JPH0519579B2 - - Google Patents

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JPH0519579B2
JPH0519579B2 JP60020101A JP2010185A JPH0519579B2 JP H0519579 B2 JPH0519579 B2 JP H0519579B2 JP 60020101 A JP60020101 A JP 60020101A JP 2010185 A JP2010185 A JP 2010185A JP H0519579 B2 JPH0519579 B2 JP H0519579B2
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JP
Japan
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mol
dianhydride
tetracarboxylic dianhydride
bis
film
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Application number
JP60020101A
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Japanese (ja)
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JPS61181832A (en
Inventor
Akira Toko
Toshiro Takeda
Naoji Takeda
Saburo Iida
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Sumitomo Bakelite Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Bakelite Co Ltd
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Publication date
Application filed by Sumitomo Bakelite Co Ltd filed Critical Sumitomo Bakelite Co Ltd
Priority to JP2010185A priority Critical patent/JPS61181832A/en
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Publication of JPH0519579B2 publication Critical patent/JPH0519579B2/ja
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  • Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
  • Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、光透過率の優れた重合体主鎖中にヘ
テロのイミド環及びフラン環を有する強靭な耐熱
性樹脂の製造に関するものである。その目的とす
るところは、閉環処理により、イミド化した硬化
樹脂が、ポリイミド樹脂としての耐熱性、耐摩耗
性、耐薬品性、電気絶縁性、皮膜形成性、可撓
性、機械特性などが優れ、電子デバイス用材料、
電気絶縁材料、被覆剤、接着材、塗料、成形品、
積層品、繊維あるいはフイルム材料などとして有
用な耐熱性樹脂を提供するにあるが、中でも、特
に電子デバイス用の液晶表示素子の配向膜として
有用な耐熱性樹脂を提供するにある。
[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention relates to the production of a tough heat-resistant resin having a hetero imide ring and a furan ring in the polymer main chain and having excellent light transmittance. . The purpose of this is that through the ring-closing process, the imidized cured resin has excellent heat resistance, abrasion resistance, chemical resistance, electrical insulation, film-forming properties, flexibility, mechanical properties, etc. as a polyimide resin. , materials for electronic devices,
Electrical insulation materials, coatings, adhesives, paints, molded products,
The object of the present invention is to provide a heat-resistant resin useful as a laminate, fiber, or film material, and in particular, to provide a heat-resistant resin useful as an alignment film for a liquid crystal display element for electronic devices.

〔従来技術〕[Prior art]

従来、重合体主鎖中にヘテロ環例えばイミド、
イミダゾール、チアゾール、オキサゾール、オキ
サジアゾール、トリアゾール、キノキサリン、チ
アジアゾール、オキサジノン、キナゾリン、イミ
ダゾピロロン、イソインドロキナゾロンなどを有
するものが耐熱性が優れるということはよく知ら
れたことである。しかしながら、これら公知の重
合体は重合体主鎖が剛直であり、フイルム、皮膜
あるいは塗膜とした時に柔軟性、屈曲性、伸びあ
るいは接着性などが乏しい。その為、例えば液晶
用配向膜として使用すると、ラビング作業に耐え
られず、液晶を十分に配向できず表示素子として
の機能をはたしえない。またこれ等の重合体は硬
化に際し加熱すると著しく着色し、褐色ないしは
黒褐色になる。その為、例えば液晶用配向膜とし
て使用すると液晶元素子が茶色を帯び、視野が暗
くなり、コントラストが低下し表示素子としての
機能をはたさなくなる。従来もこの様な観点よ
り、耐熱性と可撓性と淡色性と接着性を両立させ
るべく種々検討が行なわれてきたが一方が良くな
ると他方が悪くなるのが通例であつた。
Traditionally, heterocycles such as imide,
It is well known that compounds containing imidazole, thiazole, oxazole, oxadiazole, triazole, quinoxaline, thiadiazole, oxazinone, quinazoline, imidazopyrrolone, isoindoquinazolone, etc. have excellent heat resistance. However, these known polymers have rigid polymer main chains, and when formed into films, coatings, or coatings, they have poor flexibility, flexibility, elongation, and adhesiveness. Therefore, when used as an alignment film for liquid crystal, for example, it cannot withstand rubbing work and cannot fully align the liquid crystal, making it unable to function as a display element. Furthermore, when these polymers are heated during curing, they become significantly colored, becoming brown or blackish brown. Therefore, when used as an alignment film for liquid crystal, for example, the liquid crystal element becomes brownish, the visual field becomes dark, the contrast decreases, and it no longer functions as a display element. From this point of view, various studies have been made in the past in order to achieve a balance between heat resistance, flexibility, light color property, and adhesiveness, but it has generally been the case that when one is good, the other is bad.

〔発明の目的〕[Purpose of the invention]

本発明は、これまでのかかる欠点を克服すべく
検討した結果、ジアミン成分として2,8−ジア
ミノジフエニレンオキサイドと、2,4−ジアミ
ノトルエンと、1,3−ビス(m−アミノフエニ
ル)テトラメチルジシロキサンを、又テトラカル
ボン酸ジ無水物成分として、3,3′、4,4′−ベ
ンゾフエノンテトラカルボン酸ジ無水物をそれぞ
れ必須成分として使用する事により、耐熱性と可
撓性と淡色性と接着性のバランスが良くとれた耐
熱性樹脂が得られることを見い出し本発明を完成
するに到つたものである。
As a result of studies aimed at overcoming these drawbacks, the present invention has developed a system that uses 2,8-diaminodiphenylene oxide, 2,4-diaminotoluene, and 1,3-bis(m-aminophenyl)tetra as diamine components. By using methyldisiloxane, tetracarboxylic dianhydride component, and 3,3',4,4'-benzophenone tetracarboxylic dianhydride as essential components, heat resistance and flexibility are achieved. The present invention was completed based on the discovery that a heat-resistant resin with a good balance of light color and adhesiveness can be obtained.

