JPS61113141A - 情報記録媒体の製造システム - Google Patents

情報記録媒体の製造システム

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Publication number
JPS61113141A
JPS61113141A JP23252184A JP23252184A JPS61113141A JP S61113141 A JPS61113141 A JP S61113141A JP 23252184 A JP23252184 A JP 23252184A JP 23252184 A JP23252184 A JP 23252184A JP S61113141 A JPS61113141 A JP S61113141A
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JP
Japan
Prior art keywords
mask
disk
pallet
section
stand
Prior art date
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Pending
Application number
JP23252184A
Other languages
English (en)
Inventor
Yasutake Oshima
大島 泰毅
Keiji Kakinuma
柿沼 敬二
Kenichi Akitsu
秋津 健一
Masayoshi Taguchi
田口 真義
Atsuo Konuma
小沼 充生
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
EMI Records Japan Inc
Original Assignee
Toshiba Corp
Toshiba Emi Ltd
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Publication date
Application filed by Toshiba Corp, Toshiba Emi Ltd filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP23252184A priority Critical patent/JPS61113141A/ja
Publication of JPS61113141A publication Critical patent/JPS61113141A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/56Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B23/00Record carriers not specific to the method of recording or reproducing; Accessories, e.g. containers, specially adapted for co-operation with the recording or reproducing apparatus ; Intermediate mediums; Apparatus or processes specially adapted for their manufacture
    • G11B23/0057Intermediate mediums, i.e. mediums provided with an information structure not specific to the method of reproducing or duplication such as matrixes for mechanical pressing of an information structure ; record carriers having a relief information structure provided with or included in layers not specific for a single reproducing method; apparatus or processes specially adapted for their manufacture

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は情報記録媒体の製造システムに係り、詳しくは
コンパクトディスク(以下CDと略記する)の蒸着工程
において、1着ホルダのマスクユニ、トから蒸着済みC
Dを取外してスタンドにストックする一方、蒸着前のC
Dをスタンドから取出してマスクユニットに組込む作業
を自動化して省力化を図ると共に、蒸着歩留の向上を図
る製造システムに関するものである。
〔従来の技術〕
CDの製造システムにあっては、通常、プラスチック成
型工程で表面にピントを有したプラスチック製のディス
ク(情報記録済ディスク)を形成した後、蒸着工程で該
ディスクの表面にアルミニウム反射膜を形成し、この後
保護膜塗布工程で該アルミニウム反射膜上に透明なプラ
スチック保護膜を形成するようになっている。
上述の蒸着工程では、マスクユニット(外周マスクとセ
ンタマスクとディスクベースとよりなる)を用い、第4
図に示すように、ディスク1の中心部及び外周部にアル
ミニウム反射膜(以下反射膜と略記する)2が形成され
ないようにしている。
これにより、反射膜2は、次工程の保護膜塗布工程でプ
ラスチック保護膜により密封されることになる。このよ
うにするのは、ディスク1の外周端面や中心孔の内周端
面で反射膜2が露呈していると、この露呈した部分から
反射膜2が浸蝕されて剥離するためである。
従来の蒸着工程では、マスクユニットからセンタマスク
、外周マスクを外して、蒸着済みのディスクを取り出す
作業や、蒸着前のディスクをディスクベースに取り付け
てセンタマスク、外周マスクを装着する作業等を人手に
より行っていた。これら作業は操作が複雑で、位置合わ
せ等は人が目視しながら正確に行わなければならない等
の理由で、ロボフトを使用することができなかったため
である。
このため、処理能力に限界があり、また蒸着前のディス
クにセンタマスク、外周マスクを装着する際に、ゴミ等
が付着するのを回避できず、さらにセンタマスク、外周
マスクの肌着に際し、不注意によりディスクを傷付ける
等の問題があった。
〔発明が解決しようとする問題点〕
本発明は蒸着工程の処理能力の限界や、ゴミ等の付着や
傷等の問題を解決するものである。すなわち、本発明は
蒸着工程においてマスクユニット、ディスクの脱着作業
等を自動化して省力化を図ると共に、蒸着歩留の向上を
図ることができる情報記録媒体の製造システムを提供す
ることを目的としている。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明者等はマスクユニット、ディスクの脱着作業等を
自動化するため鋭意研究した結果、これら作業を複数の
工程に分割することにより、簡単な操作の組合わせで実
施できることを見い出し本発明をなすに至った。
すなわち、本発明は、スクウェア循環ベースマシンによ
りディスク供給部、マスクユニット肌着作業部、ディス
ク取出部を循環するパレットを儂え、マスクユニット脱
着作業部で蒸着カートの蒸着ホルダから外されてパレッ
ト上に移載されたマスクユニット(7着済みのディスク
をセンタマスクと外周マスクによりディスクベース上に
固定したもの)が咳パレットによりディスク取出部にま
で移送される間に、マスク取外装置によりディスクベー
スから外周マスク、センタマスクを取外してこれらマス
クをパレット上に載置し、ディスク取出部で蒸着済みの
ディスクをディスク取出ハンドにより取出スタンドに移
載する一方、ディスク供給部でパレット上のディスクベ
ースにディスク供給ハンドにより供給スタンドから蒸着
前の情報記録済みディスクを移載し、該パレットにより
マスクユニット脱着作業部にまで移送される間に、マス
ク取付装置によりパレット上に載置されたセンタマスク
と外周マスクをディスクベースに装着して蒸着前のディ
スクを固定したマスクユニットを組立てるローディング
工程と、 前記蒸着カートを二台備え、蒸着チャンバより引出され
た一方の蒸着カートの蒸着ホルダからマスフユニットを
外して前記マスクユニット脱着作業部のパレットに移載
する一方、該パレットによって移送されたマスクユニ7
トを取出して蒸着ホルダにセットし、この作業の終了後
、蒸着チャンバ内の他方の蒸着カートと入れ換える蒸着
工程と、蒸着前の情弗記録済みディスクを積載した供給
スタンドを前記ディスク供給部と対向する位置に移送す
る供給移送工程と、 蒸着済みのディスクが所定枚数積載された取出スタンド
をストック部に移送する取出移送工程とからなることを
特徴としている。
以下本発明の一実施例を図面を参照して説明する。
第1図は本発明の製造システムの一例を示す説明図、第
2図は同システムを実施する装置を示す斜視図である一 本システムは、ローディング工程(1)と、蒸着工程(
ff)と、供給移送工程(II[)と、取8移送工程(
rV)とからなる。
ローディング工程(1)では、スクウェア循環ベースマ
シン3によりディスク供給部A、アイドル部B1マスク
取付部C1静電ブロ一部D1マスクユニット移載部E、
マスクユニット脱着作業部F I、F z、外周マスク
取外し部G、静電ブロ一部H、センタマスク取外し部r
、アイドル部J、ディスク取出部Kを循環するパレット
4を使用し、マスクユニット脱着作業部F1またはFよ
で蒸着ホルダ5から外されてパレット4の一方の載置部
4aに移載されたマスクユニット6 (このマスクユニ
ット6は第12図に示すように、ディスクベース7とセ
ンタマスク8と外周マスク9とからなり、ここでは蒸着
済みのディスク1が固定されている。)が、該パレット
4により外周マスク取外し部Gに移送されると外周マス
ク取外装置10(第18図、第19図参照)により外周
マスク9が外される。
外された外周マスク9は、同じパレット4の他方の!3
!置装4bに移載される。
次いで、パレット4により静電ブロ一部Hに移送され、
ここで静電ブロー装置11 (第20図、第21図参照
)により蒸着時のアルミニウム粉が除去される。
静電ブローが終了すると、センタマスク取外し部!に移
送されてセンタマスク取外し装置12 (第22図〜第
24図参照)に劣りセンタマスク8が外される。
外されたセンタマスク8は、同じパレット4の他方の!
