JPS61166925A - コイルばね熱処理の方法及び装置 - Google Patents

コイルばね熱処理の方法及び装置

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JPS61166925A
JPS61166925A JP60228545A JP22854585A JPS61166925A JP S61166925 A JPS61166925 A JP S61166925A JP 60228545 A JP60228545 A JP 60228545A JP 22854585 A JP22854585 A JP 22854585A JP S61166925 A JPS61166925 A JP S61166925A
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JP
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current
coil spring
heat treatment
current pulses
pulse
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JP60228545A
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ヤン ステフアン ラルソン
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TECHNO DETARUIERU RINDOSUTOROO
Techno Detaruieru Rindosutoroomu & Waerume AB
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TECHNO DETARUIERU RINDOSUTOROO
Techno Detaruieru Rindosutoroomu & Waerume AB
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Publication date
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    • C21METALLURGY OF IRON
    • C21DMODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
    • C21D9/00Heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering, adapted for particular articles; Furnaces therefor
    • C21D9/02Heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering, adapted for particular articles; Furnaces therefor for springs
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C21METALLURGY OF IRON
    • C21DMODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
    • C21D1/00General methods or devices for heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering
    • C21D1/34Methods of heating
    • C21D1/40Direct resistance heating
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05BELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B3/00Ohmic-resistance heating
    • H05B3/0004Devices wherein the heating current flows through the material to be heated
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05BELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B3/00Ohmic-resistance heating
    • H05B3/0019Circuit arrangements
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  • Organic Chemistry (AREA)
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、コイルばねのおのおのに対し個別の電気抵抗
加熱処理を行うコイルばねの熱処理方法に関する。