〔発明の構成〕[Structure of the invention]

本発明は、ジアミンとテトラカルボン酸ジ無水
物とを反応させイミド環を形成させるに際し、ジ
アミン成分として2,8−ジアミノジフエニレン
オキサイドと、2,4−ジアミノトルエンと、
1,3−ビス(m−アミノフエニル)テトラメチ
ルジシロキサンとを、又、テトラカルボン酸ジ無
水物として、3,3′、4,4′−ベンゾフエノンテ
トラカルボン酸ジ無水物を必須成分として使用す
ることを特徴とする耐熱性樹脂の製造方法であ
る。
In the present invention, when reacting a diamine and a tetracarboxylic dianhydride to form an imide ring, 2,8-diaminodiphenylene oxide and 2,4-diaminotoluene are used as the diamine component,
1,3-bis(m-aminophenyl)tetramethyldisiloxane, and 3,3',4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride as an essential component. This is a method for producing a heat-resistant resin.

本発明で使用するジアミンの内、必須成分は
2,8−ジアミノジフエニレンオキサイドと、
2,4−ジアミノトルエンと1,3−ビス(m−
アミノフエニル)テトラメチルジシロキサンであ
る。2,8−ジアミノジフエニレンオキサイドの
1つの作り方を反応式で示すと次の様になる。
Among the diamines used in the present invention, the essential components are 2,8-diaminodiphenylene oxide,
2,4-diaminotoluene and 1,3-bis(m-
(aminophenyl)tetramethyldisiloxane. One way to make 2,8-diaminodiphenylene oxide is shown in the following reaction formula.

参考文献:福井大学工学部研究報告16(2)238(’
68) 上記以外のジアミンも勿論使用することができ
る。例えば、m−フエニレンジアミン、p−フエ
ニレンジアミン、4,4′−ジアミノジフエニルプ
ロパン、4,4′−ジアミノジフエニルメタン、ベ
ンジジン、4,4′−ジアミノジフエニルスルフイ
ド、4,4′−ジアミノジフエニルスルホン、3,
3′−ジアミノジフエニルスルホン、4,4′−ジア
ミノジフエニルエーテル、2,6−ジアミノピリ
ジン、ビス(4−アミノフエニル)ホスフインオ
キシド、ビス(4−アミノフエニル)−N−メチ
ルアミン、1,5−ジアミノナフタリン、3,
3′−ジメチル−4,4′−ジアミノビフエニル、
3,3′−ジメトキシベンジジン、2,4−ビス
(β−アミノ−t−ブチル)トルエン、ビス(p
−β−アミノ−t−ブチルフエニル)エーテル、
p−ビス(2メチル−4−アミノペンチル)ベン
ゼン、p−ビス(1,1−ジメチル−5−アミノ
ペンチル)ベンゼン、m−キシリレンジアミン、
p−キシリレンジアミン、ビス(p−アミノシク
ロヘキシル)メタン、エチレンジアミン、プロピ
レンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、ヘプタ
メチレンジアミン、オクタメチレンジアミン、ノ
ナメチレンジアミン、デカメチレンジアミン、3
−メチルヘプタメチレンジアミン、4,4−ジメ
チルヘプタメチレンジアミン、2,11−ジアミノ
デカン、1,2−ビス(3−アミノプロポキシ)
エタン、2,2−ジメチルプロピレンジアミン、
3−メトキシヘキサメチレンジアミン、2,5−
ジメチルヘキサメチレンジアミン、2,5−ジメ
チルノナメチレンジアミン、1,4−ジアミノシ
クロヘキサン、2,12−ジアミノオクタデカン、
2,5−ジアミノ−1,3,4−オキサジアゾー
ルなどである。
Reference: University of Fukui Faculty of Engineering Research Report 16(2)238('
68) Of course, diamines other than those mentioned above can also be used. For example, m-phenylenediamine, p-phenylenediamine, 4,4'-diaminodiphenylpropane, 4,4'-diaminodiphenylmethane, benzidine, 4,4'-diaminodiphenyl sulfide, 4,4'-diaminodiphenyl methane, 4'-diaminodiphenyl sulfone, 3,
3'-diaminodiphenyl sulfone, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 2,6-diaminopyridine, bis(4-aminophenyl)phosphine oxide, bis(4-aminophenyl)-N-methylamine, 1,5 -diaminonaphthalene, 3,
3'-dimethyl-4,4'-diaminobiphenyl,
3,3'-dimethoxybenzidine, 2,4-bis(β-amino-t-butyl)toluene, bis(p
-β-amino-t-butylphenyl) ether,
p-bis(2methyl-4-aminopentyl)benzene, p-bis(1,1-dimethyl-5-aminopentyl)benzene, m-xylylenediamine,
p-xylylenediamine, bis(p-aminocyclohexyl)methane, ethylenediamine, propylenediamine, hexamethylenediamine, heptamethylenediamine, octamethylenediamine, nonamethylenediamine, decamethylenediamine, 3
-Methylheptamethylenediamine, 4,4-dimethylheptamethylenediamine, 2,11-diaminodecane, 1,2-bis(3-aminopropoxy)
Ethane, 2,2-dimethylpropylene diamine,
3-methoxyhexamethylene diamine, 2,5-
Dimethylhexamethylenediamine, 2,5-dimethylnonamethylenediamine, 1,4-diaminocyclohexane, 2,12-diaminooctadecane,
2,5-diamino-1,3,4-oxadiazole and the like.

