ未
満では無着色化の改良効果が小さい。又、1.3−ビス
(m−アミノフェニル)テトラメチルジシロキサンの使
用量は、0.1〜30モル%が好ましい。0.1モル%
以下では無着色化及び接着性改良の効果が小さく、蜀モ
ル%以上では、硬化物が脆いものとなる。
If it is less than 0.5 mol %, the effect of improving heat resistance strength is small, and if it is more than 0.5 mol %, the molecular weight does not increase, probably due to steric hindrance of the molecular structure. Also, 2,4-diaminotoluene and 3.3'
% 4.4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride is preferably used in an amount of 20 mol % or more, and if it is less than 20 mol %, the effect of improving coloration is small. Further, the amount of 1,3-bis(m-aminophenyl)tetramethyldisiloxane used is preferably 0.1 to 30 mol%. 0.1 mol%
If the amount is less than 0.0%, the effect of colorless removal and improvement of adhesiveness will be small, and if the amount is more than 1% by mole, the cured product will be brittle.

本発明におけるジアミン類とテトラカルボン酸ジ無水物
類との反応は、出来る限り等モルで行う方が好ましく、
重合度も大きくなる。いずれか一方の原料が5%以上多
くなると、重合度が著しく低下し、皮膜形成性の悪い低
分子置物が出来る様になるので注意を要する。通常、一
方の原料な1〜3%多く用いることが、作業性・加工性
を良くする上でよく行なわれる。
In the present invention, the reaction between diamines and tetracarboxylic dianhydrides is preferably carried out in equimolar amounts as much as possible;
The degree of polymerization also increases. If the amount of either raw material increases by 5% or more, the degree of polymerization will drop significantly and a low-molecular-weight ornament with poor film-forming properties will be produced, so care must be taken. Usually, it is common practice to use 1 to 3% more of one raw material in order to improve workability and processability.

本発明(=おける反応系の溶媒はその官能基がテトラカ
ルボン酸ジ無水物又はジアミン類と反応しないダイポー
ルモーメントを有する有機極性溶媒である。
The solvent of the reaction system in the present invention (=) is an organic polar solvent whose functional group has a dipole moment that does not react with the tetracarboxylic dianhydride or diamines.

系に対し不活性であり、かつ生成物に対して溶媒である
こと以外(:、この有機極性溶媒は反応成分の少なくと
も一方、好ましくは両者(二対して溶媒でなければなら
ない。
Other than being inert to the system and being a solvent to the product, the organic polar solvent must be a solvent to at least one, preferably both, of the reaction components.

この種の溶媒として代表的なものは、N、N−ジメチル
ホルムアミド、N、N−ジメチルアセトアミド、N、N
−ジエチルホルムアミド、N、N−ジエチルアセトアミ
ド、N、N−ジメチルメトキンアセトアミド、ジメチル
ホルホキンド、ヘキサメチルフォスホアミド、N−メチ
ル−2−ピロリドン、ピリジン、ジメチルヌルホン、テ
トラメチレンスルホン、ジメチルテトラメチレンスルホ
ン等があり、これらの溶媒は単独又は組合せて使用され
る。
Typical solvents of this type include N,N-dimethylformamide, N,N-dimethylacetamide, and N,N-dimethylformamide.
-diethylformamide, N,N-diethylacetamide, N,N-dimethylmethquinacetamide, dimethylforfoquinde, hexamethylphosphoamide, N-methyl-2-pyrrolidone, pyridine, dimethylnulfone, tetramethylenesulfone, dimethyl Examples include tetramethylene sulfone, and these solvents may be used alone or in combination.

この他にも溶媒として組合せて用いられるものとしてベ
ンゼン、ベンゾニトリル、ジオキサン、ブチロラクトン
、キシレン、トルエン、ンクロヘキサン等の非溶媒が、
原料の分散媒、反応調節剤、あるいは生成物からの溶媒
の揮散調節剤、皮膜平滑剤などとして使用される。
Other non-solvents that can be used in combination as solvents include benzene, benzonitrile, dioxane, butyrolactone, xylene, toluene, and nclohexane.
It is used as a dispersion medium for raw materials, a reaction control agent, a volatilization control agent for solvents from products, a film smoothing agent, etc.

