JPS61111334A - 高分子表面改質方法 - Google Patents
高分子表面改質方法Info
- Publication number
- JPS61111334A JPS61111334A JP59231140A JP23114084A JPS61111334A JP S61111334 A JPS61111334 A JP S61111334A JP 59231140 A JP59231140 A JP 59231140A JP 23114084 A JP23114084 A JP 23114084A JP S61111334 A JPS61111334 A JP S61111334A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polymer
- discharge treatment
- glow discharge
- polymeric base
- subjected
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Materials For Medical Uses (AREA)
- Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は、高分子表面の改質すなわち高分子基材の表面
のみを処理する事により、基材のバルクとじての性質を
保ちながら、基材の表面を改質する方法に関する。
のみを処理する事により、基材のバルクとじての性質を
保ちながら、基材の表面を改質する方法に関する。
具体的な分野としては、汎用の合成高分子表面が一般に
疎水性であるため、親水性表面に改質することによシ、
印刷性・染色性・帯電防止性・接着性・生体適合性（高
潤滑性・抗血栓性）等を改良することができる。
疎水性であるため、親水性表面に改質することによシ、
印刷性・染色性・帯電防止性・接着性・生体適合性（高
潤滑性・抗血栓性）等を改良することができる。
〈従来技術〉
高分子の表面改質方法は、これまで各種の方法が提唱さ
れ、実用化もされている。本発明者らは、特鳳昭５８−
２４１８７６号において、基材表面にグラフト重合層を
形成して表面改質を行う方法を提唱した。
れ、実用化もされている。本発明者らは、特鳳昭５８−
２４１８７６号において、基材表面にグラフト重合層を
形成して表面改質を行う方法を提唱した。
この方法は、表面処理の経時変化がなく、良好な表面改
質ができるが、グラフト重合時、基材とモノマーを酸素
遮断状態に置く必要があシ、工程として甚だ面倒である
。即ち、複雑な操作を高度の真空下で行うので、製品コ
ストが高くなるという欠点があった。
質ができるが、グラフト重合時、基材とモノマーを酸素
遮断状態に置く必要があシ、工程として甚だ面倒である
。即ち、複雑な操作を高度の真空下で行うので、製品コ
ストが高くなるという欠点があった。
〈発明の目的〉
本発明の目的は、経時変化が少ない良好な処理ができ、
複雑な工程を含まず低コストの高分子表面改質方法を提
供することにある。
複雑な工程を含まず低コストの高分子表面改質方法を提
供することにある。
〈発明の構成〉
本発明は、一種または二種以上の高分子から成る基材の
表面をグロー放電処理する一方、別に一種または二種以
上の重合可能な液状単量体または単量体溶液をグロー放
電処理した後、酸素を遮断した状態で重合を進め、高分
子物とした後大気圧に戻して更に溶媒を加えるか又は加
えずに液状物となし、該基材表面に該高分子溶液を塗布
した後、溶媒を除去して、該基材表面に該高分子薄膜を
形成することを特徴とする。
表面をグロー放電処理する一方、別に一種または二種以
上の重合可能な液状単量体または単量体溶液をグロー放
電処理した後、酸素を遮断した状態で重合を進め、高分
子物とした後大気圧に戻して更に溶媒を加えるか又は加
えずに液状物となし、該基材表面に該高分子溶液を塗布
した後、溶媒を除去して、該基材表面に該高分子薄膜を
形成することを特徴とする。
本発明の方法を詳細に説明する。基材は、天然高分子・
合成高分子例れでも良く、多成分構成でも良い。形状も
フィルム・チェーブ・三次元成形品等で限定しない。
合成高分子例れでも良く、多成分構成でも良い。形状も
