JPS61107108A - Profile meter - Google Patents

Profile meter

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JPS61107108A
JPS61107108A JP59229239A JP22923984A JPS61107108A JP S61107108 A JPS61107108 A JP S61107108A JP 59229239 A JP59229239 A JP 59229239A JP 22923984 A JP22923984 A JP 22923984A JP S61107108 A JPS61107108 A JP S61107108A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
proofreading
calibration
plate thickness
channel
radiation
Prior art date
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Pending
Application number
JP59229239A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Junichi Murakami
純一 村上
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP59229239A priority Critical patent/JPS61107108A/en
Publication of JPS61107108A publication Critical patent/JPS61107108A/en
Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B15/00Measuring arrangements characterised by the use of electromagnetic waves or particle radiation, e.g. by the use of microwaves, X-rays, gamma rays or electrons
    • G01B15/02Measuring arrangements characterised by the use of electromagnetic waves or particle radiation, e.g. by the use of microwaves, X-rays, gamma rays or electrons for measuring thickness
    • G01B15/025Measuring arrangements characterised by the use of electromagnetic waves or particle radiation, e.g. by the use of microwaves, X-rays, gamma rays or electrons for measuring thickness by measuring absorption

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Length-Measuring Devices Using Wave Or Particle Radiation (AREA)
  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)

Abstract

PURPOSE:To enable short-time proofreading at each necessary measuring time other than fundamental proofreading, by successively performing simple proofreading by using the data of the fundamental proof reading. CONSTITUTION:When a simple proofreading order is imparted, a three-point set plate thickness coarser than fundamental proofreading is inputted within the input range of the seven-point set plate thickness of the fundamental proofreading by a keyboard 228 to be stored in RAM223. Next, CPU224 calculates three proofreading points on the basis of the calculation formula of ROM222 and imparts simple proofreading processing at one proofreading point to CPU of plate thickness converting units 21a-21c from CPU224. A reference plate driving part 227 is operated by the order of CPU224 and selects the reference plate 13 corresponding to one proofreading point and sets the same to the front surface side of each of radiation generators 12, ... to irradiate each of fanwise radiation beams 14, .... The units 21a-21c calculate the detection voltages of all channels by inverse operation on the basis of sensitivity coefficient between channels preliminarily calculated by fundamental proofreading and calculates a proofreading curve to use the same in the proofreading of the profile measurement of an article 10 to be measured.

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明は、例えば板状被測定物のプロフィール(断面形
状)を測定するプロフィールメータの改良に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Technical Field of the Invention] The present invention relates to an improvement in a profile meter that measures the profile (cross-sectional shape) of, for example, a plate-shaped object to be measured.

〔発明の技術的背景〕[Technical background of the invention]

従来、圧延中の銅板のプロフィールメータを測定する手
段としては、鋼板等の被測定物を所要の間隔を有して挾
むように形成されたcgフレームの上側フレームに複数
のX線発生器およびこれらのX線発生器の前面側に個別
に進退可能な基準板がそれぞれ配置され、一方、下側フ
レームには各X線発生器から放射されるファン状X綜ビ
ームを各X線発生器ごとに対応して受ける配置関係をも
って複数の多チヤンネルX線検出器が設置されている。
Conventionally, as a means for measuring a copper plate being rolled using a profile meter, a plurality of X-ray generators are mounted on the upper frame of a CG frame formed to sandwich an object to be measured such as a steel plate at a required interval. A reference plate that can be moved forward and backward individually is placed on the front side of the X-ray generator, while the lower frame corresponds to the fan-shaped X-ray beam emitted from each X-ray generator. A plurality of multi-channel X-ray detectors are installed in such a manner as to receive the same.

さらに、このC型7レームには各X線検出器の各チャン
ネルごとに得られたデータを収集するデータ収集部が設
けられ、ここで収集されたデータはCmフレーム外の信
号処理部に送られる。
Furthermore, this C-type 7 frame is provided with a data collection section that collects data obtained for each channel of each X-ray detector, and the data collected here is sent to a signal processing section outside the Cm frame. .

この信号処理部は、全体を統括制御するシステムコント
ローラと、このコントローラからの指令に基づいて各X
線発生器に駆動信号を与える各X線発生器ごとに設けら
れた複数のX線制御部と、前記データ収集部からのデー
タを受けて板厚信号に変換しシステムコントローラへ与
える板厚変換ユニット部と1.システムコントローラか
らのデータに基づいてX線発生器、被測定物および多チ
ヤンネルX線検出器等の配置関係から各々の多チヤンネ
ルX線検出器の被測定物上での厚み測定位置を算出し、
この厚み測定位置と厚みとの関係を表示装置に送出して
二次元表示する表示処理部とで構成されている。
This signal processing section includes a system controller that centrally controls the entire system, and each X
a plurality of X-ray control units provided for each X-ray generator that provides drive signals to the ray generator; and a plate thickness conversion unit that receives data from the data collection unit, converts it into a plate thickness signal, and provides it to the system controller. Part and 1. Based on the data from the system controller, calculate the thickness measurement position of each multi-channel X-ray detector on the object to be measured from the arrangement relationship of the X-ray generator, the object to be measured, the multi-channel X-ray detector, etc.,
It is comprised of a display processing section that sends the relationship between the thickness measurement position and the thickness to a display device and displays it two-dimensionally.