!2置部4bに移載される。
そして、アイドル部Jを経てディスク取出部Kに移送さ
れ、ここでディスク取出ハンド13(第25図、第26
図参照)によりディスクベース7からディスク取出部に
と対向する位置にあるスタンド14(第3図参照)に移
載される。
ディスク1が取出されたパレット4の一方の載置部4a
にはディスクベース7が載置され、他方の載置部4bに
はセンタマスク8、外周マスク9が載置されている。こ
のパレット4はディスク供給部Aに移送され、ここでデ
ィスク供給ハンド15(第25図、第27図参照)によ
りディスク供給部Aと対向する位置にあるスタンド14
がらディスクベース7上に蒸着前の情報記録済みディス
ク1が移載される。
次いで、アイドル部Bを経てマスク取付部Cに移送され
、ここでマスク取付装置16(第28図〜第30図参照
)により他方の載置部4bに載置されていたセンタマス
ク8、外周マスク9が装着されて、ディスク1がディス
クベース7上に固定される。これによりマスクユニ7ト
6が組み立てられる。
次いで、静電ブロ一部りに移送され、ここで静電ブロー
装置17 (第31図、第32図参照)によりゴミ等が
除去される。
静電ブローが終了すると、マスクユニット移載部Eに移
送され、ここで移載装置18(第°33図、第34図参
照)により一方の載置部4aがら他方の!!置部4bに
移し換えられて、マスクユニット脱着作業部F、または
F2に移送される。
蒸着工程(n)では、マスクユニット脱着作業部F、、
F、と対向するように配置された引出部19a 、19
b間に蒸着チャンバ2oを設け、蒸着ホルダ5を装備し
た自転、公転式の蒸着カート21を蒸着チャンバ20内
に交互に入れてアルミニウムを蒸着する蒸着装置22を
使用し、一方の引出部19aに引き出されたカート21
の蒸着ホルダ5から作業員が手作業でマスクユニット6
を外して、これをマスクユニット脱着作業部F1または
F2のパレット4に移載する一方、該パレット4により
移送されてきたマスクユニット6を取出してこれを蒸着
ホルダ5にセットし、この作業終了後、該カート21を
蒸着チャンバ20内の他方のカニト21と入れ換え、他
方のカート21を引出部19bに引き出し、同様の作業
を繰り返す。
供給移送工程(III)では、CDスタンド供給取出装
置23(第35図〜第40図参照)の一端部にある供給
ストフカ部24から蒸着前の情報記録済みディスク1を
複数枚積層したスタンド14をディスク供給部Aと対向
する位置に移送し、該スタンド14が空になったら、こ
れをディスク取出部にと対向する位置に移送する一方、
供給スト7力部24から蒸着前のディスク1が積載され
た新たなスタンド14をディスク供給部Aと対向する位
置まで移送する。
取出移送工程CI’/)では、供給移送工程(I[[)
からディスク取出部にと対向する位置に移送された空の
スタンド14に蒸着済みディスク1が所定枚数積載され
たら、これをCDスタンド供給取出装置23の他端部に
ある取出ストフカ部25に移送する。
供給ハンドエ5により供給移送工程(I)のスタンド1
4からディスク1を1枚ずつパレット4に移載するとき
、スタンド14に残ったスペーサ26は取出移送工程(
IV)のスタンド14に移載される。この場合、蒸着前
のディスク1をパレット4に移載−スペーサ26を取出
工程(IV)のスタンド14に移載−蒸着後のディスク
1をスタンド14に移載の順に行われる。
上述のように本実施例のシステムでは、作業員がマスク
ユニット脱着作業部F1とF2に交互に移動してマスク
ユニット6を脱着するだけでよく、ディスク1、センタ
マスク8、外周マスク9を手作業で脱着しなくてもすむ
、ディスク1、センタマスク8、外周マスク9の脱着は
ローディング工程(1)で自動的に行われる。
したがって、蒸着処理能力を大幅に向上することが可能
である上に、作業員も1名程度ですむ。
また、作業員は、マスクユニット6に触れるだけでディ
スク1に直接触れることがな(、ディスク1にゴミ等が
付着したり、ディスク1を傷付けるおそれがない、この
ため、ゴミ等が付着したまま蒸着することにより生ずる
ピンホール等を可及的に少なくすることができ、蒸着歩
留を向上させることができる。
次の上記システムを実施する各装置について詳細に説明
する。
第5図〜第11図はスクウェア循環ベースマシン3、パ
レット4を示している。スクウェア循環ベースマシン3
は、第5図に示すように、架台ベース27上にガイド板
28,29により平面視四角形状のガイド溝部30を形
成すると共に、パレット移動装置31とパレット位置決
め機構32を装備して構成されている。
ガイド溝部30は、ディスク供給部A、アイドル部B5
マスク取付部C1静電ブロ一部D、マスクユニット移載
部E、マスクユニット脱着作業部F、、Ft、外周マ不
り取外し部G、静静電ブロード、センタマスク取外し部
I、アイドル部J、ディスク取出部にと遊び部り、Mの
14個のステージに区画されていモ、12個のパレット
4がガイド板28.29に案内されて循環する。
ガイド溝部2.0の底部には、第6図に示すように、ガ
イド板28,29に沿ってローラ支持板33が設けられ
ていて、該ローラ支持板22にパレット4の底面を支持
すると共に、その移動を円滑にするガイドローラ34が
適宜間隔をお゛いて配設されている。ガイド溝部30の
各コーナ部の底部には、パレット4の方向転換を円滑に
するフリーベアリング35が配置されている。
パレット移動装置31は、シリンダ36と、該シリンダ
36のシリンダロッド37の先端に引掛片38を設けて
なるパレット押しアーム39とから構成されていて、ガ
イド溝部30の各辺部の底部にそれぞれ配設されている
シリンダ36を動作させてシリンダロッド37をシリン
ダ36内に後退させることにより、引掛片38がパレッ
ト4の側面を押してパレット4を1ステージ移動させる
。パレット4を移動させた後は(このときパレット4が
あったステージは空になっている)、シリンダロッド3
7を前進させて次の移動操作に備える。このとき、引掛
片38を外側のガイドVi28のコーナ部に形成した切
欠28aに収めておいて、空になったステージに次のパ
レット4が移動してくる際に邪魔にならないようにして
いる。