又、本発明で使用するテトラカルボン酸ジ無水
物の内、必須成分は、3,3′,4,4′−ベンゾフ
エノンテトラカルボン酸ジ無水物である。しか
し、これ以外のテトラカルボン酸ジ無水物も勿論
使用することができる。例えばピロメリツト酸ジ
無水物、2,3,6,7−ナフタレンテトラカル
ボン酸ジ無水物、3,3′、4,4′−ジフエニルテ
トラカルボン酸ジ無水物、1,2,5,6−ナフ
タレンテトラカルボン酸ジ無水物、2,2′、3,
3′−ジフエニルテトラカルボン酸ジ無水物、2,
2−ビス(3,4−ジカルボキシジフエニル)プ
ロパンジ無水物、3,4,9,10−ペリレンテト
ラカルボン酸ジ無水物、ビス(3,4−ジカルボ
キシジフエニル)エーテルジ無水物、エチレンテ
トラカルボン酸ジ無水物、ナフタレン−1,2,
4,5−テトラカルボン酸ジ無水物、ナフタレン
−1,4,5,8−テトラカルボン酸ジ無水物、
4,8−ジメチル−1,2,3,5,6,7−ヘ
キサヒドロナフタレン−1,2,5,6−テトラ
カルボン酸ジ無水物、2,6−ジクロロナフタレ
ン−1,4,5,8−テトラカルボン酸ジ無水
物、2,7−ジクロロナフタレン−1,4,5,
8−テトラカルボン酸ジ無水物、2,3,4,7
−テトラクロロナフタレン−1,4,5,8−テ
トラカルボン酸ジ無水物、フエナンスレン−1,
2,9,10−テトラカルボン酸ジ無水物、シクロ
ペンタン−1,2,3,4−テトラカルボン酸ジ
無水物、ピロリジン−2,3,4,5−テトラカ
ルボン酸ジ無水物、ピラジン2,3,5,6−テ
トラカルボン酸ジ無水物、2,2−ビス(2,5
−ジカルボキシフエニル)プロパンジ無水物、
1,1−ビス(2,3−ジカルボキシフエニル)
エタンジ無水物、1,1−ビス(3,4−ジカル
ボキシフエニル)エタンジ無水物、ビス(2,3
−ジカルボキシフエニル)メタンジ無水物、ビス
(3,4−ジカルボキシフエニル)スルホンジ無
水物、ベンゼン−1,2,3,4−テトラカルボ
ン酸ジ無水物、1,2,3,4−ブタンテトラカ
ルボン酸ジ無水物、チオフエン−2,3,4,5
−テトラカルボン酸ジ無水物などである。
Furthermore, among the tetracarboxylic dianhydrides used in the present invention, an essential component is 3,3',4,4'-benzophenone tetracarboxylic dianhydride. However, other tetracarboxylic dianhydrides can of course also be used. For example, pyromellitic dianhydride, 2,3,6,7-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 3,3',4,4'-diphenyltetracarboxylic dianhydride, 1,2,5,6- naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 2,2',3,
3'-diphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,
2-bis(3,4-dicarboxydiphenyl)propane dianhydride, 3,4,9,10-perylenetetracarboxylic dianhydride, bis(3,4-dicarboxydiphenyl)ether dianhydride, ethylene tetra Carboxylic dianhydride, naphthalene-1,2,
4,5-tetracarboxylic dianhydride, naphthalene-1,4,5,8-tetracarboxylic dianhydride,
4,8-dimethyl-1,2,3,5,6,7-hexahydronaphthalene-1,2,5,6-tetracarboxylic dianhydride, 2,6-dichloronaphthalene-1,4,5, 8-tetracarboxylic dianhydride, 2,7-dichloronaphthalene-1,4,5,
8-tetracarboxylic dianhydride, 2,3,4,7
-tetrachloronaphthalene-1,4,5,8-tetracarboxylic dianhydride, phenanthrene-1,
2,9,10-tetracarboxylic dianhydride, cyclopentane-1,2,3,4-tetracarboxylic dianhydride, pyrrolidine-2,3,4,5-tetracarboxylic dianhydride, pyrazine 2 , 3,5,6-tetracarboxylic dianhydride, 2,2-bis(2,5
- dicarboxyphenyl) propane dianhydride,
1,1-bis(2,3-dicarboxyphenyl)
Ethane dianhydride, 1,1-bis(3,4-dicarboxyphenyl)ethane dianhydride, bis(2,3
-dicarboxyphenyl)methane dianhydride, bis(3,4-dicarboxyphenyl)sulfone dianhydride, benzene-1,2,3,4-tetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4- Butanetetracarboxylic dianhydride, thiophene-2,3,4,5
-tetracarboxylic dianhydride, etc.

必須成分である2,8−ジアミノジフエニレン
オキサイドの使用量は0.5〜50モル%が好ましい。
0.5モル%以下では耐熱強度の改良効果が小さく
50モル%以上では、分子構造の立体障害の為か分
子量が大きくならない。又、2,4−ジアミノト
ルエン3,3′、4,4′−ベンゾフエノンテトラカ
ルボン酸ジ無水物の使用量はいずれも20モル%以
上が好ましく、これ未満では無着色化の改良効果
が小さい。又、1,3−ビス(m−アミノフエニ
ル)テトラメチルジシロキサンの使用量は、0.1
〜30モル%が好ましい。0.1モル%以下では無着
色化及び接着性改良の効果が小さく、30モル%以
上では、硬化物が脆いものとなる。
The amount of 2,8-diaminodiphenylene oxide, which is an essential component, is preferably 0.5 to 50 mol%.
Below 0.5 mol%, the effect of improving heat resistance strength is small.
At 50 mol% or more, the molecular weight does not increase, probably due to steric hindrance in the molecular structure. In addition, the amount of 2,4-diaminotoluene 3,3',4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride used is preferably 20 mol% or more, and if it is less than this, the color-free improvement effect will not be achieved. small. In addition, the amount of 1,3-bis(m-aminophenyl)tetramethyldisiloxane used is 0.1
~30 mol% is preferred. If it is less than 0.1 mol %, the effects of color-free and adhesive improvement will be small, and if it is more than 30 mol %, the cured product will be brittle.

本発明におけるジアミン類とテトラカルボン酸
ジ無水物類との反応は、出来る限り等モルで行う
方が好ましく、重合度も大きくなる。いずれか一
方の原料が5%以上多くなると、重合度が著しく
低下し、皮膜形成性の悪い低分子量物が出来る様
になるので注意を要する。通常、一方の原料を1
〜3%多く用いることが、作業性・加工性を良く
する上でよく行なわれる。
In the present invention, the reaction between diamines and tetracarboxylic dianhydrides is preferably carried out in equimolar amounts as much as possible, which increases the degree of polymerization. If the amount of either raw material increases by 5% or more, the degree of polymerization will drop significantly and a low molecular weight product with poor film-forming properties will be produced, so care must be taken. Usually, one raw material is
It is often used in an amount of ~3% to improve workability and processability.

本発明における反応系の溶媒はその官能基がテ
トラカルボン酸ジ無水物又はジアミン類と反応し
ないダイポールモーメントを有する有機極性溶媒
である。
The solvent of the reaction system in the present invention is an organic polar solvent whose functional group has a dipole moment that does not react with the tetracarboxylic dianhydride or diamines.