更に詳述すれば、本発明は、2個の電極間にコイルばね
を配置し、コイルばねの両端を前記電極に対し圧力をも
って接触させること、前記電極を経てコイルばねを通る
一連の電流パルスを供給すること、各電流パルスには正
弦波の半波の一部分の一般的形状をもたせること、各電
流パルスに対応する正弦波の半波の振幅の大きさを求め
ること、及び求められた振幅の大きさに従いコイルばね
に供給される全エネルギを制御することの各工程を含む
ような方法に関する。
(従来の技術と発明が解決しようとする問題点)従来技
術においては、上記の一連の電流パルスのすべての電流
パルスは、同一のパルス幅(パルス継続期間)を持って
おり、かつ、コイルばねに供給される全エネルギは、コ
イルばねのおのおのに個別に供給される電流パルスの数
を変えることによって制御されていた。しかしながら、
実際上、そのようにコイルばねのおのおのに対する電気
エネルギの全供給量を制御する方法は、コイルばねの熱
処理に要する全体の時間が、熱処理を施すべき各一連の
コイルばねの中の一つ一つのコイルばねごとに変るため
、好ましくないことが判明した。
(発明の目的並びに目的を達成するための手段及び作用
) 本発明の目的は、前述したような改良された方法であっ
て、一連の同一形式のコイルばねのすべてについて、コ
イルばねのおのおのに対する全熱処理時間を一定値に保
つことを可能にする方法を提供することである。
本発明によれば、上記の目的のために、上記コイルばね
を通り、所定の一定数の、低い初期値を有する電流パル
スを供給し、かつ、前記の求められた振幅の大きさに従
って各電流パルスのパルス幅を変化させることを主な特
徴とする方法が提案される。
低い初期値をもつ電流パルス、すなわち、正弦波の半波
の開始点近くから立上る電流パルスを利用し、かつ、求
められた正弦波半波の振幅の太きさに従って各電流パル
スのパルス幅を変化することにより、一連の同一形式の
コイルばねのすべてに対して電流パルスの数を一定に保
ち、コイルばねのおのおのに供給される全エネルギを広
い範囲内で変えることができる。
電流パルスのおのおのに対応する正弦波の半波の振幅を
求めるためには、前記振幅そのものを決定する必要はな
い。むしろ前記の振幅を求めることは、各電流パルスが
その低い初期値から所定のより高い値に達するまでの立
上り時間を決定することにより行うことが好ましい。各
電流パルスのパルス幅は、前記の決定された立上り時間
に従って変えることができるが、より好ましいやり方と
しては、前記立上り時間の異なる値に対して必要とされ
る電流パルスのパルス幅を表わす記憶された情報を利用
することにより、前記立上り時間の終了とともに、各N
8!パルスに対する所要の継続期間を適当に決定するこ
とができる。
本発明は、また、コイルばねのおのおのに対し個別の電
気抵抗加熱処理を行うためのコイルばね熱処理装置にも
関する。そして、その装置は、2個の電極の間にコイル
ばねを配置し、コイルばねの両端を前記両電極に対し圧
力をもって妾触させるような前記の2個の電極が前記両
電極に接続され、前記両電極を介してコイルばねを流れ
る一連の電流パルスであって各電流パルスが正弦波の半
波の一部分の一般的形状を有する一連の電流パルスを供
給するように配設された電流供給装置、前記′Ii流供
給装置に接続され、各電流パルスに対応する正弦波の半
波の振幅を求めるように配設された電流評価装置、及び
航記電流供給装置及び前記電流評価装置に接続され、前
記電流計l1Ii装置によって求められた振幅の大きざ
に従って前記電流供給装置からコイルばねに供給される
全エネルギを制御するように配設された制御装置を包含
する。
本発明によるコイルばね熱処理装置においては、前記制
御装置が、前記電流供給装置を制御することによりコイ
ルばねを通り低い初期値を有する所定数の電流パルスを
供給させ、更に、前記電流評価装置によって求められる
振幅の大きさに従って各電流パルスのパルス幅を制御す
るように配設されたことが主な特徴である。
以下、添附図面を参照して本発明の詳細な説明する。
(実施例) 第1図に示した装置は、電流供給装置10、電流評価装
置11及び制御装置12を含む。
M流供給装置10は、変圧器13を含む。この変圧器の
一次巻線は、例えば、220ボルト、50Hzの交流電
圧を供給する主電源に接続されている。変圧器13の二
次巻線は、全波整流器14に接続されている。全波整流
器14は、その2個の出力端子15と16との間に、第
2a図に示したような脈動直流電圧■14を発生する。
端子15と16とから、前記電圧■14が平均値指示電
流計17、トランジスタ18、並びに2個の電極19及
び20を含む回路に供給される。その電極19と20と
の間には、コイルばね21が第1図に示したように配置
され、コイルばね21の端部のおのおのは、前記電極の
一つに圧力をもって接触している。
コイルばね21は、前記両電極19及び20の間に順次
に一度に一個置かれる複数個のばね受容室を備えた自動
回転ばね保持装置によって、N極19と20との間に置
かれることが好ましい。電極19は、適当に静止して取
付けられるが、電極20は、電極19に対し限定された
移動が可能で、フィルばねを所定の長さに圧縮するよう
に、コイルばね21の上端に接触可能なように取付けら