〔背景技術の問題点〕[Problems with background technology]

ところで、この種のプロフィールメータは、検出電圧と
板厚の関係を得るため、前述したように各X線発生器の
前面側に順次基準板を挿入していき、各X線発生器から
対応する基準板を通って入射される透過X線ビームを各
X線検出器で検出することにより校正信号を得、この校
正信号を用いて校正を行っている。また、X線発生器か
ら照射されるX線の発生は長期的には不安定な状態にあ
り、このためドリフトの影響を除去するために校正は頻
繁゛に行れている。特に、プロフィニルメータでは、各
チャンネルがそれぞれ1台のX線厚さ計と考えられるが
、これら各チャンネルごとに独立に校正した場合には精
度の高い校正データは得られるが、校正時間が長時間必
要とする欠点がある。即ち、校正時間は、1台のX線厚
さ計に比較してチャンネル数倍だけ必要とし、更にこれ
に統計ノイズの増加分が加わった時間となる。しかも、
統計ノイズの量は、電離箱形xwA検出器の場合には容
積比で決まるが、各多チヤンネルX線検出器におCチる
1チャンネル分の容積は従来のX#!厚さ計で用いられ
ている電離箱形X線検出器と比べて約17□(4)と小
さく、この結果、統計ノイズは約10倍に増加し、この
ため校正時間が余計にかかる不具合がある。
By the way, in this type of profile meter, in order to obtain the relationship between the detected voltage and the plate thickness, as mentioned above, the reference plate is sequentially inserted into the front side of each X-ray generator, and the corresponding reference plate is inserted from each X-ray generator. A calibration signal is obtained by detecting the transmitted X-ray beam incident through the reference plate with each X-ray detector, and calibration is performed using this calibration signal. Furthermore, the generation of X-rays emitted from the X-ray generator remains unstable over the long term, and therefore calibration is frequently performed to remove the influence of drift. In particular, in the case of a profinil meter, each channel can be thought of as one X-ray thickness meter, but if each channel is calibrated independently, highly accurate calibration data can be obtained, but the calibration time is long. The drawback is that it requires time. That is, the calibration time is required to be twice as long as the number of channels compared to a single X-ray thickness meter, and the time required is the time in addition to the increase in statistical noise. Moreover,
The amount of statistical noise is determined by the volume ratio in the case of an ionization chamber type xwA detector, but the volume for one channel of each multi-channel X-ray detector is smaller than the conventional X#! Compared to the ionization chamber type X-ray detector used in thickness gauges, it is smaller at approximately 17□(4), and as a result, the statistical noise increases approximately 10 times, resulting in a problem that requires additional calibration time. be.

〔発明の目的〕[Purpose of the invention]

本発明は以上のような点に着目してなされたもので、本
来の基本校正の外に、各測定時において必要な時に単純
校正を行って校正時間の単線化を図るプロフィールメー
タを提供スることにある。
The present invention has been made with attention to the above points, and provides a profile meter that performs simple calibration when necessary in each measurement in addition to the original basic calibration, thereby reducing the calibration time to a single line. There is a particular thing.

〔発明の概要〕[Summary of the invention]

本発明は、異なる複数の板厚の基準板を順次セットして
高精度の校正曲線およびチャンネル間感度係数を求める
基本校正処理のほかに、この基本校正処理時の複数の板
厚よりも少ない数の基準板を順次セットし、このとき多
チャンネル検出器から得られる検出電圧から複数チャン
ネルのブロックごとに平均検出電圧を求め、この平均検
出電圧と前記チャンネ′ル間感度係数がら逆算して全チ
ャンネルの検出電圧を求めて校正曲線を作成する単純校
正処理を付加し、校正を単時間で行うプロフィールメー
タである。
In addition to a basic calibration process in which reference plates of a plurality of different plate thicknesses are sequentially set to obtain a highly accurate calibration curve and an inter-channel sensitivity coefficient, the present invention also includes At this time, the average detection voltage is calculated for each block of multiple channels from the detection voltage obtained from the multi-channel detector, and the average detection voltage and the sensitivity coefficient between channels are calculated backwards to calculate the average detection voltage for all channels. This is a profile meter that performs calibration in a single time by adding a simple calibration process that calculates the detected voltage and creates a calibration curve.