系に対し不活性であり、かつ生成物に対して溶
媒であること以外に、この有機極性溶媒は反応成
分の少なくとも一方、好ましくは両者に対して溶
媒でなければならない。
In addition to being inert to the system and solvent to the product, the organic polar solvent must be solvent to at least one, preferably both, of the reaction components.

この種の溶媒として代表的なものは、N,N−
ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセト
アミド、N,N−ジエチルホルムアミド、N,N
−ジエチルアセトアミド、N,N−ジメチルメト
キシアセトアミド、ジメチルスルホキシド、ヘキ
サメチルフオスホアミド、N−メチル−2−ピロ
リドン、ピリジン、ジメチルスルホン、テトラメ
チレンスルホン、ジメチルテトラメチレンスルホ
ン等があり、これらの溶媒は単独又は組合せて使
用される。
Typical solvents of this type are N,N-
Dimethylformamide, N,N-dimethylacetamide, N,N-diethylformamide, N,N
-Diethylacetamide, N,N-dimethylmethoxyacetamide, dimethylsulfoxide, hexamethylphosphoamide, N-methyl-2-pyrrolidone, pyridine, dimethylsulfone, tetramethylenesulfone, dimethyltetramethylenesulfone, etc., and these solvents include Used alone or in combination.

この他にも溶媒として組合せて用いられるもの
としてベンゼン、ベンゾニトリル、ジオキサン、
ブチロラクトン、キシレン、トルエン、シクロヘ
キサン等の非溶媒が、原料の分散媒、反応調節
剤、あるいは生成物からの溶媒の揮散調節剤、皮
膜平滑剤などとして使用される。
Other solvents that can be used in combination include benzene, benzonitrile, dioxane,
Nonsolvents such as butyrolactone, xylene, toluene, and cyclohexane are used as dispersion media for raw materials, reaction regulators, solvent volatilization regulators from products, film smoothing agents, and the like.

本発明は一般に無水の条件下で行うことが好ま
しい。
It is generally preferred that the present invention be carried out under anhydrous conditions.

これは、テトラカルボン酸ジ無水物が水により
開環し不活性化し反応を停止させる恐れがあるた
めである。
This is because the tetracarboxylic dianhydride may be ring-opened by water, inactivated, and the reaction may be stopped.

このため仕込原料中の水分も溶媒中の水分も除
去する必要がある。
Therefore, it is necessary to remove both the moisture in the raw materials and the moisture in the solvent.

しかし一方、反応の進行を調節し、樹脂重合度
をコントロールするためにあえて水を添加するこ
とも行なわれる。
However, on the other hand, water is intentionally added in order to adjust the progress of the reaction and control the degree of resin polymerization.

また本発明は不活性ガス雰囲気中で行なわれる
ことが好ましい。
Further, the present invention is preferably carried out in an inert gas atmosphere.

これはジアミン類の酸化を防止するためであ
る。
This is to prevent oxidation of diamines.

不活性ガスとしては、一般に乾燥窒素ガスが使
用される。
Dry nitrogen gas is generally used as the inert gas.

本発明における反応の方法は、次の様な種々の
方法で行なわれる。
The reaction in the present invention can be carried out in the following various ways.

(1) ジアミン類とテトラカルボン酸ジ無水物を予
め混合し、その混合物を少量づつ有機溶媒中に
撹拌しながら添加する。この方法は、ポリイミ
ド樹脂の様な発熱反応においては比較的有利で
ある。
(1) Diamines and tetracarboxylic dianhydride are mixed in advance, and the mixture is added little by little to an organic solvent while stirring. This method is relatively advantageous in exothermic reactions such as those for polyimide resins.

(2) これとは逆に、ジアミン類とテトラカルボン
酸ジ無水物の混合物に、撹拌しながら溶剤を添
加する方法もある。
(2) Conversely, there is also a method of adding a solvent to a mixture of diamines and tetracarboxylic dianhydride while stirring.

(3) 一般によく行なわれる方法はジアミン類だけ
を溶剤にとかしておき、これに反応速度をコン
トロールできる割合でテトラカルボン酸ジ無水
物を加える方法である。
(3) A commonly used method is to dissolve only diamines in a solvent, and then add tetracarboxylic dianhydride to this in a proportion that allows the reaction rate to be controlled.

(4) またジアミン類とテトラカルボン酸ジ無水物
を別々に溶剤にとかしておき、ゆつくりと反応
器中で二つの溶液を加えることもできる。
(4) It is also possible to dissolve diamines and tetracarboxylic dianhydride separately in a solvent and then slowly add the two solutions in a reactor.

(5) 更には予めジアミン類過剰のポリアミツク酸
生成物とテトラカルボン酸ジ無水物過剰のポリ
アミツク酸生成物を作つておき、これを反応器
中で更に反応させることもできる。
(5) Furthermore, it is also possible to prepare in advance a polyamic acid product containing an excess of diamines and a polyamic acid product containing an excess of tetracarboxylic dianhydride, and then further react them in a reactor.

(6) またジアミン類の内、1部のジアミン化合物
とテトラカルボン酸ジ無水物をはじめに反応さ
せた後、残りのジアミン化合物を反応させる方
法あるいはこれの逆の方法もある。
(6) Among the diamines, there is also a method in which a part of the diamine compound and tetracarboxylic dianhydride are first reacted, and then the remaining diamine compound is reacted, or the reverse method is also available.

(7) この他、ジアミン類の内の1部のジアミン化
合物とテトラカルボン酸ジ無水物を反応させた
ものと、残りのジアミン化合物とテトラカルボ
ン酸ジ無水物を反応させたものとを、使用前に
混合する方法もある。
(7) In addition, among the diamines, some diamine compounds and tetracarboxylic dianhydride are reacted, and the remaining diamine compound and tetracarboxylic dianhydride are reacted. Another method is to mix it beforehand.

反応温度は0〜100℃が好ましい。0℃以下だ
と反応の速度がおそく、100℃以上であると生成
したポリアミツク酸が徐々に閉環反応を開始する
ためである。
The reaction temperature is preferably 0 to 100°C. This is because if the temperature is below 0°C, the reaction rate is slow, and if it is above 100°C, the produced polyamic acid gradually starts the ring-closing reaction.