フィルム・チェーブ・三次元成形品等で限定しない。
グロー放電処理は、一般にはアルゴン・酸素・空気等の
非重合性ガスを流しながら０．Ｏ１〜数トル程度の真空
度に保ち、電極に高電圧を印加する。
非重合性ガスを流しながら０．Ｏ１〜数トル程度の真空
度に保ち、電極に高電圧を印加する。
放電条件として電源電圧の周波数・電極のタイプ（内部
電極型・外部電極型）等は限定しない。要は放電処理に
よって基材表面に活性種が生成されれば良い。
電極型・外部電極型）等は限定しない。要は放電処理に
よって基材表面に活性種が生成されれば良い。
次に単量体のグロー放電処理であるが、この場合も単量
体中に重合活性種を生成することが目的である。
体中に重合活性種を生成することが目的である。
単量体または単量体に溶媒を加えた溶液を充填した後、
真空排気、した容器中で外部電極方式によジグロー放電
処理を行う。グロー放電が発生するには、容器内真空度
・容器内内容物の温度等が重要な因子である。また外部
電極方式では電源周波数が低いと容器内に電磁波が到達
しないため放電しないから高周波の電源例えば１３．５
６ＭＨ２が適当である。その他、高周波電源と電極の間
にインピーダンスマツチングの設備を設けること、使用
する容器は、パイレックスガラスのような絶縁 ｈ、物
とすること等が必要である。
真空排気、した容器中で外部電極方式によジグロー放電
処理を行う。グロー放電が発生するには、容器内真空度
・容器内内容物の温度等が重要な因子である。また外部
電極方式では電源周波数が低いと容器内に電磁波が到達
しないため放電しないから高周波の電源例えば１３．５
６ＭＨ２が適当である。その他、高周波電源と電極の間
にインピーダンスマツチングの設備を設けること、使用
する容器は、パイレックスガラスのような絶縁 ｈ、物
とすること等が必要である。
単量体または単量体溶液は、グロー放電処理終了後、容
器と真空排気系の間を閉じ、酸素遮断状態で後重合を行
う。重合が進み高分子物が得られたら容器内部は大気圧
に戻す。
器と真空排気系の間を閉じ、酸素遮断状態で後重合を行
う。重合が進み高分子物が得られたら容器内部は大気圧
に戻す。
このようＫして得られた高分子物は、溶媒を用いて、塗
布に適当な粘度に調整した後グロー放電処理済の基材に
接触・塗布する。塗布は、単純に基材を溶液中に浸漬し
引上げる（ディッピング）方法でも良いし、ローラー・
しごき棒等を用いた圧着塗布方法でも良い。
布に適当な粘度に調整した後グロー放電処理済の基材に
接触・塗布する。塗布は、単純に基材を溶液中に浸漬し
引上げる（ディッピング）方法でも良いし、ローラー・
しごき棒等を用いた圧着塗布方法でも良い。
基材のグロー放電処理は、経時変化があシ、時間の経過
で効果が薄れるので、処理後はできるだけ早く塗布を終
らせた方が良く、例えば処理後２週間常温の室内に放置
しておくと塗布液を塗布しても接着力が弱いため後処理
時に塗布膜が離脱してしまう。一方、塗布液は、後重合
終了した後大気圧に戻してから、塗布膜の時間は、問題
にしなくて良い。塗布液は大気圧に戻した時点でほぼ反
応が終了しているためと考えられる。
で効果が薄れるので、処理後はできるだけ早く塗布を終
らせた方が良く、例えば処理後２週間常温の室内に放置
しておくと塗布液を塗布しても接着力が弱いため後処理
時に塗布膜が離脱してしまう。一方、塗布液は、後重合
終了した後大気圧に戻してから、塗布膜の時間は、問題
にしなくて良い。塗布液は大気圧に戻した時点でほぼ反
応が終了しているためと考えられる。
塗布が終ったら、後処理例えば流水処理・熱水処理・熱
溶媒処理乾燥等を行い、終了する。
溶媒処理乾燥等を行い、終了する。
本発明は高分子溶液の塗布によシ基材表面に薄膜を形成
するものであり基材の処理並びに単量体の重合開始に各
々グロー放電を行うが、双方の合着は単なる塗布なので
、グラフト重合のようなわずられしさはない。
するものであり基材の処理並びに単量体の重合開始に各
々グロー放電を行うが、双方の合着は単なる塗布なので
、グラフト重合のようなわずられしさはない。
以下実施例について述べる。
実施例
使用装置；基材のグロー放電処理には島津製作所製プラ
スマ重合装置ＬＣＶＤ−１２型（５ＫＨ２）ｔ、単量体
