JPS61107642A - X線発生用タ−ゲツトの冷却方法 - Google Patents
X線発生用タ−ゲツトの冷却方法Info
- Publication number
- JPS61107642A JPS61107642A JP59230609A JP23060984A JPS61107642A JP S61107642 A JPS61107642 A JP S61107642A JP 59230609 A JP59230609 A JP 59230609A JP 23060984 A JP23060984 A JP 23060984A JP S61107642 A JPS61107642 A JP S61107642A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- target
- liquefied gas
- cooling
- cavity part
- rays
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J35/00—X-ray tubes
- H01J35/02—Details
- H01J35/04—Electrodes ; Mutual position thereof; Constructional adaptations therefor
- H01J35/08—Anodes; Anti cathodes
- H01J35/12—Cooling non-rotary anodes
- H01J35/13—Active cooling, e.g. fluid flow, heat pipes
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Fluid Mechanics (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、>14発生用ターグントの冷却方法に関す
るものである。
るものである。
従来、この棟の装置として第2図に示すものがあった。
第2図において、1は円筒形状を有するX線発生用ター
ゲット(以下単にターゲットというン、2は前記ターゲ
ット1を支持するターゲット支持部%3は前記ターゲッ
ト1に照射する電子ビーム、4は前記′電子ビーム3の
照射により発生したX&、5は冷却水用パイプ、6は前
記1冷却水用パイプ5に九丁冷却水である。
ゲット(以下単にターゲットというン、2は前記ターゲ
ット1を支持するターゲット支持部%3は前記ターゲッ
ト1に照射する電子ビーム、4は前記′電子ビーム3の
照射により発生したX&、5は冷却水用パイプ、6は前
記1冷却水用パイプ5に九丁冷却水である。
次に動作について説明する。
ターゲット支持部2に支持されたターゲット1にlO〜
20 KV、〜IA程度の電子ビーム3をスポット状に
照射させ、ここから発生するXW4を微細パターン形成
に用いるものであるが、このとき、胤子ヒーム3の当た
った部分が高温になるため、これを冷却するためにター
ゲット支持部2を介して冷却水用パイプ5をターゲット
1の近くまで通し、冷却水6を注入することによってタ
ーゲット1で発生する熱を放熱しようとするものである
。
20 KV、〜IA程度の電子ビーム3をスポット状に
照射させ、ここから発生するXW4を微細パターン形成
に用いるものであるが、このとき、胤子ヒーム3の当た
った部分が高温になるため、これを冷却するためにター
ゲット支持部2を介して冷却水用パイプ5をターゲット
1の近くまで通し、冷却水6を注入することによってタ
ーゲット1で発生する熱を放熱しようとするものである
。
〔発明が解決しようとてる間−過点J
従来のターゲット1の冷却方法は以上のように構成され
ているので、冷却水6の水温、水流の速度等によって放
熱が十分になされず、これがXf1出力の向上、さらに
は電子ビーム3の加速電圧を上げて、ざらにX4M4の
出力を上げることができない等の欠点があった。
ているので、冷却水6の水温、水流の速度等によって放
熱が十分になされず、これがXf1出力の向上、さらに
は電子ビーム3の加速電圧を上げて、ざらにX4M4の
出力を上げることができない等の欠点があった。
この発明は、上記のような従来のものの欠点を除去する
ためになされたもので、圧縮した液化ガスを利用し、さ
らに冷却効果を向上せしめることを目的とするものであ
る。
ためになされたもので、圧縮した液化ガスを利用し、さ
らに冷却効果を向上せしめることを目的とするものであ
る。
この発明のターゲットの冷却方法は、ターゲットを支持
てるターゲット支持部のターゲット側に空洞部を設け、
この空洞部に圧縮した液化ガスを送込み、七の気化熱で
ターゲットを冷却するものである。
てるターゲット支持部のターゲット側に空洞部を設け、
この空洞部に圧縮した液化ガスを送込み、七の気化熱で
ターゲットを冷却するものである。
この発明においては、ターゲットに照射された電子ビー
ムにより高温になったターゲットは、空洞部へ送込まれ
た液化ガスが気化する際の気化熱圧よりターゲットの熱
を奪いターゲットを冷却する。
ムにより高温になったターゲットは、空洞部へ送込まれ
た液化ガスが気化する際の気化熱圧よりターゲットの熱
を奪いターゲットを冷却する。
第1図はこの発明の一実施例を説明するための概略構成
図で、1〜4は第2図に示したものと同じものであり、
7は前記ターゲット支持部2のターゲット1側に形成さ
れた空洞部、8は前記空?回部7と連通して設けられた
液化ガス用パイプであり、この液化ガス用パイプ8から
圧縮された液化ガス9が空洞部Tに送込まれ、ここで気
化する。
図で、1〜4は第2図に示したものと同じものであり、