本発明は一般に無水の条件下で行うことが好ましい。It is generally preferred that the present invention be carried out under anhydrous conditions.

これは、テトラカルボン酸ジ無水物が水(二より開環し
不活性化し反応を停止させる恐れがあるためである。
This is because tetracarboxylic dianhydride may ring-open from water (2), inactivating it, and stopping the reaction.

このため仕込原料中の水分もr8tg!中の水分も除去
する必要がある。
For this reason, the water content in the raw materials is r8tg! It is also necessary to remove the moisture inside.

しかし一方、反応の進行を調節し、樹脂重合度をコント
ロールするため(二あえて水を添加することも行なわれ
る。
However, on the other hand, in order to adjust the progress of the reaction and control the degree of resin polymerization, water is sometimes added.

また本発明は不活性ガス雰囲気中で行なわれることが好
ましい。
Further, the present invention is preferably carried out in an inert gas atmosphere.

これはジアミン類の酸化を防止するためである。This is to prevent oxidation of diamines.

不活性ガスとしては、一般(二乾燥窒素ガスが使用され
る。
As the inert gas, general (dry nitrogen gas) is used.

本発明(−おける反応の方法は、次の様な種々の方法で
行なわれる。
The reaction in the present invention (-) can be carried out in various ways as follows.

(1)  ジアミン類とテトラカルボン酸ジ無水物を予
め混合し、その混合物を少量づつ有機溶媒中(二攪拌し
ながら添加する。この方法は、ポリイミド樹脂の様な発
熱反応(二おいては比較的有利である。
(1) Diamines and tetracarboxylic dianhydride are mixed in advance, and the mixture is added little by little to an organic solvent (while stirring). It is advantageous.

(2)  これとは逆(二、ジアミン類とテトラカルボ
ン酸ジ無水物の混合物C=、攪拌しながら溶剤を添加す
る方法もある。
(2) On the other hand, there is also a method in which a solvent is added while stirring.

(3)一般(二よく行なわれる方法はジアミン類だけを
溶剤にとかしておき、これ(:反応速度をコントロール
できる割合でテトラカルボン酸ジ無水物を加える方法で
ある。
(3) General (2) A commonly used method is to dissolve only diamines in a solvent and then add tetracarboxylic dianhydride at a rate that allows the reaction rate to be controlled.

(4)  またジアミン類とテトラカルボン酸ジ無水物
を別々に溶剤(二とかしておき、ゆっくりと反応器中で
二つの溶液を加えることもできる。
(4) It is also possible to dissolve diamines and tetracarboxylic dianhydride separately in a solvent and then slowly add the two solutions in a reactor.

(5)  更(二は予めジアミン類過剰のポリアミック
酸生成物とテトラカルボン酸ジ無水物過剰のポリアミッ
ク酸生成物を作っておき、これを反応器中で更に反応さ
せることもできる。
(5) Furthermore, it is also possible to prepare in advance a polyamic acid product containing an excess of diamines and a polyamic acid product containing an excess of tetracarboxylic dianhydride, and then further react them in a reactor.

(6)  またジアミン類の内、1部のジアミン化合物
とテトラカルボン酸ジ無水物をはじめに反応させた後、
残りのジアミン化合物を反応させる方法あるいはこれの
逆の方法もある。
(6) Also, among the diamines, after first reacting one part of the diamine compound and tetracarboxylic dianhydride,
There is also a method in which the remaining diamine compound is reacted, or the reverse method.

(7)  この他、ジアミン類の内の1部のジアミン化
合物とテトラカルボン酸ジ無水物を反応させたものと、
残りのジアミン化合物とテトラカルボン酸ジ無水物を反
応させたものとを、使用前C:混合する方法もある。
(7) In addition, some diamine compounds among diamines and tetracarboxylic dianhydride are reacted,
There is also a method of mixing the remaining diamine compound and the tetracarboxylic dianhydride reacted together before use.