通常、反応は20℃前後で行なわれる。ポリアミ
ツク酸の重合度は計画的にコントロールできる。
Usually, the reaction is carried out at around 20°C. The degree of polymerization of polyamic acid can be controlled in a planned manner.

重合度をコントロールするために、フタル酸無
水物やアニリンで末端封鎖したり、水を添加して
酸無水物基の一方を開環し不活性化することもで
きる。
In order to control the degree of polymerization, it is also possible to end-block with phthalic anhydride or aniline, or add water to ring-open one of the acid anhydride groups to inactivate it.

本発明の方法により製造されたポリアミツク酸
生成物は、使用するにあたつて各種のシランカツ
プリング剤、ボランカツプリング剤、チタネート
系カツプリング剤、アルミニウム系カツプリング
剤その他キレート系の接着性・密着性向上剤や各
種溶剤、フローエージエントを加えてもよく、又
これらに加えて通常の酸硬化剤、アミン硬化剤、
ポリアミド硬化剤及びイミダゾール、3級アミン
等の硬化促進剤の少量を加えてもよく、又ゴムや
ポリサルフアイド、ポリエステル、低分子エポキ
シ等の可撓性賦与剤及び粘度調整剤、タルク、ク
レー、マイカ、長石粉末、石英粉末、酸化マグネ
シウム等の充填剤、カーボンブラツク、フタロシ
アニンブルー等の着色剤、テトラブロモフエニル
メタン、トリブチルフオスフエート等の難燃剤、
三酸化アンチモン、メタ硼酸バリウム等の難燃助
剤の少量を加えてもよく、これらを添加すること
により多くの用途が開かれる。
When used, the polyamic acid product produced by the method of the present invention has the adhesion and adhesion properties of various silane coupling agents, borane coupling agents, titanate coupling agents, aluminum coupling agents, and other chelate coupling agents. Improvers, various solvents, and flow agents may be added, and in addition to these, ordinary acid curing agents, amine curing agents,
Small amounts of polyamide curing agents and curing accelerators such as imidazole and tertiary amines may be added, as well as flexibility agents and viscosity modifiers such as rubber, polysulfide, polyester, and low-molecular epoxy, talc, clay, mica, Fillers such as feldspar powder, quartz powder, and magnesium oxide; colorants such as carbon black and phthalocyanine blue; flame retardants such as tetrabromophenylmethane and tributyl phosphate;
Small amounts of flame retardant aids such as antimony trioxide, barium metaborate, etc. may also be added, and their addition opens up many applications.

本発明の方法によつて製造されたポリアミツク
酸生成物は、加熱あるいは脱水剤によりイミド化
し硬化する。
The polyamic acid product produced by the method of the present invention is imidized and cured by heating or by using a dehydrating agent.

前者の加熱脱水処理の加熱温度は通常50℃以上
特に150℃以上200〜400℃の範囲が好ましい。ま
たこの場合の雰囲気は空気中でもさしつかえない
場合もあるが、減圧ないしは不活性ガスといつた
非酸化性状態下の方が好ましい場合が多い。後者
の脱水剤としては、無水酢酸、無水プロピオン
酸、無水安息香酸などの無水カルボン酸がよく用
いられるが、これらは特にピリジン、キノリン等
の塩基性物質の共存下に使用すると効果が大き
い。又、固形の脱水剤としてはゼオライト系のモ
レキユラーシーブやシリカゲル、活性アルミナな
どがあり、これ等は少々加温して使用する方が効
果的である。
The heating temperature for the former thermal dehydration treatment is usually 50°C or higher, preferably 150°C or higher, preferably 200 to 400°C. Although air may be used as the atmosphere in this case, it is often preferable to use non-oxidizing conditions such as reduced pressure or inert gas. As the latter dehydrating agent, carboxylic anhydrides such as acetic anhydride, propionic anhydride, and benzoic anhydride are often used, and these are particularly effective when used in the coexistence of basic substances such as pyridine and quinoline. Solid dehydrating agents include zeolite-based molecular sieves, silica gel, and activated alumina, which are more effective when used after being slightly heated.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本発明の方法に従い、2,8−ジアミノジフエ
ニレンオキサイドと、2,4−ジアミノトルエン
と、1,3−ビス(m−アミノフエニル)テトラ
メチルジシロキサンと、3,3′、4,4′−ベンゾ
フエノンテトラカルボン酸ジ無水物を必須成分と
して使用した重合体は耐熱性と柔軟性と淡色性と
接着性をバランスよく備えた優れた耐熱性樹脂で
ある。
According to the method of the invention, 2,8-diaminodiphenylene oxide, 2,4-diaminotoluene, 1,3-bis(m-aminophenyl)tetramethyldisiloxane, 3,3',4,4' - A polymer containing benzophenone tetracarboxylic dianhydride as an essential component is an excellent heat-resistant resin that has a good balance of heat resistance, flexibility, light color, and adhesiveness.

即く、本発明の方法により合成した重合体は、
2,8−ジアミノジフエニレンオキサイドの使用
により、分子構造中に、芳香族環・複素環を多数
有しており、耐熱性が優れている。また、主鎖が
ラセン状をなしており、この為に、スプリング的
効果でもつて柔軟性が優れているものと考えられ
る。更に2,4−ジアミノトルエンと3,3′、
4,4′−ベンゾフエノンテトラカルボン酸ジ無水
物の導入により主鎖が共役構造をとれなくなる為
か、着色の少ない耐熱性樹脂が得られる。また更
に、1,3−ビス(m−アミノフエニル)テトラ
メチルジシロキサンの導入により、イミド基含有
量が希釈されて着色が少なく、しかも接着性の良
い耐熱性樹脂が得られる。
Specifically, the polymer synthesized by the method of the present invention is
By using 2,8-diaminodiphenylene oxide, it has a large number of aromatic rings and heterocycles in its molecular structure, and has excellent heat resistance. In addition, the main chain has a helical shape, which is thought to give it excellent flexibility with a spring-like effect. Furthermore, 2,4-diaminotoluene and 3,3′,
A heat-resistant resin with little coloring can be obtained, probably because the main chain cannot form a conjugated structure due to the introduction of 4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride. Furthermore, by introducing 1,3-bis(m-aminophenyl)tetramethyldisiloxane, the imide group content is diluted, and a heat-resistant resin with less coloring and good adhesiveness can be obtained.