7は前記ターゲット支持部2のターゲット1側に形成さ
れた空洞部、8は前記空?回部7と連通して設けられた
液化ガス用パイプであり、この液化ガス用パイプ8から
圧縮された液化ガス9が空洞部Tに送込まれ、ここで気
化する。
10は前記液化ガス用パイプ8のノズル部を示す。
次に動作について説明する@
Xi4を発生させるために、ターゲット1には1〜2人
程度の高圧、大電流の電子ヒーム3をスポット状に照射
する。このため、完熱によるターゲット1の損傷、X線
4の発生効率の低下を生じる。そこで、この発明では、
従来の水冷よりも冷却効果が著しいガスの気化熱を利用
した冷却方法を用いたものである。
程度の高圧、大電流の電子ヒーム3をスポット状に照射
する。このため、完熱によるターゲット1の損傷、X線
4の発生効率の低下を生じる。そこで、この発明では、
従来の水冷よりも冷却効果が著しいガスの気化熱を利用
した冷却方法を用いたものである。
すなわち、第1図に示すように、圧縮液化させた、例え
ばフレオン等の液化ガス9をノズル部10からターゲッ
ト支持部2に設けた空洞部1に吹き出てと、空洞部1で
@故に気化しガス状になる。
ばフレオン等の液化ガス9をノズル部10からターゲッ
ト支持部2に設けた空洞部1に吹き出てと、空洞部1で
@故に気化しガス状になる。
このとき、気化熱を奪うために数置の温度に下がり、タ
ーゲット支持部2に接するターゲット1を冷却すること
ができ、水冷却における温度より低い温度まで冷却する
ことができる。したがって、X&14の発生効率の向上
、さらには大電流の電子ビーム3を照射することができ
、大きな出力のX線4を取り出てことができる。ガス状
となった冷媒は、再びコンプレッサ等で圧縮させること
により液化することがt’lH’Qであり、このサイク
ルの循環によって常に数置の温度にターゲット1を保つ
ことができる。
ーゲット支持部2に接するターゲット1を冷却すること
ができ、水冷却における温度より低い温度まで冷却する
ことができる。したがって、X&14の発生効率の向上
、さらには大電流の電子ビーム3を照射することができ
、大きな出力のX線4を取り出てことができる。ガス状
となった冷媒は、再びコンプレッサ等で圧縮させること
により液化することがt’lH’Qであり、このサイク
ルの循環によって常に数置の温度にターゲット1を保つ
ことができる。
なお、上記実施例では、液化ガス9としてフレオン等の
ガスを冷媒として示したが、他の圧縮液化ガスでも同様
の効果を奏することはいうまでもない。
ガスを冷媒として示したが、他の圧縮液化ガスでも同様
の効果を奏することはいうまでもない。
この発明は以上説明したとおり、ターゲット支持部のタ
ーゲット側に液化ガスを気化するに必要な空洞部を形成
し、この空洞部に液化ガスを込込んで気化熱によりター
ゲットを冷却するようにしたので、従来の冷却方法より
も優れた冷却効果があり、XNAの発生効率の向上、さ
らに大きなX線出力を取り出すことができる利点が得ら
れる。
ーゲット側に液化ガスを気化するに必要な空洞部を形成
し、この空洞部に液化ガスを込込んで気化熱によりター
ゲットを冷却するようにしたので、従来の冷却方法より
も優れた冷却効果があり、XNAの発生効率の向上、さ
らに大きなX線出力を取り出すことができる利点が得ら
れる。
第1図はこの発明の一実m例のターゲットの冷却方法を
説明するだめの断面図、第2図は従来のターゲットの冷
却方法な説明するだめの断面図である。 図において、1はターゲット、2はターゲット支持部、
3は電子ビーム、4はX線、7は空洞部、8は液化ガス
用パイプ、9は液化ガス、10はノズル部である。 なお、各図中同一符号は同一または相当部分を示す。
説明するだめの断面図、第2図は従来のターゲットの冷
却方法な説明するだめの断面図である。 図において、1はターゲット、2はターゲット支持部、
3は電子ビーム、4はX線、7は空洞部、8は液化ガス
用パイプ、9は液化ガス、10はノズル部である。 なお、各図中同一符号は同一または相当部分を示す。
Claims (1)
- ターゲット支持部に支持されたターゲットに電子ビーム
を照射することによってX線を発生させるX線発生用タ
ーゲットの冷却方法において、前記ターゲット支持部の
前記ターゲット側に液化ガスが気化するに必要な空洞部
を形成し、この空洞部に液化ガス用パイプを介して圧縮
された液化ガスを送込み前記液化ガスが気化する際の気
化熱で前記ターゲットを冷却することを特徴とするX線
発生用ターゲットの冷却方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59230609A JPS61107642A (ja) | 1984-10-30 | 1984-10-30 | X線発生用タ−ゲツトの冷却方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59230609A JPS61107642A (ja) | 1984-10-30 | 1984-10-30 | X線発生用タ−ゲツトの冷却方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61107642A true JPS61107642A (ja) | 1986-05-26 |
Family
ID=16910437