パレット4は、上述のパレット移動装置31により間欠
的に1ステージずつ移動されてガイド溝部30を循環す
る。
パレット位置決め機構32は、シリンダ40と、該シリ
ンダ40により前進後退させられてパレ。
ト4の上面にもうけられたストッパ兼位置決め駒41に
係脱するピン42と、該ピン42を案内するガイド台4
3とから構成されていて、パレット4の位置決めを必要
とするステージ(ディスク供給部A1マスク取付部C1
マスクユニ、ト移載部E2外周マスク取外し部G、セン
タマスク取外し部11ディスク取出部に等)にそれぞれ
配置されている。
パレット4が位置決めを必要とするステージに移動して
くると、シリンダ40が動作してそのシリンダロッド4
4が前進し、これによりシリンダロッド44とピン42
とを連結するアーム45が回転してピン42を前進させ
、ピン42の先端がス)−/パ兼位置決め駒41の係合
凹部41aに係合する。パレット4はこれにより所定ス
テージに正確に位置決めされる。
なお、ガイド溝部30の各コーナ部には、ダンパー機構
46が設けられている。このダンパー機構46は外側の
ガイド板28に固定されていて、その緩衝ピストン47
がガイド溝部30内に突出し、パレット4の移動時の衝
撃を緩和する。
本システムでは、長方形状のパレット4を使用するため
、上述のスクウェア循環ベースマシン3を採用している
。パレット4を搬送するのにタレット式ベースマシンを
採用することもできるが、無駄なスペースが生じて大型
化する。スクウェア1iXベースマシン3では、タレン
ト式ベースマシンのように無駄なスペースがなく、タレ
ント式ベースマシンよりも小型化でき、スペースをとら
ず、クリーンルーム内の装置として通している。
また、パレット4を移動するのに、パレット4をガイド
ローラ34で支え、シリンダ36からなるパレット移動
装置31を使用しているため、フリーフローコンベア方
式に比して移動速度を速くでき(サイクル短縮が可能)
、停止中のパレット4が振動せず、高精度の作業が可能
である。また、チェン駆動方式に比してパレット4の外
にはみ出る駆動部がなく、コンパクトになり、設置のた
めの床面積を小さく出来る。
次にパレット4について説明すると、第7図〜第9図に
示すように、パレット4の側縁部の2ヶ斤に前述のスト
ッパ兼位置決め駒41が設けられ、ミた載置部4a 、
4bの各コーナ部に外周マスクスタンド48がそれぞれ
設けられている。また、載置部4a、4bの長さ方向両
端位置にはスペース49とガイドピン50が設けられ、
また他方の載置部4bのスペーサ49間には長さ方向に
沿ってセンタマスクスタンド51が所定の間隔をおいて
3個配置されている。
外周マスクスタンド48は外周マスク9を位置決めし、
またガイドピン50はディスクベース7を位置決めし、
またスペーサ49はマスクユニット6の高さの位置決め
をする。
第10図は載置部4a、4bにマスクユニットを載置し
た状態を示している。また、第11図はセンタマスク取
外装置12によって取外さ孔たセンタマスク8をセンタ
マスクスタンド51にセットした状態を示している。
なお、パレット4には、セフティガイド52が設けられ
ていて、外周マスク9の左右置き違いを確認できるよう
になっている。
第12図はマスクユニット6を示してる。マスクユニッ
ト6の基台を構成するディスクベース7は断面コ字状に
形成されていて、ディスク1、外周マスク9を安定して
支持できる横幅Wと複数個(3個)のディスク1を取付
けるに必要な長さを有し、これら横幅Wと長さに対して
厚さTの精度が充分に得られる剛性をもった軽量構造に
なっている。
ディスクベース7の長さ方向両端部には位置決め孔53
,53,54,54が設けられていて、一方の位置決め
孔53.53には前述のパレット4に立設したガイドピ
ン50が嵌入し、他方の位置決め孔54,54には外周
マスク9に設けたガイドピン55が嵌入する。
ディスクベース7の上面には、ディスク1を支えるセン
タ駒56が複数個(3個)配設されていると共に、該セ
ンタ駒56間に外周マスク9を固定するためのマグネッ
ト57が配設されている。
センタ駒56は、ディスク1の内径を精度良く基円する
円筒案内部58と、ディスク1を保持するフランジ部5
9と、バナナチップ状に形成されてセンタマスク8を位
置決め、保持する保持部60とから構成されている(第
14図参照)。
センタマスク8は、第14図に詳細に示すように、マス
ク部61の中央に保持部60が嵌入される中空部62を
をした突起63を立設して構成されている。この突起6
3の上部には頚部64が形成されていて、該頚部64に
引掛けてセンタマスク8を外すことができるようになっ
ている。
外周マスク9には上述のセンタ駒56と等しいピッチで
マスク穴9aが形成され、そして全体の剛性を保つため
両側縁に折返し部65が形成されている。外周マスク9
の長さ方向両端部には前述のガイドピン55が設けられ
ていると共に、位置決め溝66が形成されている。
第13図〜第17図は上述のマスクユニット6が取付け
られる蒸着ホルダ5を示している。蒸着ホルダ5は、シ
ャフト67の長さ方向両端に三角形状の上下板68.6
8を固定して構成されていて、マスクユニット6を取付
ける三個の取付面を有している。
シャフト67には、自転・公転式の蒸着カート21によ
り回転力が付与される爪部材69が設けられている。ま
た、上下板68,68には、上述の位置決め溝66に係
合するガイドピン70と、外周マスク9またはディスク
ベース7を固定するマグネット71 (第15図参照)
が設けられている。
外用マスク9の位置決め溝66にガイドピン70を係合
させ、マグネット71に外周マスク9を固定させること
により、マスクユニット6が著者ホルダ5に取付けられ
る。
なお、外周マスク9間の隙間から蒸着材(アルミニウム
)が侵入するのを阻止するため、上下板68.68間に
遮蔽リブ72(第16図、第17図参照)が設けられて
いる。
蒸着カート21については、詳細に図示しないが、上述
の蒸着ホルダ5を複数個支持した支持枠73自体を太陽
歯車74により公転させると共に、遊星歯車により各蒸
着ホルダ5を自転させる構成になっている(第2図参照
)。
第18図、第19図はガイド溝部30の外周マスク取外