反応温度は0〜100℃が好ましい。0℃以下だと反応
の速度がおそく、100℃以上であると生成したポリア
ミック酸が徐々(二閉環反応を開始するためである。
The reaction temperature is preferably 0 to 100°C. If the temperature is below 0°C, the reaction rate will be slow, and if the temperature is above 100°C, the produced polyamic acid will gradually (because the two-ring closure reaction will start).

通常、反応は20℃前後で行なわれる。ポリアミック酸
の重合度は計画的(:コントロールできる。
Usually, the reaction is carried out at around 20°C. The degree of polymerization of polyamic acid can be controlled (planned).

重合度をコントロールするため(=、フタル酸無水物や
アニリンで末端封鎖したり、水を添加して酸無水物基の
一方を開環し不活性化することもできる。
In order to control the degree of polymerization (=, it is also possible to end-block with phthalic anhydride or aniline, or add water to ring-open one of the acid anhydride groups to inactivate it.

本発明の方法C:より製造されたポリアミック酸生成物
は、使用する(=あたって各種のンランカップリング剤
、ポランカップリング劃、チタネート系カップリング剤
、アルミニウム系カップリング剤その他キレート系の接
着性・密着性向上剤や各種溶剤、フローエージェントを
加えてもよく、又これらに加えて通常の酸便化剤、アミ
ン硬化剤、ポリアミド硬化剤及びイミダゾール、3級ア
ミン等の硬化促進剤の少量を加えてもよく、又ゴムやポ
リサルファイド、ポリエステル、低分子エボキン等の可
撓性賦与剤及び粘度調整剤、タルク、クレー、マイカ、
長石粉末、石英粉末、酸化マグネシウム等の充填剤、カ
ーボンブラック、フタロシアニンブルー等の着色剤、テ
トラブロモフェニルメタン、トリブチルフォスフェート
等の難燃剤、三酸化アンチモン、メタ硼酸バリウム等の
難燃助剤の俊敏を加えてもよく、これらを添加すること
(二より多くの用途が開かれる。
The polyamic acid product produced by method C of the present invention is used (= various Nran coupling agents, poran coupling agents, titanate coupling agents, aluminum coupling agents and other chelate adhesives). A property/adhesion improver, various solvents, and flow agents may be added, and in addition to these, a small amount of a normal acidifying agent, an amine curing agent, a polyamide curing agent, and a curing accelerator such as imidazole or tertiary amine. may also be added, as well as flexibility agents and viscosity modifiers such as rubber, polysulfide, polyester, and low molecular weight Evoquin, talc, clay, mica,
Fillers such as feldspar powder, quartz powder, and magnesium oxide, colorants such as carbon black and phthalocyanine blue, flame retardants such as tetrabromophenylmethane and tributyl phosphate, and flame retardant aids such as antimony trioxide and barium metaborate. Agility may also be added, and the addition of these opens up more uses than two.

本発明の方法によって製造されたポリアミクク酸生成物
は、加熱あるいは脱水剤(二よりイミド化し硬化する。
The polyamicuccinic acid product produced by the method of the present invention is cured by imidization by heating or by a dehydrating agent.

前者の加熱脱水処理の加熱温度は通常50℃以上特c1
50℃以上200〜400℃の範囲が好ましい。
The heating temperature for the former heating and dehydration treatment is usually 50°C or higher Special c1
The temperature range is preferably 50°C or higher and 200 to 400°C.

またこの場合の雰囲気は空気中でもさしつかえない場合
もあるが、減圧ないしは不活性ガスといった非酸化性状
態丁の方5好ましい場合が多い。後者の脱水剤としては
、無水酢酸、無水プロピオン酸、無水安息香酸などの無
水カルボン酸がよく用いられるが、これらは特1ニビリ
ジン、キノリン等の塩基性物質の共存下(二値用すると
効果が大きい。
In this case, air may be used as the atmosphere, but a non-oxidizing atmosphere such as reduced pressure or an inert gas is often preferable. As the latter dehydrating agent, carboxylic anhydrides such as acetic anhydride, propionic anhydride, and benzoic anhydride are often used. big.