〔発明の実施例〕[Embodiments of the invention]

次に、本発明の一実施例について第1図ないし第7図を
参照して説明する。第1図はプロフィールメータ全体の
構成図、第2図は第1図に示すデータ収集部のブロック
図、第3図は第1図に示すシステム;ントロー2の構成
図、第4図は第1図に示す板厚変換ユニットの構成図、
第5図および第6図は本発明の要旨の一部となる基本校
正処理の流れ図およびその基本校正処理によって得られ
た校正曲線図、第7図は同じく本発明の要旨の一部とな
る単純校正処理の流れ図である。
Next, an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 7. Fig. 1 is a block diagram of the entire profile meter, Fig. 2 is a block diagram of the data collection section shown in Fig. 1, Fig. 3 is a block diagram of the system shown in Fig. 1; The configuration diagram of the plate thickness conversion unit shown in the figure,
5 and 6 are a flowchart of the basic calibration process, which is part of the gist of the present invention, and a calibration curve diagram obtained by the basic calibration process, and FIG. 7 is a simple diagram, which is also part of the gist of the present invention. It is a flow chart of proofreading processing.

先ず、第1図およびM2図にてプロフィールメータの全
体構成を説明する。これらの図において10は例えば圧
延中の鋼板等の被測定物であって、これは紙面と直交す
る方向に例えば間欠停止または連続搬送されているもの
とする。
First, the overall configuration of the profile meter will be explained with reference to FIG. 1 and FIG. M2. In these figures, reference numeral 10 denotes an object to be measured, such as a steel plate being rolled, for example, which is intermittently stopped or continuously transported in a direction perpendicular to the plane of the paper.

11は被測定物10を所要の間隔をもって挾むように形
成された(litフレームであって、その上側フレーム
l1mには複数の放射線発生器12、・・・およびこれ
らの放射線発生器12.・・・の前面側に個別に進退自
在に基準板13.・・・が設けられている。一方、下側
フレームllbには各放射線発生器12.・・・から放
射されるファン状放射綜ビーム14.・・・を各放射線
発生器12、・・・ごとに受ける複数の多チャンネル検
出器15.・・・が設けられている。これらの多チャン
ネル検出器15.・・・によって検出された入射放射線
強度に比例する電気的な信号は同じくC聾フレーム1)
に設置されているデータ収集部16に送出される。
Reference numeral 11 is a lit frame formed to sandwich the object to be measured 10 at a required interval, and the upper frame l1m includes a plurality of radiation generators 12, . . . and these radiation generators 12, . . . A reference plate 13... is provided on the front side of the frame so as to be able to move forward and backward individually.On the other hand, a fan-shaped radial beam 14... emitted from each radiation generator 12... is provided on the lower frame llb. A plurality of multi-channel detectors 15 are provided which receive radiation from each radiation generator 12, . . . . The incident radiation detected by these multi-channel detectors 15 . The electrical signal proportional to the intensity is also C deaf frame 1)
The data is sent to the data collection unit 16 installed in the.

このデータ収集部16は、多チャンネル検出器15.・
・・の個数に等しい数のデータ収集ユニ:’!ト1ea
〜16cを有し、各多チャンネル検出器15.・・・か
らの検出信号を収集しディジタル化して信号処理部20
に伝送する機能を持っている0各デiり収集ユニット1
6a〜16aは、第2図に示すように多チャンネル検出
器15の各チャンネル検出信号を増幅するプリアンプ1
61と、伝送制御部162と、プリアンプ161によっ
て増幅された各チャンネル検出信号を伝送制御部162
からの高速タイミング信号により同一位置の幅方向に従
って順次取り込んで出力するマルチプレクf163と、
このマルチプレクf 16 Sから出力された各チャン
ネルごとの検出信号をディジタル化する人/D変換回路
164と、伝送制御部162からのタイミング信号によ
り多チャンネル検出器15の多チャンネル分をまとめて
同一位置の幅方向の検出データとして信号処理部20の
板厚変換ユニット部21に送出する伝送ドライバ165
とによって構成されている。なお、伝送制御部162は
、信号処理部20からの指令に従って所要のタイミング
信号を各構成要素163〜165に供給するものである
This data acquisition section 16 includes a multi-channel detector 15.・
A number of data collection units equal to the number of: '! t1ea
~16c, each multi-channel detector 15. The detection signals from ... are collected and digitized, and the signal processing unit 20
Each data collection unit has the function of transmitting data to
6a to 16a are preamplifiers 1 for amplifying each channel detection signal of the multi-channel detector 15 as shown in FIG.
61, a transmission control unit 162, and a transmission control unit 162 that transmits each channel detection signal amplified by the preamplifier 161.
A multiplexer f163 that sequentially captures and outputs the same position in the width direction using a high-speed timing signal from the
A human/D converter circuit 164 that digitizes the detection signal for each channel output from the multiplexer f16S and a timing signal from a transmission control section 162 collectively digitize the multiple channels of the multichannel detector 15. A transmission driver 165 sends the detection data in the width direction of the position to the plate thickness conversion unit section 21 of the signal processing section 20.
It is composed of. Note that the transmission control unit 162 supplies required timing signals to each of the components 163 to 165 in accordance with instructions from the signal processing unit 20.