のグロー放電処理には日本電子製□高周波発振器ＪＥＨ
−００５０（１３，５６ＭＨ２）を使用した。
スマ重合装置ＬＣＶＤ−１２型（５ＫＨ２）ｔ、単量体
のグロー放電処理には日本電子製□高周波発振器ＪＥＨ
−００５０（１３，５６ＭＨ２）を使用した。
後者には、日本電子製自動製全装置ＡＳＴ−０８および
ＬＣＶＤ −１２型でも使用した１４５Ｒ角平行平板電
極を接続使用した。また後者の反応器は３００１ｄのパ
イレックス製セパラブルフラスコを使用、フラスコカバ
ーには真空コックを接続し、更にピラニー真空計付の真
空排気系に接続した。
ＬＣＶＤ −１２型でも使用した１４５Ｒ角平行平板電
極を接続使用した。また後者の反応器は３００１ｄのパ
イレックス製セパラブルフラスコを使用、フラスコカバ
ーには真空コックを接続し、更にピラニー真空計付の真
空排気系に接続した。
使用材料；基材フィルム：０．３ｍ厚市販ポリウレタン
シート（式日薬品製タケラックＴ −８５０）チェープ
：押出成形した低密度ポリエチレン（住友化学製Ｆ −
１０１）外径６．０ ｍ内径４．０前、押出成形したポ
リウレタン（式日薬品製Ｔ −８５０）外径５．０ ｍ
ｓ内径λ５ｍ 七ツマー；メトキシテトラエチレングリコールメタアク
リレート（新中村化学工学■製・以下Ｍ−４Ｇと略称）
、Ｎ、Ｎジメチルアクリルアミド（■県人製以下ＤＭ
ＡＡＭと略称）これらはいずれも特に）分離精製せずそ
の１１使用した。
シート（式日薬品製タケラックＴ −８５０）チェープ
：押出成形した低密度ポリエチレン（住友化学製Ｆ −
１０１）外径６．０ ｍ内径４．０前、押出成形したポ
リウレタン（式日薬品製Ｔ −８５０）外径５．０ ｍ
ｓ内径λ５ｍ 七ツマー；メトキシテトラエチレングリコールメタアク
リレート（新中村化学工学■製・以下Ｍ−４Ｇと略称）
、Ｎ、Ｎジメチルアクリルアミド（■県人製以下ＤＭ
ＡＡＭと略称）これらはいずれも特に）分離精製せずそ
の１１使用した。
、グロー放電処理；基材：前述装置使用し、公知の方法
で処理。平行平板内部電極使用。モノマー放電処理：前
述装置し、平行平板外部電極使用。
で処理。平行平板内部電極使用。モノマー放電処理：前
述装置し、平行平板外部電極使用。
後重合はコックを閉じて室温放置し２日後開封。
塗布方法：フィルムの場合、ホーローパットに塗布液を
入れ、フィルムを浸して引上げる。チェーブの場合、試
験管に塗布液を入れチェーブを浸して引上げる。
入れ、フィルムを浸して引上げる。チェーブの場合、試
験管に塗布液を入れチェーブを浸して引上げる。
後処理；１晩風乾後、水メタノール等量混合液！ 中
５０℃２時間次に真空乾燥３時間。
５０℃２時間次に真空乾燥３時間。
評価；潤滑性テストを実施した。フィルムの場合、摩擦
相手材はシリコンゴムを使用、接触面積１５Ｘ２０ｍで
試料に２００ｔの重シをセットし、５０ ｗｓａ、 ／
ｍｉｎの速度で水潤滑下で摩擦力をロードセルで測定
し、摩擦係数を算出した。チェープの場合、チ晶−プ内
部に金属棒を挿入し、チ１ニブ表面に、１００Ｆの重り
をつけたシリコンゴムシートを直角に水潤滑下で接触さ
せ摩擦力をロードセルで測定した。
相手材はシリコンゴムを使用、接触面積１５Ｘ２０ｍで
試料に２００ｔの重シをセットし、５０ ｗｓａ、 ／
ｍｉｎの速度で水潤滑下で摩擦力をロードセルで測定
し、摩擦係数を算出した。チェープの場合、チ晶−プ内
部に金属棒を挿入し、チ１ニブ表面に、１００Ｆの重り
をつけたシリコンゴムシートを直角に水潤滑下で接触さ
せ摩擦力をロードセルで測定した。
第１表に実施例１〜３、比較例１〜５を、第２表に実施
例４比較例６．７を示す。明らかに本発明による方法で
疎水性基材表面に、親水性ポリマ一層まえは少なくとも
同ポリマーを１種含訃ポリマ一層が形成された結果、水
潤滑性が良好であり、経時変化も少ない。本発明は、例
えば尿道カテーテル・栄養チェーブ等医療用具に応用す
ることができる。本発明を、これらの医療用具に応用す
れば人体装着時の物理的刺敏を軽微にすることができる
。
例４比較例６．７を示す。明らかに本発明による方法で
疎水性基材表面に、親水性ポリマ一層まえは少なくとも
同ポリマーを１種含訃ポリマ一層が形成された結果、水
潤滑性が良好であり、経時変化も少ない。本発明は、例