又、固形の脱水剤としてはゼオライト系のモレキエラー
ンーブやシリカゲル、活性アルミナなどがあり、これ等
は少々加温して使用する方が効果的である。
In addition, solid dehydrating agents include zeolite-based Molecuyer Lube, silica gel, and activated alumina, which are more effective when used after being slightly heated.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本発明の方法(二従い、2.8−ジアミノジフェニレン
オキサイドと、2,4−ジアミノトルエンと、1.3−
ビス(m−アミノフェニル)テトラメテルジンロキサン
と、3.3′,4.4’−ベンゾフェノンテトラカルボ
ン酸ジ無水物を必須成分として使用した重合体は耐熱性
と柔軟性と淡色性と接着性をバランスよく備えた優れた
耐熱性樹脂である。
The method of the present invention (according to two methods, 2,8-diaminodiphenylene oxide, 2,4-diaminotoluene, 1,3-
A polymer containing bis(m-aminophenyl)tetrametheldine loxane and 3.3',4.4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride as essential components has heat resistance, flexibility, light color, and adhesive properties. It is an excellent heat-resistant resin with a good balance of properties.

即ち、本発明の方法(二より合成した重合体は。That is, the method of the present invention (the polymer synthesized from two steps.

2.8−ジアミノジフェニレンオキサイドの使用(二よ
り1分子構造中(−1芳香族環・複素環を多数有してお
り、耐熱性が優れている。また、主鎖がラセン状をなし
ており、この為C二、スプリング的効果でもって柔軟性
が優れているものと考えられる。
2. Use of 8-diaminodiphenylene oxide (it has a bi-molecular structure (-1), which has many aromatic rings and heterocycles, and has excellent heat resistance. Also, the main chain has a helical shape. Therefore, C2 is considered to have excellent flexibility due to its spring-like effect.

更(二2,4−ジアミノトルエンと3.3′,4.4’
−ベンゾフェノンテトラカルボン酸ジ無水物の導入1:
より主鎖が共役構造をとれなくなる為か、着色の少ない
耐熱性樹脂が得られる。また更C二、1.3−ビス(m
−アミノフェニル)テトラメチルジシロキサンの導入(
二より、イミド基含有量が希釈されて着色が少なく、し
かも接着性の良い耐熱性樹脂が碍られる。
Further (2,4-diaminotoluene and 3.3',4.4'
-Introduction of benzophenone tetracarboxylic dianhydride 1:
Perhaps because the main chain is less able to form a conjugated structure, a heat-resistant resin with less coloring can be obtained. Furthermore, C2, 1.3-bis (m
-Introduction of (aminophenyl)tetramethyldisiloxane (
Second, the imide group content is diluted, resulting in less coloring and a heat-resistant resin with good adhesive properties.

本発明が用いられる用途を具体的にあげると、先ず各種
電子機材の表面を保護するコート用塗膜として、又その
上C二多層配線を行う耐熱絶縁膜として用いられる。
Specifically, the present invention is used as a coating film for protecting the surfaces of various electronic equipment, and also as a heat-resistant insulating film for C2 multilayer wiring.

例えば半導体、トランジスター、リニア−IC1八イブ
リツトIC1発光ダイオード、LSI、超LSIなどの
電子回路用配線構造体である。
For example, it is a wiring structure for electronic circuits such as semiconductors, transistors, linear ICs, eight-bit ICs, light emitting diodes, LSIs, and very large scale integrated circuits.

次(二、本発明C:なる耐熱性樹脂が淡色である事より
、液晶表示装置の配向膜としても使用できる。
(2) Invention C: Since the heat-resistant resin is light in color, it can also be used as an alignment film for liquid crystal display devices.

