JPS61143702A - 光学系の製作方法 - Google Patents
光学系の製作方法Info
- Publication number
- JPS61143702A JPS61143702A JP59266027A JP26602784A JPS61143702A JP S61143702 A JPS61143702 A JP S61143702A JP 59266027 A JP59266027 A JP 59266027A JP 26602784 A JP26602784 A JP 26602784A JP S61143702 A JPS61143702 A JP S61143702A
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- JP
- Japan
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- base material
- irradiated
- laser beam
- refractive index
- laser
- Prior art date
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- Pending
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- Laser Beam Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔技術分野〕
本発明はレンズ、光ファイバ等の光学系をガラス、セラ
ミックス、合成樹脂等を基素材として製作する方法に関
する。
ミックス、合成樹脂等を基素材として製作する方法に関
する。
（従来技術）
従来、ガラス等の基素材に添加物をその構造の中に取り
込み、屈折率を連続的に変化させる技術が利用され、例
えば、光ファイバを作る場合、ＧｅＯ２、又はＰ２Ｏ−
を添加したＳｉＯ２が芯部で外周部は無添加のＳｉ ０
２とし、又は芯部が高純度のＳｉＯ２で外周部が８２０
３を添加した５（０２とした如くである。
込み、屈折率を連続的に変化させる技術が利用され、例
えば、光ファイバを作る場合、ＧｅＯ２、又はＰ２Ｏ−
を添加したＳｉＯ２が芯部で外周部は無添加のＳｉ ０
２とし、又は芯部が高純度のＳｉＯ２で外周部が８２０
３を添加した５（０２とした如くである。
光ファイバの中心の屈折率を高くして、外周部に向かう
に従って屈折率を低くしておくと、光は中心部に向かお
うとする集束性が現われ、光通信用として利用される。
に従って屈折率を低くしておくと、光は中心部に向かお
うとする集束性が現われ、光通信用として利用される。
しかしながら、このような添加物の調節によって屈折率
を制御する方式では、その制御が難しく、しかも部分的
に連続的に制御することは製作を極めて困難にし、精密
なものを得るのが極めて難しい。
を制御する方式では、その制御が難しく、しかも部分的
に連続的に制御することは製作を極めて困難にし、精密
なものを得るのが極めて難しい。
本発明は従来の不純物の添加方式とは全く異なった熱歪
みを与えることにより屈折率を変化制御できる特性を利
用したもので、レーザビームをＮＣ１ｌｉｌＪ ｔ［Ｉ
Ｌ、て照射し処理するようにしたことを特徴とする。
みを与えることにより屈折率を変化制御できる特性を利
用したもので、レーザビームをＮＣ１ｌｉｌＪ ｔ［Ｉ
Ｌ、て照射し処理するようにしたことを特徴とする。
以下図面の一実施例により本発明を説明する。
１はガラス、合成樹脂の基素材の板で、回転テーブル２
に固定される。３はテーブル２を回転駆動するモータ、
４はモータ３を支持するテーブル、５はテーブル４を回
転軸と直角にピッチ送りする駆動モータ、６がプログラ
ムに従ってモータ３．５を駆動制御するＮＧ制ｍ＋装置
である。７はＹＡＧ等のレーザ発撮器、８は反射鏡、１
０は集束レンズで、集束レーザビーム１０は基材面に直
角に照射される。
に固定される。３はテーブル２を回転駆動するモータ、
４はモータ３を支持するテーブル、５はテーブル４を回
転軸と直角にピッチ送りする駆動モータ、６がプログラ
ムに従ってモータ３．５を駆動制御するＮＧ制ｍ＋装置
である。７はＹＡＧ等のレーザ発撮器、８は反射鏡、１
０は集束レンズで、集束レーザビーム１０は基材面に直
角に照射される。
利用する基素材１にはガラスの他に、ｐｖｃ。
ＰＳ、ＡｓｌＰＭＭＡ、ＰＣ，ＣＲ３９等の透明な合成
樹脂が任意に用いられる。それらの光、熱的特性は次表
のようである。
樹脂が任意に用いられる。それらの光、熱的特性は次表
のようである。
屈折率 熱膨張係数 熱伝導度
ｔｙｎ／ｃｍｌ’ｃ×１５−５Ｋｃａｌ／ｍ、ｈ、℃ガ
ラス １．５２ ０．８ ０．９Ｐ
Ｃ−１，５８５６，５０，２ ＴＰＸ １，４６６ １２ ０，１
４ＰＳ １゜５９ ７ ０，１４