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59230609A Pending JPS61107642A (ja) | 1984-10-30 | 1984-10-30 | X線発生用タ−ゲツトの冷却方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61107642A (ja) |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2847074A1 (fr) * | 2002-11-08 | 2004-05-14 | Thales Sa | Generateur de rayons x a dissipation thermique amelioree et procede de realisation du generateur |
EP1493466A1 (en) * | 2003-06-30 | 2005-01-05 | Nucletron B.V. | Miniature X-ray source with cryogenic cooling |
KR101150778B1 (ko) | 2010-12-02 | 2012-06-14 | 주식회사 쎄크 | 공업용 ct장비의 x선 튜브장치 |
US9726619B2 (en) | 2005-10-25 | 2017-08-08 | Rapiscan Systems, Inc. | Optimization of the source firing pattern for X-ray scanning systems |
US10483077B2 (en) | 2003-04-25 | 2019-11-19 | Rapiscan Systems, Inc. | X-ray sources having reduced electron scattering |
US10901112B2 (en) | 2003-04-25 | 2021-01-26 | Rapiscan Systems, Inc. | X-ray scanning system with stationary x-ray sources |
US10976271B2 (en) | 2005-12-16 | 2021-04-13 | Rapiscan Systems, Inc. | Stationary tomographic X-ray imaging systems for automatically sorting objects based on generated tomographic images |
CN113205986A (zh) * | 2021-05-10 | 2021-08-03 | 浙江万森电子科技有限公司 | 一种高效散热的x射线管 |
-
1984
- 1984-10-30 JP JP59230609A patent/JPS61107642A/ja active Pending
Cited By (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2004042769A1 (fr) * | 2002-11-08 | 2004-05-21 | Thales | Generateur de rayons x a dissipation thermique amelioree et procede de realisation du generateur |
FR2847074A1 (fr) * | 2002-11-08 | 2004-05-14 | Thales Sa | Generateur de rayons x a dissipation thermique amelioree et procede de realisation du generateur |
US10483077B2 (en) | 2003-04-25 | 2019-11-19 | Rapiscan Systems, Inc. | X-ray sources having reduced electron scattering |
US11796711B2 (en) | 2003-04-25 | 2023-10-24 | Rapiscan Systems, Inc. | Modular CT scanning system |
US10901112B2 (en) | 2003-04-25 | 2021-01-26 | Rapiscan Systems, Inc. | X-ray scanning system with stationary x-ray sources |
JP2005026232A (ja) * | 2003-06-30 | 2005-01-27 | Nucletron Bv | 極低温x線源装置 |
AU2004202788B2 (en) * | 2003-06-30 | 2008-10-09 | Nucletron B.V. | Miniature x-ray source device |
US7027560B2 (en) | 2003-06-30 | 2006-04-11 | Nucletron B.V. | Cryogenic x-ray source device |
EP1493466A1 (en) * | 2003-06-30 | 2005-01-05 | Nucletron B.V. | Miniature X-ray source with cryogenic cooling |
US9726619B2 (en) | 2005-10-25 | 2017-08-08 | Rapiscan Systems, Inc. | Optimization of the source firing pattern for X-ray scanning systems |
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