前記信号処理部20は、全体を統括制御するシステムコ
ントローラ22と、このコントローラ22からの指令に
基づいて各放射線発生器12、・・・に駆動信号を与え
る各放射線発生器12に対応して設けられた複数の放射
線制御部23と、複数の板厚変換ユニツ)21a〜21
aを持った板厚変換ユニット部2ノと、表示処理部24
とを有し、この表示処理部24で処理された厚み測定位
置および厚み信号を表示装置25に表示するようになっ
ている。
The signal processing unit 20 is provided corresponding to a system controller 22 that centrally controls the entire system, and each radiation generator 12 that provides a drive signal to each radiation generator 12 based on a command from this controller 22. a plurality of radiation control units 23 and a plurality of plate thickness conversion units) 21a to 21
The plate thickness conversion unit section 2 with a and the display processing section 24
The thickness measurement position and the thickness signal processed by the display processing section 24 are displayed on the display device 25.

次に、第3図はシステム;ントロー222の内部構成を
示す図であって、これはシステムバス221に、データ
処理プログラムや校正処理プログラム、更には演算上の
計算式や固定係数等のデータを記憶するROM(リード
・オンリー・メモIJ ) 222および演算処理デー
タその他必袂なデータを記憶するRAM(ランダム・ア
クセス・メモリ)223のほか、前記ROM222およ
びROM2f4内に格納されているプログラムおよび必
要なデータを読出して演算を実行する中央処理ユニット
(以下、CPUと指体する)224等が接続されている
。また、システムバス221にはインターフェイス22
5を介して前記データ収集部16の伝送ドライブ165
および伝送制御部162に一端が接続されるライン22
6と接続されている。227は基準板駆動部、228は
キーボード、229はインターフェイスである。なお、
システムバス221には図示されていないが表示処理部
24が接続されている。
Next, FIG. 3 is a diagram showing the internal configuration of the system; controller 222, which transmits data processing programs, calibration processing programs, and data such as calculation formulas and fixed coefficients to the system bus 221. In addition to a ROM (read-only memory IJ) 222 for storing data and a RAM (random access memory) 223 for storing arithmetic processing data and other necessary data, programs and necessary data stored in the ROM 222 and ROM2f4 are stored. A central processing unit (hereinafter referred to as CPU) 224, etc., which reads data and executes calculations, is connected. The system bus 221 also includes an interface 22.
Transmission drive 165 of the data collection unit 16 via 5
and a line 22 whose one end is connected to the transmission control unit 162
6 is connected. 227 is a reference plate drive unit, 228 is a keyboard, and 229 is an interface. In addition,
Although not shown, the display processing section 24 is connected to the system bus 221.

更に、第4図は板厚変換ユニット部21の具体的構成例
を示す図であって、システムバス221に例えば共通R
AM21Z を介して内部バス212を有し、このバス
212にはCPU213゜ROM2f4  およびRA
MJ Z 5が接続されている0 次に、以上のように構成されたプロフィールメータの作
用を説明する。
Furthermore, FIG. 4 is a diagram showing a specific configuration example of the plate thickness conversion unit section 21, in which a common R is connected to the system bus 221, for example.
It has an internal bus 212 via AM21Z, and this bus 212 has a CPU 213゜ROM 2f4 and RA.
MJ Z 5 is connected 0 Next, the operation of the profile meter configured as above will be explained.

(1)板厚データ測定動作 被測定物10が第1因に示す如く紙面奥行方向から手前
に所定の搬送速度でライン上を搬送しているものとする
。この状態において人為的またはプログラムに従ってデ
ータ測定開始指令を与えると、システムコントローラ2
2は放射線制御部23に駆動開始制御データを送出する
。ここで、放射線制御部23は各放射線発生器12.・
・・を例えば連続的に駆動制御し、各放射線発生器12
.・・・からファン状放射線ビーム14を被測定物lo
側へ照射する。このとき、各基準板13.・・・は、各
基準板駆動部227からの信号を受けて駆動コイル(図
示せず)が消磁され、放射線発生器12.・・・の前面
側より後退した状態に設定されている。
(1) Plate Thickness Data Measuring Operation As shown in the first factor, it is assumed that the object to be measured 10 is being conveyed on the line from the depth direction of the page toward you at a predetermined conveyance speed. In this state, if a data measurement start command is given manually or according to a program, the system controller 2
2 sends drive start control data to the radiation control unit 23. Here, the radiation control section 23 controls each radiation generator 12.・
For example, each radiation generator 12 is continuously driven and controlled.
.. The fan-shaped radiation beam 14 is directed from ... to the object to be measured lo.
Irradiate to the side. At this time, each reference plate 13. . . , drive coils (not shown) are demagnetized in response to signals from each reference plate drive unit 227, and the radiation generators 12 . ... is set back from the front side.