本発明が用いられる用途を具体的にあげると、
先ず各種電子機材の表面を保護するコート用塗膜
として、又その上に多層配線を行う耐熱絶縁膜と
して用いられる。
Specifically, the uses of the present invention are as follows:
First, it is used as a coating film to protect the surfaces of various electronic equipment, and as a heat-resistant insulating film for multilayer wiring on top of it.

例えば半導体、トランジスター、リニアーIC、
ハイブリツトIC、発光ダイオード、LSI、超LSI
などの電子回路用配線構造体である。
For example, semiconductors, transistors, linear ICs,
Hybrid IC, light emitting diode, LSI, super LSI
It is a wiring structure for electronic circuits such as.

次に、本発明になる耐熱性樹脂が淡色である事
により、液晶表示装置の配向膜としても使用でき
る。
Next, since the heat-resistant resin of the present invention is light-colored, it can also be used as an alignment film for liquid crystal display devices.

即ち、本発明の重合体溶液を、酸化スズや酸化
インジユウムを主成分とする透明導電膜の形成さ
れたガラス基板あるいはプラスチツクフイルム基
板に、浸漬法、回転塗布法、スプレー法、印刷法
などで塗布し、加熱硬化後、ラビング処理する。
ラビング方法は、ガーゼ、バフ研磨その他慣用の
手段を用いて行うことができる。本発明の配向膜
と組合せて使用できる液晶は、シツフ塩基型液
晶、フエニルシクロヘキサン型液晶、アゾキシ型
液晶、アゾ型液晶、ビフエニル型液晶、エステル
型液晶、フエニル・ピリミジン型液晶等のネマテ
イク液晶、上記のネマテイク液晶に旋光性物質、
コレステロール化合物、光学活性な置換基を有す
るビフエニル誘導体、フエニルベンゾエート等の
光学活性化合物を添加したコレステリツク型液晶
などがあげられる。
That is, the polymer solution of the present invention is applied to a glass substrate or a plastic film substrate on which a transparent conductive film containing tin oxide or indium oxide as a main component is formed by a dipping method, a spin coating method, a spray method, a printing method, etc. After heat curing, rubbing treatment is performed.
The rubbing method can be performed using gauze, buffing, or other conventional means. Liquid crystals that can be used in combination with the alignment film of the present invention include nemate liquid crystals such as Schiff base type liquid crystals, phenylcyclohexane type liquid crystals, azoxy type liquid crystals, azo type liquid crystals, biphenyl type liquid crystals, ester type liquid crystals, and phenyl-pyrimidine type liquid crystals; An optically active substance is added to the above nemate liquid crystal.
Examples include cholesteric liquid crystals containing optically active compounds such as cholesterol compounds, biphenyl derivatives having optically active substituents, and phenylbenzoate.

その他、高温用のコーテイングワニスとして、
電線被覆、マグネツトワイヤ、各種電気部品の浸
漬コーテイング、金属部品の保護コーテイングな
どとして用いられると共に含浸ワニスとしても、
ガラスクロス、溶融石英クロス、グラフアイト繊
維やボロン繊維の含浸に使用し、レーダードー
ム、プリント基板、放射性廃棄物収納容器、ター
ビン翼、高温性能と優れた電気特性を要する宇宙
船、その他の構造部品に使われ、またマイクロ波
の防止用放射線の防止用としてコンピユータなど
の導波管、原子機器、レントゲン機器の内装材と
しても使用される。
In addition, as a coating varnish for high temperatures,
It is used as a coating for electric wires, magnet wires, dip coatings for various electrical parts, protective coatings for metal parts, etc., and also as an impregnating varnish.
Used to impregnate glass cloth, fused silica cloth, graphite fibers, and boron fibers for radar domes, printed circuit boards, radioactive waste storage containers, turbine blades, spacecraft that require high-temperature performance and excellent electrical properties, and other structural parts. It is also used as an interior material for waveguides in computers, atomic equipment, and X-ray equipment to prevent microwaves and radiation.

また成形材料としてもグラフアイト粉末、グラ
フアイト繊維、二硫化モリブデンやポリ四フツ化
エチレンを添加して自己潤滑性の摺動面の製作に
用い、ピストンリング、弁座、ベアリング、シー
ル用などに用いられ、またガラス繊維、グラフア
イト繊維やボロン繊維を添加して、ジエツトエン
ジン部品、高強度の構造用成形部品などが作られ
る。
It is also used as a molding material to create self-lubricating sliding surfaces by adding graphite powder, graphite fiber, molybdenum disulfide, and polytetrafluoroethylene, and is used for piston rings, valve seats, bearings, seals, etc. It is also used to make jet engine parts, high-strength structural molded parts, etc. with the addition of glass fiber, graphite fiber, or boron fiber.

更に高温用接着剤として、電気回路部品の接着
や宇宙船の構造部品の接着用に用いられる。
Furthermore, it is used as a high-temperature adhesive for bonding electrical circuit parts and structural parts of spacecraft.

〔実施例〕〔Example〕

以下実施例により本発明を説明する。 The present invention will be explained below with reference to Examples.

実施例 1 温度計、撹拌機、原料仕込口及び乾燥窒素ガス
吹込口を備えた四ツ口のセパラブルフラスコに精
製した無水の2,8−ジアミノフエニレンオキサ
イド29.735g(15モル%)と2,4−ジアミノト
ルエン85.519g(70モル%)と、1,3−ビス
(m−アミノフエニル)テトラメチルジシロキサ
ン47.483g(15モル%)をとりこれに無水のN−
メチル−2−ピロリドン95重量%、トルエン5重
量%の混合溶剤を、全仕込原料中の固形分割合が
15重量%になるだけの量を加えて溶解した。乾燥
窒素ガスは、反応の準備段階より生成物取出しま
での全工程にわたり流しておいた。
Example 1 29.735 g (15 mol%) of purified anhydrous 2,8-diaminophenylene oxide and 2 , 85.519 g (70 mol%) of 4-diaminotoluene and 47.483 g (15 mol%) of 1,3-bis(m-aminophenyl)tetramethyldisiloxane were added to anhydrous N-
A mixed solvent of 95% by weight of methyl-2-pyrrolidone and 5% by weight of toluene was added to
An amount sufficient to make 15% by weight was added and dissolved. Dry nitrogen gas was kept flowing throughout the entire process from the preparatory stage of the reaction to the removal of the product.