ＰＶＣ１，５３７，５０，１４ ＣＲ−３９１，５０４１５０，１８ これらのガラス、合成樹脂は等方性であり、透明性であ
り、光を良く通過させる性質を有する。
ラス １．５２ ０．８ ０．９Ｐ
Ｃ−１，５８５６，５０，２ ＴＰＸ １，４６６ １２ ０，１
４ＰＳ １゜５９ ７ ０，１４
ＰＶＣ１，５３７，５０，１４ ＣＲ−３９１，５０４１５０，１８ これらのガラス、合成樹脂は等方性であり、透明性であ
り、光を良く通過させる性質を有する。
これを基材１として回転テーブル２に固定する。
一方し−ザ発撮器１として、一般に利用する、波長が短
＜ （１，０６μ）、良く絞れるＹＡＧレーザを用いる
。
＜ （１，０６μ）、良く絞れるＹＡＧレーザを用いる
。
Ｎ Ｃ１ｌｉｌＪ ｉｌｌ装置６によってモータ３を回
転し、テーブル上の基材１を回転し、レーザビーム１０
を照射する。又、１回転毎にＮ ＣＩＩＩ Ｉｌｌによ
ってモータ５を駆動しピッチ送りを与え、基材１上のレ
ーザビーム１０照射点を同心円を画くように走査する。
転し、テーブル上の基材１を回転し、レーザビーム１０
を照射する。又、１回転毎にＮ ＣＩＩＩ Ｉｌｌによ
ってモータ５を駆動しピッチ送りを与え、基材１上のレ
ーザビーム１０照射点を同心円を画くように走査する。
同心各日の走査速度及びピッチ間隔等はＮＣ制御装置６
によりプログラムに従って行なわれ、正確に目的のパタ
ーンで走査し、処理することができる。レーザ照射によ
る熱的衝撃によって照射された基材部分に熱歪、みが残
り、これにより基材の照射部分の屈折率が変化し、処理
パターンに対応した屈折率を出現し、集光性、放射性等
レンズ効果を出現させることができる。
によりプログラムに従って行なわれ、正確に目的のパタ
ーンで走査し、処理することができる。レーザ照射によ
る熱的衝撃によって照射された基材部分に熱歪、みが残
り、これにより基材の照射部分の屈折率が変化し、処理
パターンに対応した屈折率を出現し、集光性、放射性等
レンズ効果を出現させることができる。
即ち、処理前の基材１は等方性を有するが、前記装置に
よって回転同心円状にレーザビーム１０の照射処理をし
、ＮＣＩＩＪ＠によって中心部と外周部との走査速度に
より強度を変え、同心円ピッチを変えて照射密度を変え
る制御を行なうことによって、中心部分の屈折率を高め
、外周部の屈折率を゛低くすれば光集束のレンズ効果が
現われ、反対に中心の屈折率を小さく外周の屈折率を高
くするように処理すれば光を放射するレンズ効果を出現
させることができる。
よって回転同心円状にレーザビーム１０の照射処理をし
、ＮＣＩＩＪ＠によって中心部と外周部との走査速度に
より強度を変え、同心円ピッチを変えて照射密度を変え
る制御を行なうことによって、中心部分の屈折率を高め
、外周部の屈折率を゛低くすれば光集束のレンズ効果が
現われ、反対に中心の屈折率を小さく外周の屈折率を高
くするように処理すれば光を放射するレンズ効果を出現
させることができる。
例えば、レーザにＹＡＧレーザのｔＯ’Ｗ／ｃｍ２のエ
ネルギ密度で基材へのビーム照射径を６μとし、基材に
ＣＲ−３９を用い回転させながら同心円状の処理をして
フレネルレンズを作ったとき、全体としてレンズ効果を
現わし平行光線が得られた。
ネルギ密度で基材へのビーム照射径を６μとし、基材に
ＣＲ−３９を用い回転させながら同心円状の処理をして
フレネルレンズを作ったとき、全体としてレンズ効果を
現わし平行光線が得られた。
以上の実施例は回転走査により同心円状の処理をする例
について説明したが、ＮＣ制御によって四角、三角、或
いは異形状の任意パターンの走査処理をすることができ
、任意のレンズ効果体が容易に得られる効果がある。又
、その形状大きさはＮＣ制御によって大型のものから小
型まで任意に得られ、走査の速度、ピッチ等を極めて正
確に制御できる。又、レーザビームは半導体レーザを使
用することによってパルス化制御でき、又、エネルギ制
御をすることができるから、基材に対する走査照射位置
によってエネルギ制御し、屈折率を部分的に任意に制御
することができる。
について説明したが、ＮＣ制御によって四角、三角、或
いは異形状の任意パターンの走査処理をすることができ
、任意のレンズ効果体が容易に得られる効果がある。又
、その形状大きさはＮＣ制御によって大型のものから小
型まで任意に得られ、走査の速度、ピッチ等を極めて正
確に制御できる。又、レーザビームは半導体レーザを使
用することによってパルス化制御でき、又、エネルギ制
御をすることができるから、基材に対する走査照射位置
によってエネルギ制御し、屈折率を部分的に任意に制御
することができる。
（効果〕
以上のように本発明は基材に対してレーザビームを照射
して屈折率を変更する処理をするものであるから、従来
の添加物を混合するものに比べて極めて簡単であり、又
、本発明はレーザビーム照射処理をＮＣ制御によりプロ