各放射線発生器12.・・・から照射された放射線ビー
ム14.・・・の強度は被測定物10の厚さに応じて減
衰されて各多チャンネル検出器15.・・・に入射せら
れる。各多チャンネル検出器15.・・・の各チャンネ
ルは入射放射線ビームを検出し放射線強度に比例した電
気信号に変換した後、データ収集部16の対応するデー
タ収集ユニット16a〜16cに送られる。各データ収
集ユニット16a〜16cは、第2図に示す如く対応す
る多チャンネル検出器15の各チャンネルごとの検出信
号を個別にプリアンプ16ノで増幅した後、マルチプレ
クf163により同一位置の幅方向に従ってチャンネル
ごとの検出信号を選択してA/D 変換回路164に送
出し、ここでディジタル化した後、伝送ドライブ165
により信号処理部20側に伝送される。
Each radiation generator 12. Radiation beam irradiated from 14. The intensity of each multi-channel detector 15. is attenuated according to the thickness of the object to be measured 10. It is incident on... Each multi-channel detector 15. Each channel detects an incident radiation beam, converts it into an electrical signal proportional to the radiation intensity, and then sends the signal to a corresponding data collection unit 16a to 16c of the data collection section 16. As shown in FIG. 2, each data acquisition unit 16a to 16c individually amplifies the detection signal for each channel of the corresponding multi-channel detector 15 using a preamplifier 16, and then uses a multiplexer f163 to amplify the detection signal for each channel of the corresponding multi-channel detector 15, and then uses a multiplexer f163 to follow the detection signal for each channel at the same position in the width direction. The detection signal for each channel is selected and sent to the A/D conversion circuit 164, where it is digitized and then sent to the transmission drive 165.
The signal is transmitted to the signal processing unit 20 side.

信号処理部20では、デー′夕収集部16からのデータ
を第3図に示す如くライン226、インターフェイス2
25およびシステムバス221を介して受け、板厚変換
ユニット部21の共通RAM211に格納する(第4図
参照)。板厚変換ユニット部2ノの各板厚変換ユニット
21a〜21aは、CPU213においてROM214
のプログラムに従って共通RAM、?J1に格納されて
いるデータを読出して所定の計算式に基づいて同一位置
の幅方向における板厚データを求めた後、例えば共通R
AM211 に格納する。そして、この板厚データは第
3図に示すCPU224によりROM222 のプログ
ラムに従って読出され、かつ継ぎ合せられて被測定物1
oの幅方向全体の板厚データを得、これによって被測定
物1゜のプロフィールデータを作成することができる0 (2)基本校正処理動作 この校正処理動作は第5図に示すフローチャートに従っ
て行れる。即ち、人為的またはプログラムに従ってステ
ップS1において基本校正指令が与えられると、オペレ
ータは被測定物10から予め考えられる範囲で測定範囲
を入力する。例えば、最小値1.0 m 、最大値3.
0 Mというように、1組のデータを入力する(ステッ
プS、?)。このキーボード228より入力された測定
範囲はRAM、? 23に格納されている。一方、RO
M222には予め定めた校正点組合せデータが格納され
ている。例えば第6図に示す如く、Tel 、 ’rC
,、・・・、 Tea (。
In the signal processing section 20, the data from the data collection section 16 is sent to the line 226 and the interface 2 as shown in FIG.
25 and the system bus 221, and stored in the common RAM 211 of the board thickness conversion unit section 21 (see FIG. 4). Each plate thickness conversion unit 21a to 21a of the plate thickness conversion unit section 2 has a ROM 214 in the CPU 213.
Common RAM, according to the program? After reading the data stored in J1 and determining the plate thickness data in the width direction at the same position based on a predetermined calculation formula, for example, the common R
Store in AM211. Then, this plate thickness data is read by the CPU 224 shown in FIG. 3 according to the program in the ROM 222, and is spliced into the object
Obtain plate thickness data for the entire width direction of o, and use this to create profile data for 1° of the object to be measured. (2) Basic calibration processing operation This calibration processing operation can be performed according to the flowchart shown in Fig. 5. . That is, when a basic calibration command is given in step S1 either manually or according to a program, the operator inputs a measurement range within a predetermined range from the object to be measured 10. For example, the minimum value is 1.0 m, the maximum value is 3.0 m.
Input one set of data, such as 0 M (step S, ?). The measurement range input from this keyboard 228 is RAM, ? It is stored in 23. On the other hand, R.O.
Predetermined calibration point combination data is stored in M222. For example, as shown in Figure 6, Tel, 'rC
,,..., Tea (.