即ち1本発明の重合体溶液を、酸化スズや酸化インジニ
ウムを主成分とする透明導電膜の形成されたガラス基板
あるいはプラスチックフィルム基板C二、浸漬法1回転
塗布性、スプレー法、印刷法などで塗布し、加熱硬化後
、ラビング処理する。
Namely, (1) the polymer solution of the present invention is coated on a glass substrate or plastic film substrate (C) on which a transparent conductive film containing tin oxide or indium oxide as the main component is coated, (2) by a dipping method, a one-turn coating method, a spray method, a printing method, etc. After coating and curing by heating, it is rubbed.

ラビング方法は、ガーゼ、パフ研磨その他慣用の手段を
用いて行うことができる。本発明の配向膜と組合せて使
用できる液晶は、シッフ塩基型液晶、フェニルシクロヘ
キサン型液晶、アゾキン型液晶。
The rubbing method can be performed using gauze, puff polishing, or other conventional means. Liquid crystals that can be used in combination with the alignment film of the present invention include Schiff base type liquid crystals, phenylcyclohexane type liquid crystals, and azoquine type liquid crystals.

アゾ型液晶、ビフェニル型液晶、エステル型液晶、フェ
ニル・ピリミジン型液晶等のネマティク液晶。
Nematic liquid crystals such as azo type liquid crystal, biphenyl type liquid crystal, ester type liquid crystal, and phenyl/pyrimidine type liquid crystal.

上記のネマティク液晶(二旋光性物質、コレステロール
化合物、光学活性な置換基を有するビフェニル誘導体、
フェニルベンゾエート等の光学活性化合物を添加したコ
レステリクク型液晶などがあげられる。
The above nematic liquid crystals (bi-optical substances, cholesterol compounds, biphenyl derivatives with optically active substituents,
Examples include cholesteric liquid crystals containing optically active compounds such as phenylbenzoate.

その他、高温用のコーチイングツニスとして、電線被覆
、マグネットワイヤ、各種電気部品の浸漬コーティング
、金属部品の保護コーティングなどとして用いられると
共(二含浸ワニスとしても、ガラスクロス、溶融石英ク
ロス、グラファイト繊維やボロン繊維の含浸(二値用し
、レーダードーム、プリント基板、放射性廃棄物収納容
器、タービン翼、高温性能と優れた電気特性を要する宇
宙船、その他の構造部品(二値われ、またマイクロ波の
防止用放射線の防止用としてコンビエータ−などの導波
管、原子機器、レントゲン機器の内装材としても使用さ
れる。
In addition, it is used as a coaching varnish for high temperatures, as a coating for electrical wires, magnet wires, dip coatings for various electrical parts, and as a protective coating for metal parts. Impregnated with boron fibers (binary), radar domes, printed circuit boards, radioactive waste containers, turbine blades, spacecraft and other structural parts requiring high temperature performance and good electrical properties (binary, microwave It is also used as an interior material for waveguides such as combinators, atomic equipment, and X-ray equipment to prevent radiation.

また成形材料としてもグラファイト粉末、グラファイト
繊維、二硫化モリブデンやポリ四フッ化エチレンを添加
して自己潤滑性の摺動面の製作に用い、ピストンリング
、弁座、ベアリング、シール用などに用いられ、またガ
ラス繊維、グラファイト繊維やボロン繊維を添加して、
ジェットエンジン部品、高強度の構造用成形部品などが
作られる。
It is also used as a molding material to create self-lubricating sliding surfaces by adding graphite powder, graphite fiber, molybdenum disulfide, and polytetrafluoroethylene, and is used for piston rings, valve seats, bearings, seals, etc. , also by adding glass fiber, graphite fiber and boron fiber,
Jet engine parts and high-strength structural molded parts are made here.

更に高温用接着剤としても、電気回路部品の接着や宇宙
船の構造部品の接着用):用いられる。
It is also used as a high-temperature adhesive for bonding electrical circuit parts and structural parts of spacecraft.

〔実 施 例〕〔Example〕

以下実施例により本発明を説明する。 The present invention will be explained below with reference to Examples.