次いで精製した無水の3,3′、4,4′−ベンゾ
フエノンテトラカルボン酸ジ無水物322.230g
(100モル%)を撹拌しながら少量づつ添加する
が、発熱反応であるため、外部水槽に約15℃の冷
水を循環させてこれを冷却した。添加後、内部温
度を20℃に設定し、12時間撹拌し、反応を終了し
た。
Then, 322.230 g of purified anhydrous 3,3',4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride
(100 mol %) was added little by little with stirring, but since it was an exothermic reaction, it was cooled by circulating cold water at about 15°C in an external water tank. After the addition, the internal temperature was set at 20°C and stirred for 12 hours to complete the reaction.

得られた生成物は、黄色透明の極めて粘稠なポ
リアミツク酸溶液であり、N−メチル−2−ピロ
リドン0.5重量%溶液の固有粘度は、0.80(30℃)
であつた。
The obtained product is a transparent yellow and extremely viscous polyamic acid solution, and the intrinsic viscosity of a 0.5% by weight solution of N-methyl-2-pyrrolidone is 0.80 (30°C).
It was hot.

次に、このポリアミツク酸をN−ジメチルアセ
トアミドで5重量%溶液としたものを、ガラス板
上に滴下し、スピンナーで400rpm/minで10秒
間続いて2000rpm/minで20秒間回転させ、均一
に塗布した。これを減圧下で80℃、150℃、250
℃、350℃で各30分間ずつ順次に加熱し、脱水閉
環させ、厚さ1μの淡黄色透明で強靭なポリイミ
ド樹脂フイルムを得た。このフイルムの赤外線吸
収スペクトルを見ると、1780cm-1及び730cm-1
イミド環に基づく強い吸収と、1200cm-1にフラン
環に基ずく強い吸収がみられた。
Next, a 5% by weight solution of this polyamic acid in N-dimethylacetamide was dropped onto a glass plate and spun at 400 rpm/min for 10 seconds and then 2000 rpm/min for 20 seconds using a spinner to spread it evenly. did. This was heated at 80℃, 150℃, and 250℃ under reduced pressure.
℃ and 350℃ for 30 minutes each to cause dehydration and ring closure to obtain a pale yellow transparent and tough polyimide resin film with a thickness of 1 μm. Looking at the infrared absorption spectrum of this film, strong absorption based on the imide ring was observed at 1780 cm -1 and 730 cm -1 and strong absorption based on the furan ring was observed at 1200 cm -1 .

このフイルムは極めて耐熱性が優れており、空
気中での熱分解開始温度は、示差熱天秤分析装置
での測定で昇温速度5℃/minで515℃であつた。
フイルム強度も大きく、200℃熱間での引張強度
は16Kg/mm2と優れたものであつた。又、フイルム
は淡色性に優れ、光透過率は400nmで93%であつ
た。更に、ガラス板上でのセロテープ引剥しテス
ト(JIS−D−2020)では、はがれ率0%と優れ
た接着性を有していた。
This film has extremely excellent heat resistance, and the thermal decomposition initiation temperature in air was 515°C at a heating rate of 5°C/min as measured by a differential thermal balance analyzer.
The film also had high strength, with an excellent tensile strength of 16 kg/mm 2 at 200°C. Furthermore, the film had excellent light color properties and a light transmittance of 93% at 400 nm. Furthermore, in a cellophane tape peeling test (JIS-D-2020) on a glass plate, the peeling rate was 0%, indicating excellent adhesion.

実施例 2 実施例1と同様な装置及び方法で、2,8−ジ
アミノジフエニレンオキサイド19.823g(10モル
%)と2,4−ジアミノトルエン61.085g(50モ
ル%)と4,4−ジアミノジフエニルエーテル
40.048g(20モル%)と、1,3−ビス(m−ア
ミノフエニル)テトラメチルジシロキサン63.310
g(20モル%)とを、3,3′、4,4′−ベンゾフ
エノンテトラカルボン酸ジ無水物161.115g(50
モル%)とピロメリツト酸ジ無水物109.060g
(50モル%)に反応させた。
Example 2 Using the same apparatus and method as in Example 1, 19.823 g (10 mol%) of 2,8-diaminodiphenylene oxide, 61.085 g (50 mol%) of 2,4-diaminotoluene, and 4,4-diaminodiphenylene oxide were prepared. diphenyl ether
40.048 g (20 mol%) and 63.310 g of 1,3-bis(m-aminophenyl)tetramethyldisiloxane
g (20 mol%) and 161.115 g (50 mol%) of 3,3',4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride.
mol%) and pyromellitic dianhydride 109.060g
(50 mol%).

得られた生成物は、黄色透明の極めて粘稠なポ
リアミツク酸溶液であり、固有粘度は0.78であつ
た。また得られたフイルムは淡黄色透明で強靭性
に富み、熱分解開始温度は510℃、熱間引張強度
は14Kg/mm2、光透過率は91%、セロテープはがれ
率は0%と優れたものであつた。
The obtained product was a transparent yellow and extremely viscous polyamic acid solution with an inherent viscosity of 0.78. The obtained film is pale yellow and transparent and has excellent toughness, with a thermal decomposition initiation temperature of 510℃, hot tensile strength of 14Kg/mm 2 , light transmittance of 91%, and cellophane tape peeling rate of 0%. It was hot.

比較例 1 実施例1と同様な装置及び方法で、2,4−ジ
アミノトルエン122.170g(100モル%)と3,
3′、4,4′−ベンゾフエノンテトラカルボン酸ジ
無水物322.230g(100モル%)とを反応させた。
Comparative Example 1 Using the same apparatus and method as in Example 1, 122.170 g (100 mol%) of 2,4-diaminotoluene and 3,
322.230 g (100 mol %) of 3',4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride was reacted.

得られたフイルムはかなり淡色性の優れたもの
であつたが熱分解開始温度は320℃しかなく、熱
間引張強度も5Kg/mm2であり、セロテープはがれ
率も95%と悪く到底ラビング作業に耐えるもので
はなかつた。
The obtained film had excellent light color property, but the temperature at which thermal decomposition started was only 320°C, the hot tensile strength was 5 kg/ mm2 , and the cellophane tape peeling rate was 95%, making it impossible to use in rubbing work. It was unbearable.