れる。参照符号41は、可動電極20によって駆動され
る一つのスイッチを示す。電極20によって駆動されな
いときは、スイッチ41は開放状態におかれる。電極2
oがコイルばね21に接触し、コイルばね21を所定の
長さに圧縮すると同時に、スイッチ41は閉じられる。
電流評価装置11は、2個の比較器22及び23を含み
、それらの比較器は、それぞれ、基準電圧入力22a及
び23a1ならびに試験電圧入力22b及び23bを備
える。比較器22の基準電圧入力22aは、ポテンシオ
メータ24より講整可能な直流基準電圧を供給され、比
較器23の基準電圧入力23aは、互いに直列に接続さ
れた2個の抵抗25及び26からなる分圧器から一定の
直流基準電圧の供給を受ける。
比較器22の試験電圧入力22bは、抵抗43を負荷と
して、変圧器13と全波整流器14との間の電力供給線
に接続された変流器28から給電される全波整流器27
の出力端に接続されている。
従って、比較器22の入力22bには、第2b図に示し
たような脈動電圧v2□が供給される。各瞬間において
、前記電圧■27は、ばね21を通過する電流に比例す
る。
比較器23の試験電圧入力23bは、平均値指示電流計
17とトランジスタ18との間の接続線に接続される。
参照符号29は、前記トランジスタと並列に接続される
高い抵抗値の抵抗を示す。
トランジスタ18のベースは、制御装置12の制御信号
出力3oに接続されている。制御装置112は、また、
2個の比較器22及び23のそれぞれの出力に接続され
た2個の制御装置人力31及び32を備え、また、スイ
ッチ41に接続された他の制御装置人力42をも備えて
いる。
制御装置12は、双安定フリップフロップ33を含み、
この双安定フリップ70ツブ33は、ANDゲート40
を介して制御装置人力32に接続された一つのセット入
力と、制御信号出力3゜に接続された一つの出力とを儀
える。1lltll装置12は、また、り0ツクパルス
発生器35に接続されたクロックパルス入力を有するア
ップカウンタ34と、双安定フリップフロップ33の出
力に接続されたいま一つの制御装置入力とを含んでいる
。アップカウンタ34は、読取り専用記憶装置(ROM
)36に対するアドレス指定装置として動作するもので
あり、この目的のために、その出力はROM36のアド
レス入力に接続されている。
ROM36のデータ出力は、クロックパルス入力を有す
るダウンカウンタ37のデータ入力に接続□ されている。ダウンカウンタ37は、クロックパルス発
生器35に接続されたクロックパルス入力と、l1II
ll装置人力31に接続されたロードパルス入力と、双
安定フリップ70ツブ33のリセット入力に接続された
一つの出力とを備えている。ダウンカウンタ37の出力
は、また、循還カウンタ(サイクリックカウンタ)38
の入力にも接続される。循還カウンタ38の出力は、双
安定フリップフロップ39のリセット入力に接続され、
双安定フリップフロップ39のセット入力は、制御装置
人力42に接続されている。双安定フリツプフロツプ3
9の出力は、ANDゲート4oの一つの入力に接続され
、ANDゲート40の他のへカは、前述のように制御@
置入力32に接続されている。
ANDゲート40の出力は、前述のように7リツプフロ
ツプ33のセット入力に接続されている。
上記の装置の作用を以下に説明する。
スイッチ41が閉じられると、双安定フリップフロップ
39がセットされ、論理値「1」を表わす出力信号をA
NDゲート4oに送給する。それにより、制御l装置1
2は、それぞれ人力31及び32より供給される比較器
22及び23の出力信号の制御の下に動作するための準
備ができ上る。
それまでリセット状態にあった双安定フリップ70ツブ
33は、ANDゲート40から論理値「1」を表わす信
号を受取ると、直ちにセット状態に変化する。このこと
は、第2a図に示したように、全波整流器14からの出
力電圧V14が、抵抗26の両端間にその上端を高電位
端として現われる基準電圧■ を時刻t1において超過
するや否や、比較器23が対応する出力信号を発生する
ときに起きる。第一2a図に示したように、基準電圧■
26は、出力電圧■14の振幅に比べて極めて低い値を
もつことに注意すべきである。
前記時刻t1において、以前にクリアされていたアップ
カウンタ34は、双安定フリップ70ツブ33からil
l III信号の供給を受け、そのクロックパルス入力
にクロックパルス発生器35からのクロックパルスが供
給されるたびに1ステツプのカウントを開始する。クロ
ックパルス発生器35は、土竜m電圧の周波数と比べて
より高い周波数をもつ連続した一連のクロックパルスを
発生する。それにより、アップカウンタ34は、ROM
36の記憶場所に対し継続的なアドレス指定を開始して
、ROM36の記憶場所に恒久的に記憶された異なる値
が、ダウンカウンタ37のデータ入力において引続き利
用できるようにする。しかしながら、上記のROM36
に記憶された異なる値は、ダウンカウンタ37が比較器
22からロードパルスの供給を受けるまでは、ダウンカ
ウンタ37にはロードされない。
双安定フリップフロップ33がセットされるとき発生す
る双安定フリップ70ツブ33の出力信号は、また、ト
ランジスタ18のベースに送給される。それにより、ト