次に、ステップS3では、CPU224がROM222
のプログ2ムの計算式に基づいて校正点を算出する。即
ち、この校正点の算出は、ステップS2にて測定範囲が
入力され、かつROM222には校正組合せデータが記
憶されているので、CPU224は設定板厚を読出して
その測定範囲を十分カバーする校正点設定板厚と基準板
組合せデータを拾う。従って、このステップS3により
、校正点の数を知ることができる。ステップS4では、
例えば測定範囲1.0,3.0  と入力すると、この
範囲を十分カバーする設定板厚として、0.51からO
,S Uずつ、3.5期まで選出される。7個の校正点
が算出されるので、そのうち設定板厚の一番小さい0.
5tt−n=1として校正処理を行うことを示している
Next, in step S3, the CPU 224 uses the ROM 222
The calibration point is calculated based on the calculation formula of the program 2. That is, to calculate this calibration point, since the measurement range is input in step S2 and the calibration combination data is stored in the ROM 222, the CPU 224 reads out the set plate thickness and selects a calibration point that sufficiently covers the measurement range. Pick up the set plate thickness and reference plate combination data. Therefore, through this step S3, the number of calibration points can be known. In step S4,
For example, if you enter a measurement range of 1.0, 3.0, the set plate thickness that sufficiently covers this range will be from 0.51 to 0.
, SU will be elected for up to 3.5 terms. Seven calibration points are calculated, and among them, the one with the smallest set plate thickness is 0.
This shows that the calibration process is performed with 5tt-n=1.

次に、ステップS5においては、CPU224の指令に
よって基準板駆動部227が動作し、O,S tに相応
する基準板13を選択して各放射線発生器12.・・・
の前面側にセットする。
Next, in step S5, the reference plate driving section 227 operates according to a command from the CPU 224, selects the reference plate 13 corresponding to O, S t, and selects the reference plate 13 corresponding to each radiation generator 12. ...
Set it on the front side.

しかる後、同じ(CPU224の指令に基づいて放射線
制御部23に駆動制御信号を与え、放射線発生器12.
・・・からファン状放射線ビーム14.・・・を照射す
る。このとき、C型フレーム11の間に被測定物10が
設定されていないものとする。このようにして放射線発
生器12.・・・から基準板13.・・・を通って出力
された放射線ビームは各多チャンネル検出器15.・・
・の各チャンネル検出素子によって検出され、ここで放
射線強度に比例した電圧信号に変換され、前述したよう
にデータ収集部16および・「ンター7エイス25を通
って信号処理部20に送られ、多チャンネル検出器15
どとに対応する板厚変換ユニット部2)の各板厚変換ユ
ニット21a〜21aで収集される(ステップs6)。
After that, a drive control signal is given to the radiation control unit 23 based on the same command from the CPU 224, and the radiation generator 12.
. . . fan-shaped radiation beam 14. ...is irradiated. At this time, it is assumed that the object to be measured 10 is not set between the C-shaped frames 11. In this way, the radiation generator 12. ... from the reference plate 13. The radiation beam output through each multi-channel detector 15.・・・
It is detected by each channel detection element of ・, where it is converted into a voltage signal proportional to the radiation intensity, and as mentioned above, it is sent to the signal processing section 20 through the data acquisition section 16 and . Channel detector 15
The information is collected by each of the plate thickness conversion units 21a to 21a of the plate thickness conversion unit section 2) corresponding to the plate thickness conversion unit section 2) (step s6).

この各板厚変換ユニット213〜21cでは、CPU2
JJがROM214のプログラムに基づいて0.5tの
基準板13つまり第6図に示すTc、に対する全チャ/
ネルの検出電圧(#3称してve、とする)を求め、R
AM、’ 15または211に記憶する(ステップ8y
)。
In each plate thickness conversion unit 213 to 21c, the CPU 2
Based on the program in the ROM 214, the JJ performs all CH// for the 0.5t reference plate 13, that is, Tc shown in FIG.
Find the detection voltage of the channel (#3 is referred to as ve), and calculate R
AM, 'Store in 15 or 211 (step 8y
).