比較例 2 実施例1と同様な装置及び方法で、2,4−ジ
アミノトルエン97.736g(80モル%)と1,3−
ビス(m−アミノフエニル)テトラメチルジシロ
キサン63.310g(20モル%)と3,3′、4,4′−
ベンゾフエノンテトラカルボン酸ジ無水物
322.230g(100モル%)とを反応させた。
Comparative Example 2 Using the same apparatus and method as in Example 1, 97.736 g (80 mol%) of 2,4-diaminotoluene and 1,3-
63.310 g (20 mol%) of bis(m-aminophenyl)tetramethyldisiloxane and 3,3',4,4'-
Benzophenonetetracarboxylic dianhydride
322.230g (100 mol%) was reacted.

得られたフイルムは淡色性に優れ接着性も良か
つたが、熱分解開始温度が340℃しかなく、熱間
引張強度も5Kg/mm2しかなかつた。
The obtained film had excellent light color properties and good adhesion, but its thermal decomposition initiation temperature was only 340°C and its hot tensile strength was only 5 kg/mm 2 .

比較例 3 実施例1と同様な装置及び方法で2,8−ジア
ミノジフエレンオキサイド19.823g(10モル%)
と2,4−ジアミノトルエン109.953g(90モル
%)と3,3′、4,4′−ベンゾフエノンテトラカ
ルボン酸ジ無水物322.230g(100モル%)とを反
応させた。
Comparative Example 3 19.823 g (10 mol%) of 2,8-diaminodiphelene oxide was produced using the same apparatus and method as in Example 1.
and 109.953 g (90 mol %) of 2,4-diaminotoluene and 322.230 g (100 mol %) of 3,3',4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride were reacted.

得られたフイルムは、かなり淡色性に優れ、熱
分解開始温度も高く、熱間引張強度も強かつたが
セロテープはがれ率が100%と悪かつた。
The obtained film had excellent light color property, high thermal decomposition initiation temperature, and strong hot tensile strength, but the cellophane tape peeling rate was poor at 100%.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1 テトラカルボン酸ジ無水物とジアミンとより
なるポリイミド樹脂の製造方法において、テトラ
カルボン酸ジ無水物成分として、3,3′,4,
4′−ベンゾフエノンテトラカルボン酸ジ無水物を
20モル%以上含有し、ジアミン成分として、2,
8−ジアミノジフエニレンオキサイド、2,4−
ジアミノトルエン及び1,3−ビス(m−アミノ
フエニル)テトラメチルジシロキサンを各々0.5
〜50モル%、20モル%以上、0.1〜30モル%含有
し、テトラカルボン酸ジ無水物とジアミンとのモ
ル比を100:95〜105とし、0〜100℃の温度で反
応させることを特徴とする耐熱性樹脂の製造方
法。
1. In a method for producing a polyimide resin comprising a tetracarboxylic dianhydride and a diamine, as the tetracarboxylic dianhydride component, 3,3',4,
4′-benzophenonetetracarboxylic dianhydride
Contains 20 mol% or more, as a diamine component, 2,
8-diaminodiphenylene oxide, 2,4-
0.5 each of diaminotoluene and 1,3-bis(m-aminophenyl)tetramethyldisiloxane
~50 mol%, 20 mol% or more, 0.1 to 30 mol%, the molar ratio of tetracarboxylic dianhydride and diamine is 100:95 to 105, and the reaction is carried out at a temperature of 0 to 100 ° C. A method for producing a heat-resistant resin.
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Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61176632A (en) * 1985-02-01 1986-08-08 Sumitomo Bakelite Co Ltd Production of heat-resistant resin
JPS61181830A (en) * 1985-02-06 1986-08-14 Sumitomo Bakelite Co Ltd Production of heat-resistant resin
JPS61181831A (en) * 1985-02-06 1986-08-14 Sumitomo Bakelite Co Ltd Production of heat-resistant resin
JPS61181827A (en) * 1985-02-06 1986-08-14 Sumitomo Bakelite Co Ltd Production of heat-resistant resin
JP2605176B2 (en) * 1989-11-22 1997-04-30 三井東圧化学株式会社 Method for producing polyimide
JP2978990B2 (en) * 1992-11-25 1999-11-15 セントラル硝子株式会社 Method for producing polyamic acid solution

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61176632A (en) * 1985-02-01 1986-08-08 Sumitomo Bakelite Co Ltd Production of heat-resistant resin
JPS61181831A (en) * 1985-02-06 1986-08-14 Sumitomo Bakelite Co Ltd Production of heat-resistant resin
JPS61181830A (en) * 1985-02-06 1986-08-14 Sumitomo Bakelite Co Ltd Production of heat-resistant resin
JPS61181827A (en) * 1985-02-06 1986-08-14 Sumitomo Bakelite Co Ltd Production of heat-resistant resin
JPS6353210A (en) * 1986-08-22 1988-03-07 Sumitomo Metal Ind Ltd Method for improving stress corrosion cracking resistance of stainless steel
JPS6366852A (en) * 1986-09-09 1988-03-25 Shin Kobe Electric Mach Co Ltd Manufacture of electrode for lead acid battery

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2820683B2 (en) * 1987-07-31 1998-11-05 ランデス株式会社 Compression joining device for concrete members

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61176632A (en) * 1985-02-01 1986-08-08 Sumitomo Bakelite Co Ltd Production of heat-resistant resin
JPS61181831A (en) * 1985-02-06 1986-08-14 Sumitomo Bakelite Co Ltd Production of heat-resistant resin
JPS61181830A (en) * 1985-02-06 1986-08-14 Sumitomo Bakelite Co Ltd Production of heat-resistant resin
JPS61181827A (en) * 1985-02-06 1986-08-14 Sumitomo Bakelite Co Ltd Production of heat-resistant resin
JPS6353210A (en) * 1986-08-22 1988-03-07 Sumitomo Metal Ind Ltd Method for improving stress corrosion cracking resistance of stainless steel
JPS6366852A (en) * 1986-09-09 1988-03-25 Shin Kobe Electric Mach Co Ltd Manufacture of electrode for lead acid battery

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