ランジスタ18は非導通状態から導通状態に変化する。
これは、時刻t1において、全波整流器14がコイルば
ね21を通る電流を流し始めることを意味する。全波整
流器27は変流器28を通り給電されるので、全波整流
器27は同時に上記の電流に比例した電圧■27を比較
器22の試験電圧入h22bへ印加するようになる。上
記の電圧■27は、低い初期値から正弦波曲線に従って
次第に増大する。
第2b図に示したように、時刻t2において、全波整流
器27の出力電圧V27が、ポテンシオメータ24によ
ってセットされた基準電圧v24に達すると、比較器2
2は出力信号をダウンカウンタ37に送給し、それはダ
ウンカウンタ37に対するロードパルスとして作用する
ので、ROM36に記憶されていた値を瞬時にダウンカ
ウンタ37のデータ入力に転送しダウンカウンタ37の
中にロードさせる。すると、ダウンカウンタ37は、り
Oツクパルス発生器35から供給されるクロックパルス
の制御の下に、上記の転送された値から零に向かってカ
ウントダウンを開始する。
第2b図に示した時間t3において、ダウンカウンタ3
7は零までカウントダウンを完了するので、ダウンカウ
ンタ37は出力パルスを双安定フリップフロップ33の
リセット入力に送り、それにより双安定フリップフロッ
プ33をリセットさせる。そのときフリップ70ツブ3
3の出力信号は変化するので、トランジスタ18を非導
電状態に変える。そのとき同時に、アップカウンタ34
はクリアされる。ダウンカウンタ37よりの出力パルス
は、同時に循還カウンタ38にも送られ、循還カウンタ
38に1ステツプのカウントを行わせる。
上記のサイクルに対応した新しいサイクルが、全波整流
器14からの出力電圧■14の次の半周期内において、
先の時刻t1に対応する時点において開始される。第2
a図かられかるように、全波整流器14の出力電圧は連
続した正弦波の半波からなる。各サイクルの終りにおい
て、循還カウンタ38は1ステツプのカウントをする。
例えば50ステツプの容量を有する循還カウンタ38が
その最終ステップに達すると、その出力信号を双安定フ
リップ70ツブ39のリセット入力に送給し、双安定フ
リップフロップ39をリセットする。
これにより、双安定フリップフロップ39の出力に接続
されたANDゲート40の入力は論理値「0」に対応し
た入力信号を受取るが、このことは、双安定フリップフ
ロップ39が再度セット状態に変わらないかぎり、新し
いサイクルは比較器23により開始されないことを意味
する。ただし、コイルばね21が他のコイルばねに取替
えられることによりスイッチ41が閉じられ、双安定フ
リップフロップ39のセット信号が制御装置入力42に
送られるまでは、再び双安定フリップフロップ39がセ
ットされることはない。
循還カウンタ38からの出力信号は、また、電極20を
持ち上げること、電極19と20との間に新しいコイル
ばね21を供給すること、更にその新しいコイルばねに
対し圧力をもって接触するように電極20を降下させる
ことに対し必要とされる装置を駆動するためにも利用可
能である。
ROM36に記憶される値としては、第2b図に示した
時刻t1における低い電圧の初期値から、時刻t にお
ける基準電圧■24に対応する所定のより高い電圧値に
達するまでのパルスの異なった立上り時間の経過後にお
いて、コイルばね21を通流する電流パルスのおのおの
に必要とされる継続期間を表わす実験的に定めた値を用
いることが有利である。
ある形式のコイルばねの処理から他の形式のコイルばね
の処理に移行する場合には、単にポテンシオメータ24
を調節して平均値指示電流計17により読み取られる加
熱電流の平均値を適当な値にすることにより、新しい形
式のコイルばねの適当な加熱を行なうように、本発明装
置は容易に調節することが可能である。
上述の本発明の方法及び装置の説明は、コイルばねの熱
処理について行なわれたが、他の形式のばねの熱処理に
対しても適用できることは明らかである。
(発明の効果) 本発明によれば、コイルばねのおのおのの熱処理を一定
時間内に行う方法及び装置が得られる。
それにより、従来技術と比較し、一連の同一形式のコイ
ルばねのおのおのの、熱処理時間を一定時間に保つこと
ができ、それによりそれらのコイルばねの熱処理時間の
合計を短縮することができる。
また、コイルばねのおのおのに供給される全エネルギを
容易に広範囲に変えることができるので、熱処理すべき
コイルばねの形式が変わるときの装置の調節がきわめて
容易になる。かくして、本発明によれば、コイルばねの
熱11!!理作業の作業能率を増進することができ、ま
た、熱処理されたコイルばねの品質の均一性を保つため
にもすぐれた効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明の一実施例の装置を例示したブロック
図である。 第2a図及び第2b図は、それぞれ前記装置の中で発生
された二つの異なる電圧を時間の関数として表わした特
性図である。 (符号の説明) 10・・・・・・・・・電流供給装置、11・・・・・
・・・・電流評価装置、12・・・・・・・・・制御装
置、 13・・・・・・・・・変圧器、          
   )14・・・・・・・・・全波整流器、 17・・・・・・・・・平均値指示電流計、18・・・