し部Gに装備される外周マスク取外装置10を示してい
る。外周マスク取外装置10は、ディスクベース7をロ
ックするロック機構75と、外周マスク9を押えて固定
するハンドフレーム76を昇降する昇降機構77と、該
ハンドフレーム76に装備されて外周マスク9をクラン
プする1対のチャック78.78を育したクランプ機構
79と、ハンドフレーム76をパレット4の一方の載置
部4a上と他方の載置部4b上の間で往復させるスライ
ド機構80とから構成されている。
パレット4が外周マスク取外し部Gに移送されてパレッ
ト位置決め機構32により位置決めロックされると、口
7り機構75のシリン夛81が動作して、クランプ82
がディスクベース7を押え込む一方、昇降機構77のシ
リンダ83によりハンドフレーム76が下降して:亥ハ
ンドフレーム76に設けた押えビン84がスプリング8
4aの弾↑θ力で外周マスク9を押える0次いで、クラ
ンプ機構79のシリンダ85が動作してチャック部78
.78が外周マスク9をクランプする。このとき、チャ
ック78の受台78aが外周マスク9の下部に入り込む
と共に、側部78bが外周マスク9の両端部に形成した
溝に入り、外周マスク9がずれないようにしている。こ
の後、シリンダ83により外周マスク9がハンドフレー
ム76とともに上昇して、ディスクベース7から離れる
外周マスク9が分離されると、ロック機構75が解除さ
れる。これと同時に、スライド機構80のシリンダ86
により外周マスク9がハンドフレーム76とともにパレ
ット4の他方の載置部4b上に移動される0次いで、シ
リンダ83により外周マスク9がハンドフレーム76と
ともに下降し、他方の載置部4bの外周マスクスタンド
48内に収められる。この後、シリンダ85が動作して
チャック部78.78が外周マスク9から離れ、クラン
プが解除される。
外周マスク9の°クランプが解除されると、シリンダ8
3によりハンドフレーム76が上昇し、次いでシリンダ
86により元の位置に復帰する。この後、パレット位置
決め機構32のロックが解除され、パレット4が次の静
電ブロ一部Hに移送される。
第20図、第21図は、静電プロ一部Hに装備される静
電ブロー装置11を示している。静電ブロー装置11は
、イオン化されたエアーをディスク1等に吹き付ける静
電ブローノズル87と該静電ブローノズル87から吹き
付けられたエアー等を吸引除去する排気ダクト88とを
組合わせた静電7’ o −ユニフ) 89 ト、tK
静電−yローユニット89をディスク1等の上で回転さ
せる回転駆動機構90と、パレット4及び静電ブローユ
ニット89を覆うボックス状のシャフタ91とから構成
されている。
シャンク91は、載置部4aを覆う部屋91aと載置部
4bを覆う部M91bとに仕切られていて、各部屋91
a、91b内にそれぞれ静電ブローユニット89が三組
ずつ配置されている。
静電ブローユニ7ト89は回転駆動機構90の回転軸9
2にアジャスター93を介して取付けられていて、該ア
ジャスター93によりディスク1等からの高さと角度が
調整可能になっている。
パレット4が外周マスク取外し部Gから静電プロ一部H
に移送されてくると、シリンダ94によリシャ7夕91
が下降して、部屋91aが一方の載置部4a上のディス
ク1、センタマスク8、ディスクベース7を覆い、部屋
91bが他方の載置部4b上の外周マスク9を覆う0次
いで、回転駆動機構90のモータ95が動作して伝達機
構96により回転軸92が回転される。これにより各静
電ブローユニット89がディスク1等の上で回転しつつ
静電ブローを行う、このとき、静電ブローノズル87か
らディスク1に吹き付けられたエアー及び該エアーによ
り吹き上げられたアルミニウム粉等のゴミは、排気ダク
ト88により直ちに吸引除去されるため、静電ブローに
際しゴミが飛び敗って囲周に悪影響を及ぼすおそれがな
い。
静電ブローが終了すると、シリンダ94によりシャッタ
91及び静電ブローユニット89が上昇し、パレット4
がセンタマスク取外し部!に移送される。
第22図〜第24図はセンタマスク取外し部Iにm(1
1されるセンタマスク取外装置!12を示している。セ
ンタマスク取外装置12は、ディスクベース7をロック
するロック機構97と、センタマスク8を押えて画定す
るハンドフレーム9日を昇降する昇降機構99と、該ハ
ンドフレーム98に上下動可能に装備されてセンタマス
ク8をクランプする1対のチャ7り部100,100を
有したチャンク機構101と、ハンドフレーム9Bを一
方の載置部4a上と他方の載置部4b上の間を往復させ
るスライド機構102とから構成されている。
パレット4がセンタマスク取外し部Iに移送されてパレ
ット位置決め機構32により位置決めロックされると、
ロック機構97のシリンダ103が動作してクランプ1
04がパレット4の一方の載置部4a上のディスクベー
ス7を押え込む一方、昇降機構99のシリンダ105に
よりハンドフレーム98が下降して該ハンドフレーム9
8に設けた押えビン106がスプリング106aの弾t
a力でセンタマスク8の頭部を押える0次いで、チャッ
ク機構101のシリンダ107が動作してチャック部1
00,100がセンタマスク8の頚部64をチャックす
る。この後、シリンダ105によりハンドフレーム98
が上昇して、センタマスク8がディスクベース7から離
れる。
センタマスク8が取外されると、ロック機構97が解除
される。これと同時に、スライド機構102のシリンダ
108によりハンドフレーム98がスライドされてセン
タマスク8が他方の載置部4b上に移動される0次いで
、シリンダ105゜181によりハンドフレーム98が
下降すると共にハンドフレーム98に対しチャック機t
ll101が下降してセンタマスク8がセンタマスクス
タンド51に押し込められる。この後、シリンダ107
が動作してチャック部100,100がセンタマスク8
から離れ、チャックが解除される。
センタマスク8のチャックが解除されると、シリンダ1
05によりハンドフレーム98が上昇し、次いでシリン
ダ108により元の位置に復帰する。
この後、パレット位置決め機構32のロックが解除され
、パレット4がアイドル部Jを経てディスク取出部Kに