実施例1 温度計、攪拌機、原料仕込口及び乾燥窒素ガス吹込口を
備えた四ツ口のセパラブルフラスコに精製した無水の2
.8−ジアミノジフェニレンオキサイド29.7351
1(15モル%)と2.4−ジアミノトルエン85.5
1’l (70モル%)と%1.3−ビス(m−アミノ
フェニル)テトラメチルジシロキサン47.483g(
15モル%)をとりこれC二無水のN−メチル−2−ピ
ロリドン95重量%、トルエン5重量%の混合溶剤を、
全仕込原料中の固形分割合が15重量%になるだけの量
を加えて溶解した。乾燥窒素ガスは、反応の準備段階よ
り生成物取出しまでの全工程(:わたり流しておいた。
Example 1 Purified anhydrous 2 was placed in a four-necked separable flask equipped with a thermometer, stirrer, raw material inlet, and dry nitrogen gas inlet.
.. 8-Diaminodiphenylene oxide 29.7351
1 (15 mol%) and 2,4-diaminotoluene 85.5
1'l (70 mol%) and %1.3-bis(m-aminophenyl)tetramethyldisiloxane 47.483g (
15 mol%), and a mixed solvent of 95% by weight of N-methyl-2-pyrrolidone dianhydride and 5% by weight of toluene.
An amount sufficient to make the solid content of the total raw materials 15% by weight was added and dissolved. Dry nitrogen gas was allowed to flow throughout the entire process from the preparation stage of the reaction to the removal of the product.

次いで精製した無水の3.3′、4.4′−ベンゾフェ
ノンテトラカルボン酸ジ無水物322.230g(10
0モル%)を攪拌しながら少址ずつ添加するが、発熱反
応であるため、外部水槽C:約15℃の冷水を循環させ
てこれを冷却した。添加後、内部温度を加℃(=設定し
、12時間攪拌し、反応を終了した。
Next, 322.230 g (10
0 mol %) was added little by little with stirring, but since it was an exothermic reaction, cold water at about 15° C. was circulated in external water tank C to cool it. After the addition, the internal temperature was set at .degree. C. and stirred for 12 hours to complete the reaction.

得られた生成物は、黄色透明の極めて粘稠なポリアミッ
ク酸溶液であり、N−メチル−2−ピロリドン0.5重
喰%溶液の固有粘度は、Q、80 (30℃)であった
The obtained product was a transparent yellow and extremely viscous polyamic acid solution, and the intrinsic viscosity of the 0.5% N-methyl-2-pyrrolidone solution was Q, 80 (30°C).

次(=、このポリアミック酸をN−ジメチルアセトアミ
ドで5重量%溶液としたものを、ガラス板上(二部下し
、スピンナーで40Orpm/minで10秒秒間−て
2000rpm/min  で(9)秒間回転サセ、均
一(=塗布した。これを減圧下で80℃、150℃、2
50℃、350℃で各30分間ずつ順次(=加熱し、脱
水閉環させ、厚さ1μの淡黄色透明で強靭なポリイミド
樹脂フィルムを得た。このフィルムの赤外線吸収スペク
トルを見ると、1780cm−’及び730cm−’ 
Cイミド環(二基ずく強い吸収と、  1200α−1
にフラン環C二基ずく強い吸収がみられた。
Next, a 5% by weight solution of this polyamic acid in N-dimethylacetamide was placed on a glass plate (2 times) and spun at 40 rpm/min for 10 seconds using a spinner, then spun at 2000 rpm/min for (9) seconds. Scattering, uniform (= applied. This was applied under reduced pressure at 80℃, 150℃, 2
Heating was performed at 50°C and 350°C for 30 minutes each to cause dehydration and ring closure to obtain a pale yellow, transparent, and strong polyimide resin film with a thickness of 1 μm. Looking at the infrared absorption spectrum of this film, the infrared absorption spectrum was 1780 cm-' and 730cm-'
C imide ring (strong absorption of two groups, 1200α-1
A strong absorption was observed for both furan ring C groups.

このフィルムは極めて耐熱性が優れており、空気中での
熱分解開始温度は、示差熱天秤分析装置での測定で昇温
速度5℃/m i nで515℃であった。
This film has extremely excellent heat resistance, and the thermal decomposition initiation temperature in air was 515°C at a heating rate of 5°C/min as measured by a differential thermal balance analyzer.