グラムに従って基材部分に走査して与えるので、小型の
ものから大型のものまで、処理走査密度を密にしたり疎
にしたり制御し、又、同心円状以外の異形状の任意パタ
ーンに任意に処理することができ、且つ正確な処理制御
により目的とする屈折率に処理してレンズ効果を出現さ
せることができ、各種目的のレンズ、光ファイバ等を容
易に製作することができる。
して屈折率を変更する処理をするものであるから、従来
の添加物を混合するものに比べて極めて簡単であり、又
、本発明はレーザビーム照射処理をＮＣ制御によりプロ
グラムに従って基材部分に走査して与えるので、小型の
ものから大型のものまで、処理走査密度を密にしたり疎
にしたり制御し、又、同心円状以外の異形状の任意パタ
ーンに任意に処理することができ、且つ正確な処理制御
により目的とする屈折率に処理してレンズ効果を出現さ
せることができ、各種目的のレンズ、光ファイバ等を容
易に製作することができる。
図面は本発明の一実施例装置の構成図である。
１・・・・・・・・・基材
２・・・・・・・・・回転テーブル
３・・・・・・・・・回転モータ
４・・・・・・・・・テーブル
５・・・・・・・・・駆動モータ
６・・・・・・・・・ＮＣｌ１ｉｌｌｔｌｌ装置７・・
・・・・・・・レーザ発振器 ８・・・・・・・・・反射鏡 ９・・・・・・・・・レンズ １０・・・・・・・・・ビーム 特 許 出 願 人 株式会社井上ジャパックス研究所 代表者 井 上 潔
・・・・・・・レーザ発振器 ８・・・・・・・・・反射鏡 ９・・・・・・・・・レンズ １０・・・・・・・・・ビーム 特 許 出 願 人 株式会社井上ジャパックス研究所 代表者 井 上 潔
Claims (1)
- 基材に対してレーザビームを照射して屈折率を変更する
処理を、ＮＣ制御によりプログラムに従って前記基材の
部分に走査して与えることを特徴とする光学系の製作方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59266027A JPS61143702A (ja) | 1984-12-17 | 1984-12-17 | 光学系の製作方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59266027A JPS61143702A (ja) | 1984-12-17 | 1984-12-17 | 光学系の製作方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61143702A true JPS61143702A (ja) | 1986-07-01 |
Family
ID=17425367
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59266027A Pending JPS61143702A (ja) | 1984-12-17 | 1984-12-17 | 光学系の製作方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61143702A (ja) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS522628A (en) * | 1975-06-24 | 1977-01-10 | Hitachi Chem Co Ltd | Producing method of ski |
| JPS5343301A (en) * | 1976-09-28 | 1978-04-19 | Siemens Ag | Feeder circuit for ac electric railroad |
| JPS5810721A (ja) * | 1981-07-14 | 1983-01-21 | Dainippon Printing Co Ltd | 液晶表示素子 |
-
1984
- 1984-12-17 JP JP59266027A patent/JPS61143702A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS522628A (en) * | 1975-06-24 | 1977-01-10 | Hitachi Chem Co Ltd | Producing method of ski |
| JPS5343301A (en) * | 1976-09-28 | 1978-04-19 | Siemens Ag | Feeder circuit for ac electric railroad |
| JPS5810721A (ja) * | 1981-07-14 | 1983-01-21 | Dainippon Printing Co Ltd | 液晶表示素子 |
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