移送される。
第25図〜第27図はディスク取出部Kに装備されるデ
ィスク取出ハンド13と、ディスク供給部Aに装備され
るディスク供給ハンド15を示している。
ディスク取出ハンド13は支持環109の一方の側部に
設けられ、ディスク供給ハンド15は他方の側部に設け
られている。
まず、ディスク取出ハンド13について説明すると、第
25図、第26図に示すように、ディスク1を真空吸引
力により吸着する吸盤110が設けられた吸着ハンド1
11と、該吸着ハンド111をパレット4とディスク取
出部にと対向する位置の空のスタンド14との間で往復
させるスライド機構112と、吸着ハンド111を昇降
させる昇降機構113とから構成されている。
パレット4がディスク取出部Kに移送されてパレット位
置決め機構32により位置決めロックされると、昇降機
構113のシリンダ114によりt&着ハンド111が
下降して+I&盤110がディスク1に押し付けられる
。このとき、図示しないバキューム用Qb1弁が作動し
て吸盤110に吸引力が生じる。
ディスク1が吸着されて一定の真空度に達すると、シリ
ンダ114により吸着ハンド111が上昇し、ディスク
1は吸盤110に吸着されてディスクベース7から離れ
る0次いで、スライド機構112のロッドレスシリンダ
115によりIIFハンド111がディスク取出部にと
対向する位置の空のスタンド14上にスライドされ、そ
して該位置でシリンダ114により吸着ハンド111が
下降し、ディスク1がスタンド14の上端テーパ部14
a (第3図参照)に挿入される。
吸着ハンド111の下降後、バキューム用配管内の作動
が停止し、吸盤110の吸引力がなくなる。このとき、
図示しないバキューム用配管内にクリーンエアーを流し
て吸盤110よりブローさせ、ディスクlと吸盤110
の離れをよくしている。
ディスク1が吸盤110から離れるとスタンド14にガ
イドされながら落下する。ディスク1がスタンド14に
移載されると、シリンダ114により吸着ハンド111
が上昇し、ついでロッドレスシリンダ115により元の
位置の復帰する。
吸着ハンド111が復帰すると、パレット位置決め機構
32のロックが解除され、パレット4がディスク供給部
Aに移送される。
次にディスク供給ハンド15を第25図、第27図を参
照して説明すると、スライドハンド116をスライドさ
せるスライド機構117と、8亥スライドハンド116
に上下動可能に装備姿れたハンドフレーム118と、デ
ィスク1を真空吸引力により吸着する吸盤119が設け
られて該ハンドフレーム118に上下動可能に装備され
た吸着ハンド120とから構成されている。
吸盤119により蒸着前のディスク1を吸着した状態で
パレット4がディスク供給部Aに移送されるのを待機す
る。パレット4がパレット位置決め機構32によりディ
スク供給部Aに位置決めロックされると、ハンドフレー
ム118がシリンダ121により下降し、同時に吸着ハ
ンド120がシリンダ122により下降して、ディスク
1がディスクベース7上のセンタ駒56に挿入される。
ハンドフレーム118、吸着ハンド120の下降後、図
示しないバキューム用を磁弁の作動が停止し、吸盤11
9の吸引力がなくなる。このとき、図示しないバキュー
ム用配管内にクリーンエアーを流して吸盤119よりブ
ローさせ、ディスク1と吸盤119との離れをよくして
いる。
このようにしてディスク1をディスクベース7に装着す
ると、シリンダ121によりハンドフレーム118が上
昇し、またシリンダ122により吸着ハンド120が上
昇する0次いで、スライド機構117のロアドレスシリ
ンダ123によりハンドフレーム118、吸着ハンド1
20がスライドハンド116とともにスライドされて、
ディスク供給部Aと対問する位置に待機しているスタン
ド14上に位置する。この後、シリンダ121によりハ
ンドフレーム118が下降し、吸盤119がスタンド1
4の一番上に積載されているディスク1に押し付けられ
る。
ハンドフレーム118が下降すると、図示しないバキュ
ーム用tvi弁が作動して吸盤119に吸引力が生じる
。ディスク1が吸着されて一定の真空度に達すると、シ
リンダ121によりハンドフレーム118が上昇して、
ディスク1がスタンド14から取出される0次いで、ロ
ッドレスシリンダ123により元の待機位置に復帰して
、パレット4が移送されてくるのを待機する。
第28図〜第30図はマスク取付部Cに装備されるマス
ク取付装置16を示している。マスク取付装置16は、
ハンドフレーム124をスライドさせるスライド機構1
25と、該ハンドフレーム124を昇降きせる昇降機構
126と、ハンドフレーム124に装備されて外周マス
ク9をクランプするクランプ機構127と、ハンドフレ
ーム124に上下動可能に装備されてセンタマスク8を
チャックするチャ7り機構128とから構成されている
パレット4がディスク供給部Aからアイドル部B8経て
マスク取付部Cに移送されてパレット位置決め機構32
により位置決めロックされると、ハンドフレーム124
が昇降機構126のシリンダ129によりパレット4の
他方の載置部4b上に下降する。この他方の載置部4b
には、センタマスク8、外周マスク9が載置されている
ハンドフレーム124の下降と同時にシリンダ130に
よりチャック機構128が下降する。ハンドフレーム1
24の下降により、ハンドフレーム124に設けた押え
ピン131がスプリング131aの弾撥力により外周マ
スク9を押え込む。
次いで、チャック機構128のシリンダ132(第30
図参照)によりチャック部133がセンタマスク8の頚
部64をチャックする。また1、これと同時にクランプ
機jRl 27のシリンダ134゜134によりチャッ
ク135,135の受台135a、135aが外周マス
ク9の下部に入り込むと共に、側部135b、135b
が外周マスク9のj!j端部に形成した溝に入り外周マ
スク9をずれないようにクランプする。
この後、シリンダ129によりハンドフレーム124が
上昇し、またシリンダ130によりチャック機構128
が上昇する。チャック機構128が上昇する際、ハンド
フレーム124に設けた押えピン136(第30図参照
)がスプリング136aの弾撥力でセンタマスク8の頭