引き続き、各板厚変換ユニット21a〜21aは、ステ
ップS8において全チャンネルを複数のグループに分け
て、 の式に基づいてチャンネル間感度係数を計算する。上式
においてR1jk はチャンネル間感度係数、1は複数
の多チャンネル検出器15、・・・全体からみたチャン
ネル番号、jは校正点番号(第6図のTe1. Tag
 、 ”、)、kはブロック番号(例えば16チヤンネ
ルを1ブロツクとする)、上式の分母は各板厚の基準板
13が挿入されたときの各チャンネルの検出電圧、上式
の分子は前記各ブロックを1つの放射線検出器と考えた
ときの分母のブロックに属する例えば16チヤンネルの
平均検出電圧である。
Subsequently, each plate thickness conversion unit 21a to 21a divides all channels into a plurality of groups in step S8, and calculates an inter-channel sensitivity coefficient based on the following formula. In the above equation, R1jk is the inter-channel sensitivity coefficient, 1 is the channel number seen from the multiple multi-channel detectors 15, ..., and j is the calibration point number (Te1 in Fig. 6.
, ”, ), k is the block number (for example, 16 channels are one block), the denominator of the above equation is the detection voltage of each channel when the reference plate 13 of each thickness is inserted, and the numerator of the above equation is the This is the average detection voltage of, for example, 16 channels belonging to the denominator block when each block is considered as one radiation detector.

このようにして板厚Tc、におけるチャンネル間感度係
数の計算を終えると、引き続き、ステップ85に戻って
板厚Tcgの基準板13、・・・を挿入し、86〜S8
の処理を行なう。従って、板厚Tc1〜Tenの検出電
圧Vel〜Vanが得られ、第6図に示す校正曲線が得
られ゛、これを共通RAM、?11にテーブル化して記
憶する。なお、校正曲線を得るにあたっては、多項目近
似式または補間法その他適宜な計算式を用いて求めるも
のである。
After completing the calculation of the inter-channel sensitivity coefficient at the plate thickness Tc in this way, the process returns to step 85 and the reference plates 13, . . . having the plate thickness Tcg are inserted.
Process. Therefore, the detection voltages Vel to Van for the plate thicknesses Tc1 to Ten are obtained, and the calibration curve shown in FIG. 6 is obtained, which is applied to the common RAM, ? 11 and store it in a table. Note that the calibration curve is obtained using a multi-item approximation formula, an interpolation method, or other appropriate calculation formula.

(3)単純校正処理動作 この校正処理動作は、必要なときに板厚データ測定と次
の板厚データ測定などの間で行うもので、第7図に示す
フローチャートに従って行う。即ち、人為的またはプロ
グラムに従ってステップ811において電線校正指令が
与えられると、オペレータは基本校正の設定板厚の入力
範囲で基本校正よりも粗の設定板厚をキーボード228
により入力する。基本校正のとき1、−例として7点を
入力すると述べたが、この単純校正ではそのうちの例え
ば3点の設定板厚を入力する(ステップ812)oこの
キーボード228により入力された設定板厚はRAMj
23に格納される。
(3) Simple calibration processing operation This calibration processing operation is performed when necessary between one plate thickness data measurement and the next plate thickness data measurement, and is carried out according to the flowchart shown in FIG. That is, when a wire calibration command is given in step 811 either manually or according to a program, the operator enters a rougher set plate thickness than the basic calibration on the keyboard 228 within the input range of the set plate thickness for the basic calibration.
Input by. In the basic calibration, 1.- As an example, it was stated that 7 points are input, but in this simple calibration, for example, the set plate thickness of 3 points is input (step 812) o The set plate thickness input using this keyboard 228 is RAMj
23.

次に、ステップSτ3では1.CPU224がROM2
22のプログラムの計算式に基づいて例えば3点の校正
点を算出する。しかる後、ステップSJ4において1つ
の校正点 (n=1)の単純校正処理をcpσ224より各板厚変
換ユニット21a〜21aのCPU213に与える。
Next, in step Sτ3, 1. CPU224 is ROM2
For example, three calibration points are calculated based on the calculation formula of No. 22 program. Thereafter, in step SJ4, simple calibration processing for one calibration point (n=1) is provided to the CPU 213 of each plate thickness conversion unit 21a to 21a from the cpσ 224.