えば尿道カテーテル・栄養チェーブ等医療用具に応用す
ることができる。本発明を、これらの医療用具に応用す
れば人体装着時の物理的刺敏を軽微にすることができる
。
第 １ 表
注ＩＰＵ：ポリウレタン、 ５ＰＶＣ：軟質ポリ塩化ビ
ニル 注２ Ｔ：チ島−プ状 注３ Ｐ：プラズマも塩ＡｒガスＸ Ｚｏｏ Ｗ ｘ
１Ｇ分、Ｎ：未処罵 注４ Ｍ：Ｍ−４Ｇ１０チ水溶液、Ｄ／Ｍ ： ＤＭ
ＡＡＭ７．５チ、Ｍ−４０４５−水溶液 注５ ｎ−６（チ為−プ３本×測定箇所２ケ所）の平均
値 第 ２ 表
ニル 注２ Ｔ：チ島−プ状 注３ Ｐ：プラズマも塩ＡｒガスＸ Ｚｏｏ Ｗ ｘ
１Ｇ分、Ｎ：未処罵 注４ Ｍ：Ｍ−４Ｇ１０チ水溶液、Ｄ／Ｍ ： ＤＭ
ＡＡＭ７．５チ、Ｍ−４０４５−水溶液 注５ ｎ−６（チ為−プ３本×測定箇所２ケ所）の平均
値 第 ２ 表
Claims (2)
- （１）一種または二種以上の高分子から成る基材の表面
をグロー放電処理する一方、別に一種または二種以上の
重合可能な液状単量体又は単量体溶液をグロー放電処理
した後、酸素を遮断した状態で重合を進め高分子物とし
た後大気圧に戻し溶媒を加えるか又は加えずに液状物と
し、表面をグロー放電処理した該基材表面に該高分子溶
液を塗布した後、溶媒を除去して該基材表面に該高分子
薄膜を形成することを特徴とする高分子表面改質方法。 - （２）基材に疎水性高分子を少なくとも一種含み、塗布
液に親水性高分子を少なくとも一種含む特許請求の範囲
第１項記載の高分子表面改質方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59231140A JPS61111334A (ja) | 1984-11-05 | 1984-11-05 | 高分子表面改質方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59231140A JPS61111334A (ja) | 1984-11-05 | 1984-11-05 | 高分子表面改質方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61111334A true JPS61111334A (ja) | 1986-05-29 |
Family
ID=16918908
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59231140A Pending JPS61111334A (ja) | 1984-11-05 | 1984-11-05 | 高分子表面改質方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61111334A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1996005245A1 (en) * | 1994-08-10 | 1996-02-22 | Yifei Zhang | A process for material modification, modified products and apparatus thereof |
| US7979943B2 (en) | 2004-12-24 | 2011-07-19 | Olympus Corporation | Cleaning brush |
-
1984
- 1984-11-05 JP JP59231140A patent/JPS61111334A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1996005245A1 (en) * | 1994-08-10 | 1996-02-22 | Yifei Zhang | A process for material modification, modified products and apparatus thereof |
| US7979943B2 (en) | 2004-12-24 | 2011-07-19 | Olympus Corporation | Cleaning brush |
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