部を押える。
ハンドフレーム124によりセンタマスク8、外周マス
ク9が上昇すると、スライド機構125のシリンダ13
7によりハンドフレーム124がディスク1が載置され
ている一方の載置部4a上にスライドされる。この後、
シリンダ12・9によりハンドフレーム124が下降し
て、外周マスク9が外周マスクスタンド48に収まり、
外周マスク9のガイドピン55がディスクベース7の位
置決め孔53に嵌入し、マグネット57により外周マス
ク9がディスク10周縁部を押え付けてディスクベース
7上に固定される。また、センタマスク8は、ディスク
1の中心部を押え付けて保護部60に取付けられる。こ
のとき、スプリング131bの弾1n力でセンタマスク
8はディスク1に押え付けられる。
このようにしてセンタマスク8、外周マスク9がディス
クベース7に装着されると、シリンダ132によりチャ
ック部133がセンタマスク8のチャックを解除し、ま
たシリンダ134,134によりチャック135,13
5が外周マスク9のクランプを解除する0次いで、シリ
ンダ129によりハンドフレーム124が上昇し、この
後、シリンダ137によりハンドフレーム124が元の
位置に復帰する。
ハンドフレーム124が復帰すると、パレット位置決め
機構32のロックが解除され、パレット4が静電ブロ一
部りに移送される。
第31図、第32図は静電ブロ一部りに装備される静電
ブロー装置17を示している。静電ブロー装置17は、
イオン化されたエアーをディスク1等に吹き付ける複数
本(図面では4本)の静電フ゛ローノズル138と1亥
静電プローノズル138から吹き付けられたエアー等を
吸引除去する排気ダクト139とを組合わせた静電ブロ
ーユニー/ ト140 、!:、該1%tフローユニッ
ト140をパレット4の長さ方向で往復移動させる直線
駆動機構141と5、マスクユニット6がiS!置され
た他方の載置部4b及び静電ブローユニー/ ) l 
40を覆うシャッタ142とから構成されている。
なお、排気ダクト139の下端中央部には、センタマス
ク用にげとなる切欠139aが形成されている。
パレット4が静電ブロ一部りに移送されて(ると、直線
駆動機構141のロフトレスシリンダ143により静電
ブローユニット140が蒸着前のディスク1を装着した
マスクユニット6上を走行する。
静電ブローノズル138からマスクユニット6に吹き付
けられたエアー及び該エアーにより吹き上各tられたゴ
ミは、静電ブローノズル138とともに走行する排気ダ
クト139により直ちに吸引除去される。このように、
排気ダクト139を静電ブローノズル138とともに移
動させるようにすると、大型の排気ダクトを使用しなく
てもすむ。
静電ブロー中は、シャッタ142により外部からのゴミ
、ホコリ等の侵入が阻止される。
静電ブローが終了すると、パレット4はマスクユニット
移載部已に移送される。
第33図、第34図はマスクユニット移載部已に装備さ
れる移載装置18を示している。移載装置18は、ハン
ドフレーム144と、該ハンドフレーム144に装備さ
れてマスクユニット6をクランプするクランプ機構14
5と、ハンドフレーム144を昇降する昇降機構146
と、ハンドフレーム144をパレット4の一方の載置部
4aと他方の載置部4bとの間で往復させるスライド機
構147とから構成されている。
パレット4がマスクユニット移載部已に移送されてパレ
ット位置決め機構32により位置決めロックされると、
昇降機構146のシリンダ148によりハンドフレーム
144が下降して、:亥ハンドフレーム144に設けた
押えピン149がスプリング149aの弾tΩ力で外周
マスク9を押え、また押えピン150がスプリング15
0aの弾撥力でセンタマスク8の頭部を押える0次いで
、クランプ機構145のシリンダ151,151により
チャック152,152がマスクユニット6をクランプ
する。このとき、チャック152の受台152aがディ
スクベース7の下部に入り込むと共に、側部152bが
外周マスク9の両端部に形成した溝に入り、マスクユニ
ット6がずれない−ようにしている。
マスクユニット6がクランプされると、シリンダ148
によりハンドフレーム144が上昇し、マスクユニット
6はパレット4の一方の載置部4aから離れる0次いで
、スライド機構147のシリンダ153によりハンドフ
レーム144がスライドされて、マスクユニット6は他
方の載置部4b上に移動される。この後、シリンダ14
8によりハンドフレーム144が下降して、マスクユニ
ット6は他方の1上置部4bにfjl!される。
マスクユニット6が移載されると、シリンダ151.1
51によりチャック152,152のクランプが解除さ
れる。次いで、シリンダ148によりハンドフレーム1
44が上昇し、この後シリンダ153により元の位置に
復帰する。このようにしてマスクユニット6の移載が終
了すると、パレット位置決め機構32のロックが解除さ
れる。
第35図はCDスタンド供給取出装置23の全体を示し
ている。CDスタンド供給取出装置23は、架台154
の長さ方向一端部(図面左側)に設けられた供給スト7
力部24と、長さ方向他端部(図面右側)に設けられた
取出ストッカ部25と、これら供給ストフカ部24と取
出スト7力部25との間であってディスク供給部A1デ
ィスク取出部にと対向する位置に設けられた供給スタン
ド位置決め部155、取出スタンド位置決め部156と
、長さ方向一端部から他端部にかけて設けられたスタン
ド移送部157とから構成されている。
供給スト7力部24には、蒸着前のディスク1を複数枚
積層したスタンド14をスタンド移送部157に送るス
タンド受はプレート158が設けられている。このスタ
ンド受はプレート158にはスタンド移送部157側で
開口する複数個(図面では3個)のU字溝159が形成
されていて、該U字溝159の開口部側と奥側の2ケ所
(図面では合計6ケ所)でスタンド14を受け、る、各
U字溝159の開口部側の下方位置には、スタンド14
を一時的に支えるスタンド支持プレート160がそれぞ
れ配設されている。
第36図、第37図は上述の供給スト−/力部24を詳
細に示している。スタンド受はプレート158にはロッ