フィルム強度も大きく、200℃熱間での引張強度は1
6に9/−と優れたものであった。又、フィルムは淡色
性(−優れ、光透過率は400nmで93%でありた。
The film strength is also high, with a tensile strength of 1 when heated at 200°C.
It was excellent with a score of 6 to 9/-. Furthermore, the film had excellent hypochromicity (-) and a light transmittance of 93% at 400 nm.

更(二、ガラス板上でのセロテープ引剥しテスト(JI
S−D−2020)では、はがれ率O%と優れた接着性
を有していた。
Further (2. Sellotape peeling test on glass plate (JI)
SD-2020) had excellent adhesiveness with a peeling rate of 0%.

実施例2 実施例1と同様な装置及び方法で、2.8−ジアミノジ
フェニレンオキサイド19.823.9 (10モル%
)と2.4−ジアミノトルエン61.085.9 (5
0モル%)と4.4′−ジアミノジフェニルエーテル4
0.048II(20モル%)と、1.3−ビス(m−
アミノフェニル)テトラメテルジシロキチン63.3)
0# (20モル%)とを、3.3′,4.4′−ベン
ゾフェノンテトラカルボン酸ジ無水物161.111(
50モル%)とピロメリット酸ジ無水物109.060
,9(50モル%)(:反応させた。
Example 2 Using the same apparatus and method as in Example 1, 2,8-diaminodiphenylene oxide 19.823.9 (10 mol%
) and 2,4-diaminotoluene 61.085.9 (5
0 mol%) and 4,4'-diaminodiphenyl ether 4
0.048II (20 mol%) and 1.3-bis(m-
(aminophenyl)tetramethyldisilochitin 63.3)
0# (20 mol%) and 3.3',4.4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride 161.111 (
50 mol%) and pyromellitic dianhydride 109.060
, 9 (50 mol%) (: Reacted.

得られた生成物は、黄色透明の極めて粘稠なポリアミッ
ク酸溶液であり、固有粘度は0.78であった。また得
られたフィルムは淡黄色透明で強靭性C:富み、熱分解
開始温度は510℃、熱間引張強度は14KP/ml 
、光透過率は91%、セロテープはがれ率は0%と優れ
たものであった。
The obtained product was a transparent yellow and extremely viscous polyamic acid solution with an inherent viscosity of 0.78. The obtained film was pale yellow and transparent, had a high toughness of C:, had a thermal decomposition initiation temperature of 510°C, and had a hot tensile strength of 14 KP/ml.
The light transmittance was excellent, 91%, and the cellophane tape peeling rate was 0%.

比較例1 実施例1と同様な装置及び方法で、2.4−シアミツト
k :c y 122.1701i (100モ#%)
ト3.3′,4.4′−ベンゾフェノンテトラカルボン
酸ジ無水物322.230.9 (100モル%)とを
反応させた。
Comparative Example 1 Using the same apparatus and method as in Example 1, 2.4-cyamite k:cy 122.1701i (100%)
3.3',4.4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride 322.230.9 (100 mol %) was reacted.

得られたフィルムはかなり淡色性の優れたものであった
が熱分解開始温度は320℃シがなく、熱間引張強度も
5Kp/−であり、セロテープはがれ率も95%と悪く
制量ラビング作業に耐えるものではなかった。
The obtained film had excellent light color property, but the thermal decomposition initiation temperature was 320°C, the hot tensile strength was 5 Kp/-, and the cellophane tape peeling rate was 95%, making it difficult to perform controlled rubbing. It was not something that could withstand.

比較例2 実施例1と同様な装置及び方法で、2,4−ジアミノト
ルx y 97.7361 (80モル%)と1.3−
ヒス(m−アミノフェニル)テトラメテルジンロキサy
 63.3)0Jj (20モル%)と3.3′, 4
.4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸ジ無水物32
2.230.9 (Zo。
Comparative Example 2 Using the same apparatus and method as in Example 1, 2,4-diaminotolu x y 97.7361 (80 mol%) and 1.3-
His(m-aminophenyl)tetrametheldine loxay
63.3) 0Jj (20 mol%) and 3.3', 4
.. 4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride 32
2.230.9 (Zo.