・・・・・・トランジスタ、19.20・・・・・・・
・・電極、 21・・・・・・・・・コイルばね、 22.23・・・・・・・・・比較器、24・・・・・
・・・・ポテンシオメータ、25.26.29.43・
・・・・・・・・抵抗、27・・・・・・・・・全波整
流器、 28・・・・・・・・・変流器、 33.39・・・・・・・・・双安定フリップフロップ
、34・・・・・・・・・アップカウンタ、35・・・
・・・・・・クロックパルス発生器、36・・・・・・
・・・ROM(読取り専用記憶装置)、37・・・・・
・・・・ダウンカウンタ、38・・・・・・・・・循還
カウンタ、40・・・・・・・・・ANDゲート、41
・・・・・・・・・スイッチ。

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)コイルばねのおのおのに対し個別の電気抵抗加熱
    処理を行うコイルばねの熱処理方法であつて、コイルば
    ねを2個の電極のそれぞれに対し、圧力が加えられるよ
    うにばねの両端を接触させて前記両電極間に配置するこ
    と、各電流パルスが正弦波の半波の一部分の一般的形状
    を有する一連の電流パルスを、前記両電極を経て前記ば
    ねを通るように印加すること、 各電流パルスに対応する正弦波の半波の振幅の大きさを
    決定すること、及び前記の決定された振幅の大きさに従
    い前記ばねに供給される全エネルギを制御することの各
    工程を含み、前記ばねを通り所定数の低い初期振幅値を
    有する電流パルスを供給し、前記の決定された振幅の大
    きさに従つて各電流パルスのパルス幅を変化させること
    を特徴とするコイルばね熱処理方法。
  2. (2)特許請求の範囲第1項の方法において、前記電流
    パルスのおのおのの、低い初期値から所定のより高い値
    に達するまでの立上り時間を決定し、前記立上り時間に
    従つて前記電流パルスのおのおののパルス幅を変化させ
    ることを特徴とするコイルばね熱処理方法。
  3. (3)特許請求の範囲第2項の方法において、異なる値
    の前記立上り時間に対する所要の電流パルス幅を表わす
    記憶情報に従い、前記電流パルスのおのおののパルス幅
    を変化させることを特徴とするコイルばね熱処理方法。
  4. (4)特許請求の範囲第3項の方法において、前記立上
    り時間の終了とともに、前記電流パルスのおのおのの所
    要の継続期間を画定するための記憶情報に従い、前記電
    流パルスのおのおののパルス幅を変化させることを特徴
    とするコイルばね熱処理方法。
  5. (5)各コイルばねに対し個別の電気抵抗加熱処理を行
    うコイルばねの熱処理装置において、2個の電極の間に
    配置されるばねの両端が圧力を加えられて接触する前記
    2個の電極、前記両電極に接続され、かつ、各電流パル
    スが正弦波半波の一部分の一般的形状を有する一連の電
    流パルスを、前記両電極を経て前記ばねを通るように印
    加する電流供給装置、前記電流供給装置に接続され、か
    つ、各電流パルスに対応する正弦波の半波の振幅の大き
    さを決定するように配設された電流評価装置、並びに、
    前記電流供給装置及び前記電流評価装置に接続され、か
    つ、前記電流評価装置による前記の振幅の大きさの決定
    に従い前記電流供給装置から前記ばねに供給される全エ
    ネルギを制御するように配設された制御装置とを備えて
    おり、前記制御装置は、前記ばねを通る所定数の低い初
    期振幅値を有する電流パルスを電流供給装置から供給さ
    せ、更に、前記電流評価装置による前記の振幅の大きさ
    の決定に従い前記電流パルスのおのおののパルス幅を制
    御するようにされていることを特徴とするコイルばね熱
    処理装置。
  6. (6)特許請求の範囲第5項の装置において、前記電流
    評価装置は、前記電流パルスのおのおのの低い初期値か
    ら所定のより高い値に達するまでの立上り時間を決定す
    るように配設されており、また、前記制御装置は、前記
    立上り時間に従い前記電流パルスのおのおののパルス幅
    を制御するように配設されていることを特徴とするコイ
    ルばね熱処理装置。
  7. (7)特許請求の範囲第6項の装置において、前記制御
    装置は、異なる値の前記立上り時間に対する所要の電流
    パルス幅を表わす記憶情報に従い、前記電流パルスのお
    のおののパルス幅を制御するように配設されていること
    を特徴とするコイルばね熱処理装置。
  8. (8)特許請求の範囲第7項の装置において、前記の記
    憶情報は、前記立上り時間の終了とともに、前記電流パ
    ルスのおのおのの所要の継続期間を画定するように構成
    されたことを特徴とするコイルばね熱処理装置。
JP60228545A 1984-10-15 1985-10-14 コイルばね熱処理の方法及び装置 Pending JPS61166925A (ja)

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