ドレスシリンダ161が連結されていて、該ロフトレス
シリンダ161により移動されてスタンド14をスタン
ド移送部157に移送する。
スタンド支持プレート160は、シリンダ162により
ガイド軸163,163に案内されて昇降するもので、
スタンド受はプレート158が前進してU字溝159の
開口部側のスタンド14をスタンド移送部157に移送
するとき、U字i1!159の奥側のスタンド14(こ
のスタンド14はこのときスタンド支持プレート160
上に運ばれている)を一時的に支持し、スタンド受はプ
レート158が後退して元の位置に復帰したとき、支持
していた該スタンド14をスタンド受はプレート158
上にもどす、もどされたスタンド14はU字溝159の
開口部側に位置し、次にスタンド受はプレート158が
前進するときスタンド移送部157に移送される。
取出ストン力部25は、スタンド受はプレート164、
スタンド支持プレート165を具備して供給ストフカ部
24と同一に構成されている。
スタンド移送部157により蒸着済みのディスク1を積
載したスタンド14が移送されてくると、スタンド受は
プレート164のU字溝166の開口部側にストック“
されていたスタンド14がスタンド支持プレート165
により一時的に支持され、次いでスタンド受はプレート
164が前進してスタンド移送部157からスタンド1
4を受ける一方、スタンド支持プレート165が下降し
て該スタンド支持プレート165から一時的に支持され
ていたスタンド14を受け、この後スタンド受はプレー
ト164が後退して元の位置に復帰する。
これにより、U字溝166の開口部側にストックされて
いたスタンド14は奥側に移し換えられて蒸着工程の次
工程である保護膜塗布工程に送られるのを待機する。
供給スタンド位置決め部155には、第35図に示すよ
うに、互いに対向するようにして1対の位置決め板16
7.167が設けられている。これら位置決め仮167
.167はシリンダ168.168により互いに接近す
るもので、その内面側にスタンド14の基台14bを挟
持固定する凹形状の挟持部167aが複数個(図面では
3個ずつ)配置されている。
なお、図示しないが、供給スタンド位置決め部155に
は、スタンド14から蒸着前のディスク1がディスク供
給部Aに移載される毎にディスク1の積載体を持ち上げ
て、積載体の一番上にあるディスク1を常に同じ高さに
位置させるディスクセ、トアンプ機構が設けられている
取出スタンド位置決め部156にも同様にシリンダ16
9,169により互いに接近する1対の位置決め板17
0,170が設けられていて、該位置決め仮170,1
70の内面に凹形状の挟持部170aが複数個配置され
ている。
スタンド移送部157には、第35図に示すように、ス
タンド14の載置部172a−172cが配設された移
送バー173が架台154の長さ方向に移動可能に装備
されている。この移送バー173は、供給スト7力部2
4から移送されたスタンド14を供給スタンド位置決め
部155に移送し、該供給スタンド位置決め部155で
空になったスタンド14を取出スタンド位置決め部15
6に移送し、該取出スタンド位置決め部156で蒸着済
みのディスク1が所定枚数積載されたスタンド14を取
出ストッカ部25に対向する位置に移送する動作を繰り
返す。
第38図は移送バー173を往復動させるシリンダ17
4を示している。このシリンダ174は、ローラ175
,175を介して移送バー173を移動可能に支持した
台176に同定されている。
第39図、第40図は移送バー173を昇降する昇降機
構177を示している。この昇降機構177は、リンク
機構178とこれを動作するシリンダ179とからなり
、該リンク機構178にビン180を介して台176が
連結されている。シリンダ179のピストンロッド17
9aが前進するとリンク機構178により台176が下
げられて移送バー173が下降し、またピストンロッド
1.79aが後退すると台176が上げられて移送バー
173が上昇する。
次にCDスタンド供給取出装置23全体の動作を説明す
る。まず、第1工程では、供給側のスタンド受はプレー
ト158が前進し、また位置決めvi169,170の
挟持固定が解除される0次いで、第2工程では、移送バ
ー173が上昇し、また供給側のスタンド支持プレート
16oが上昇する0次いで、第3工程では、供給側のス
タンド受はプレート158が後退する0次いで、第4工
程では、移送バー173が第35図の右側に移動し、ま
た供給側のスタンド支持プレート160が下降し、取出
側のスタンド支持プレート165が上昇する0次いで、
第5工程では、取出側のスタンド受はプレート164が
前進する0次いで、第6エ程では、移送バー173が下
降し、また取出側のスタンド支持プレート165が下降
する。この後、第7エ程では、移送バー173が第35
図の左側に移動し、また取出側のスタンド受はプレート
164が後退し、位置決め板167.170の挟持固定
が行われる。
この第7エ程後、供給スタンド位置決め部155にロッ
クされたスタンド14から蒸着前のディスク1がなくな
り、また取出スタンド位置決め部156にロックされた
スタンド14に蒸着済みのディスク1が所定枚数積載さ
れたら、再び第1工程から繰り返される。
〔発明の効果〕
以上説明したように本発明の情報記録媒体の製造システ
ムによれば、蒸着カートの蒸着ホルダから外したマスク
ユニットを、循環ベースマシンによりディスク供給部、
マスクユニット脱着作業部、ディスク取8部を循環する
バレットに戴置し、またパレットからマスクユニットを
取出してこれを蒸着ホルダに取付けるだけですみ、ディ
スク、外周マスク、センタマスクの脱着は全て自動化さ
れているので、蒸着工程の処理能力を向上させることが
できると共に、省力化を図ることができる。
また、ディスク、外周マスク、センタマスクの脱着を手
作業でしなくてもすむから、ゴミが付着したり傷付けた
りすることがなく、蒸着歩留の向上を図ることができる
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の製造システムの一例を示す説明図、第
2図は同システムを実施する装置を示す斜視図、第3図