モル%)とを反応させた。% by mole).

得られたフィルムは淡色性(二優れ接着性も良かりだが
、熱分解開始温度が340 ℃Lがなく、熱間引張強度
も5KP/mlかなかった。
The obtained film had good adhesion and light color, but had a thermal decomposition onset temperature of less than 340°C and a hot tensile strength of less than 5KP/ml.

比較例3 実施例1と同様な装置及び方法で2.8−ジアミノジフ
ェニレンオキサイド19.823jl (10モル%)
と2.4−ジアミノトルエン109.953.91(9
0モル%)と3.3′,4.4′−ベンゾフェノンテト
ラカルボン酸ジ、無水物322.23011(100モ
ル%)とを反応させた。
Comparative Example 3 19.823jl (10 mol%) of 2,8-diaminodiphenylene oxide was produced using the same apparatus and method as in Example 1.
and 2,4-diaminotoluene 109.953.91 (9
0 mol %) and 3.3',4.4'-benzophenonetetracarboxylic acid di,anhydride 322.23011 (100 mol %) were reacted.

得られたフィルムは、かなり淡色性(;優れ、熱分解開
始温度も高く、熱間引張強度も強かりたがセロテープは
がれ率が100%と悪かった。
The obtained film had excellent light color (; thermal decomposition initiation temperature was high and hot tensile strength was strong, but the cellophane tape peeling rate was poor at 100%).

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)テトラカルボン酸ジ無水物とジアミンとよりなる
ポリイミド樹脂のテトラカルボン酸ジ無水物成分として
、3,3′,4,4′−ベンゾフェノンテトラカルボン
酸ジ無水物をジアミン成分として、2,8−ジアミノジ
フェニレンオキサイドと2,4−ジアミノトルエンと1
,3−ビス(m−アミノフェニル)テトラメチルジシロ
キサンを必須成分とすることを特徴とする耐熱性樹脂の
製造方法。
(1) 3,3',4,4'-benzophenone tetracarboxylic dianhydride as the diamine component, 2, 8-diaminodiphenylene oxide, 2,4-diaminotoluene and 1
, 3-bis(m-aminophenyl)tetramethyldisiloxane as an essential component.
(2)3,3′,4,4′−ベンゾフェノンテトラカル
ボン酸ジ無水物を、テトラカルボン酸ジ無水物成分とし
て、20モル%以上含有することを特徴とする特許請求
の範囲第1項記載の耐熱性樹脂の製造方法。
(2) Claim 1, characterized in that the content of 3,3',4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride is 20 mol% or more as the tetracarboxylic dianhydride component. A method for producing heat-resistant resin.
(3)2,8−ジアミノジフェニレンオキサイドを、ジ
アミン成分として、0.5〜50モル%含有することを
特徴とする、特許請求の範囲第1項記載の耐熱性樹脂の
製造方法。
(3) The method for producing a heat-resistant resin according to claim 1, which contains 0.5 to 50 mol% of 2,8-diaminodiphenylene oxide as a diamine component.
(4)2,4−ジアミノトルエンを、ジアミン成分とし
て20モル%以上含有することを特徴とする特許請求の
範囲第1項記載の耐熱性樹脂の製造方法。
(4) The method for producing a heat-resistant resin according to claim 1, which contains 20 mol% or more of 2,4-diaminotoluene as a diamine component.
(5)1,3−ビス(m−アミノフェニル)テトラメチ
ルジシロキサンをジアミン成分として、0.1〜30モ
ル%含有することを特徴とする特許請求の範囲第1項記
載の耐熱性樹脂の製造方法。
(5) The heat-resistant resin according to claim 1, which contains 0.1 to 30 mol% of 1,3-bis(m-aminophenyl)tetramethyldisiloxane as a diamine component. Production method.
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