はスタンドの側面図、第4図は蒸着済みのディスクの平
面図、第5回はVa環ベースマシンの斜視図、第6図は
同循環ベースマシンのコーナ部を一部切欠して示した斜
視図、第7図はパレットの平面図、第8図、第9図は同
パレ7トの側面図、第10図はパレットにマスクユニ7
トを載置した状態の一部切欠側面図、第11図はセンタ
マスクをパレットのセンタマスクスタンドにセットした
状態の一部切欠側面図、第12図はマスクユニットの分
解斜視図、第13図は蒸着ホルダの斜視図、第14図は
蒸着ホルダにセットされた状態のマスクユニットの部分
拡大断面図、第15図は蒸着ホルダの側面図、第16図
は同断面図、第17図は同上面図、第18図は外周マス
ク取外装置の正面図、第19図は同平面図、第20図は
静電ブロー装置の正面図、第21図は同側面図、第22
図はセンタマスク取外装置の正面図、第23図は同側面
図、第24図は同平面図、第25図はディスク取出ハン
ド、ディスク供給ハンドの平面図、第26図はディスク
取出ハンドの側面図、第27図はディスク供給ハンドの
側面図、第28はマスク取付装置の正面図、第29図は
同平面図、第30図は同装置のチャック機構の部分側面
図、第31図は静電ブロー装置の側面図、第32図は同
正面図、第33図は移載装置の正丁図、第34図は同平
面図、第35図はCDスタンド供給取出装置の平面図、
第36図は供給ス)−/カドの側面図、第37図は同正
面図、第38図は同装置の移送バーを移動させるシリン
ダの正面図、第39図は同移送バーの昇降機構の正面図
、第40図は同側面図である。 ■・・・ローディング工程、■・・・蒸着工程、■・・
・供給移送工程、■・・・取出移送工程、1・・・ディ
スク、3・・・ベースマシン、4・・・パレフ)、4a
t4b・・・載1部、5・・・蒸着ホルダ、6・・・マ
スクユニット、7・・・ディスクベース、8・・・セン
タマスク、9・・・外周マスク、10・・・外周マスク
取外装置、12・・・センタマスク取外装置、13・・
・取出ハンド、14・・・スタンド、15・・・供給ハ
ンド、16・・・マスク取付装置、20・・・蒸着チャ
ツバ、21・・・カート、22・・・蒸着装置、23・
・・CDスタンド供給取出装置、A・・・ディスク供給
部、F、、F!・・・マスクユニット脱着作業部、K・
・・ディスク取出部。 第3図 第4図 第7図 第8図 4ソ             り 第9図 4        ゛ 第10図 第11図 第18図 第20図 第25図 第26図 第27図 第28図 第30図 第33図 1日 第34図 旧

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 スクウェア循環ベースマシンによりディスク供給部、マ
    スクユニット脱着作業部、ディスク取出部を循環するパ
    レットを備え、マスクユニット脱着作業部で蒸着カート
    の蒸着ホルダから外されてパレット上に移載されたマス
    クユニット(蒸着済みのディスクをセンタマスクと外周
    マスクによりディスクベース上に固定したもの)が該パ
    レットによりディスク取出部にまで移送される間に、マ
    スク取外装置によりディスクベースから外周マスク、セ
    ンタマスクを取外してこれらマスクをパレット上に載置
    し、ディスク取出部で蒸着済みのディスクをディスク取
    出ハンドにより取出スタンドに移載する一方、ディスク
    供給部でパレット上のディスクベースにディスク供給ハ
    ンドにより供給スタンドから蒸着前の情報記録済みディ
    スクを移載し、該パレットによりマスクユニット脱着作
    業部にまで移送される間に、マスク取付装置によりパレ
    ット上に載置されたセンタマスクと外周マスクをディス
    クベースに装着して蒸着前のディスクを固定したマスク
    ユニットを組立てるローディング工程と、 前記蒸着カートを二台備え、蒸着チャンバより引出され
    た一方の蒸着カートの蒸着ホルダからマスクユニットを
    外して前記マスクユニット脱着作業部のパレットに移載
    する一方、該パレットによって移送されたマスクユニッ
    トを取出して蒸着ホルダにセットし、この作業の終了後
    、蒸着チャンバ内の他方の蒸着カートと入れ換える蒸着
    工程と、蒸着前の情報記録済みディスクを積載した供給
    スタンドを前記ディスク供給部と対向する位置に移送す
    る供給移送工程と、 蒸着済みのディスクが所定枚数積載された取出スタンド
    をストック部に移送する取出移送工程とからなることを
    特徴とする情報記録媒体の製造システム。
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JP25150584A Division JPS61113146A (ja) 1984-11-30 1984-11-30 センタマスク取付装置
JP25150184A Division JPS61148646A (ja) 1984-11-30 1984-11-30 スクウエア循環式ベ−スマシン
JP25150784A Division JPS61113148A (ja) 1984-11-30 1984-11-30 蒸着ホルダ
JP25150684A Division JPS61113147A (ja) 1984-11-30 1984-11-30 デイスクスタンド供給取出装置
JP25150984A Division JPS61113150A (ja) 1984-11-30 1984-11-30 静電ブロ−装置
JP25150384A Division JPS61113144A (ja) 1984-11-30 1984-11-30 センタマスク取外装置
JP25150484A Division JPS61113145A (ja) 1984-11-30 1984-11-30 外周マスク取付装置
JP25150284A Division JPS61113143A (ja) 1984-11-30 1984-11-30 外周マスク取外装置

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