次に、ステップ815においては、cptr224の指
令によって基怠板駆動部227が動作し、1つの校正点
に相応する基準板13を選択して各放射線発生器12.
・・・の前面側にセットする。しかる後、同じ(CPU
、?24の指令に基づいて放射線制御部23に駆動制御
信号を与え、放射線発生器12.・・・からファン状放
射線ビーム14.・・・を照射する。このとき、C凰フ
レーム11の間に被測定物IOが設定されていないもの
とする。このようにして放射線発生器12.・・・から
基準板13、・・・を通って出力された放射線ビームは
各多チャンネル検出器15.・・・の各チャンネル検出
素子によって検出され、ここで放射線強度に比例した電
圧信号に変換され、前述したようにデータ収集部16お
よびインターフェイス25を通って信号処理部2oに送
られ、多チャンネル検出器15ごとに対応する板厚変換
ユニット部21の各板厚変換ユニット21a〜21aで
収集され、ここで各ブロックごとの複数チャンネルの検
出電圧をブロックのチャンネル数で割ってブロックごと
の平均検出電圧どして収集する(ステップ816)。
Next, in step 815, the substrate drive unit 227 operates according to the command from the cptr 224, selects the reference plate 13 corresponding to one calibration point, and selects the reference plate 13 corresponding to one calibration point, and selects the reference plate 13 for each radiation generator 12.
Set it on the front side of... After that, the same (CPU
,? A drive control signal is given to the radiation control unit 23 based on the command of the radiation generator 12. . . . fan-shaped radiation beam 14. ...is irradiated. At this time, it is assumed that the object to be measured IO is not set between the C-frames 11. In this way, the radiation generator 12. The radiation beams output from the reference plates 13, . . . are sent to the respective multi-channel detectors 15, . ... is detected by each channel detection element, where it is converted into a voltage signal proportional to the radiation intensity, and as described above, it is sent to the signal processing section 2o through the data acquisition section 16 and the interface 25, and is used for multi-channel detection. The average detected voltage for each block is obtained by dividing the detected voltage of the plurality of channels for each block by the number of channels of the block. (step 816).

更に、各板厚変換ユニット21a〜21cは、CPU2
13がROM、? 14のプロクラムニ基づいである1
つの校正点の基準板13について予め基準校正でチャン
ネル間感度係数(これをRi  とする)が求められて
いるので、この感度係数に基づいて全チャンネルの検出
電圧を逆算して求める(ステップ817)。
Furthermore, each plate thickness conversion unit 21a to 21c is connected to the CPU 2.
13 is ROM,? 1 based on 14 programs
Since the inter-channel sensitivity coefficient (this is referred to as Ri) has been determined in advance in the standard calibration for the reference plate 13 at each of the two calibration points, the detected voltages of all channels are determined by back calculation based on this sensitivity coefficient (step 817). .

■ この式はVt工T「に変形できる。この式においてRi
  は基本校正による全チャンネル間の感度係数から推
測でき、VはステップS16で求まっているので、ブロ
ックごとの平均電圧■から直ちに全チャンネルの検出電
圧を逆算できる。従って、例えば3点の校正点の基準板
13について815〜S17を繰返えせば、ステップS
18において第6図のような校正曲線を計算することが
でき、これを次に行う被測定物10のプロフィール測定
の校正に使用する。
■ This equation can be transformed into Vt
can be estimated from the sensitivity coefficients between all channels by basic calibration, and since V was determined in step S16, the detected voltages of all channels can be immediately calculated backward from the average voltage (2) for each block. Therefore, for example, if steps 815 to S17 are repeated for the reference plate 13 at three calibration points, step S
At step 18, a calibration curve as shown in FIG. 6 can be calculated, which is used for the calibration of the next profile measurement of the object to be measured 10.

従って、以上のような構成によれば、長期的には個々の
チャンネルごとに各設定板厚について基本校正を行って
校正曲線を求め、これらの基本校正の間に発生する例え
ばドリフトなどの影響については革純校正により基本校
正より少ない基準板を用い、かつ基本校正のデータおよ
びブロック単位の平均検出電圧を用いて全チャンネルの
検出電圧を逆算し、校正曲線を求めるようにしたので、
被測定物1oのデータ測定と次のデータ測定の間で短時
間で校正を行うこメができる。従って、圧延ライン等の
ように校正時間が制限されるものに適用して非常に有用
なものとなる。
Therefore, according to the above configuration, in the long term, basic calibration is performed for each set plate thickness for each channel to obtain a calibration curve, and the influence of drift, etc. that occurs during these basic calibrations can be considered. The calibration curve was calculated by using fewer reference plates than in the basic calibration and by back calculating the detection voltage of all channels using the data of the basic calibration and the average detection voltage of each block.
Calibration can be performed in a short time between data measurement of the object to be measured 1o and the next data measurement. Therefore, it is very useful for applications where calibration time is limited, such as rolling lines.

なお、上記実施例はシステムコントローラ22を1つと
したが、放射線発生器I2の数に対応する数だけ備え、
放射線制御部23、板厚変換ユニットと1=1で対応さ
せてもよい。この場合、各システムコントローラ22は
表示処理部24またはキーボードの指示によって個別に
動作制御することになる。また、データ収集部16の各
データ収集ユニットごとに伝送制御部162を設けたが
、これを各多チャンネル検出器15.・・・に共通して
使用してもよい。同様に伝送ドライブ165についても
共用可能である。また、板厚変換ユニット21で校正曲
線を求めたが、システムコントローラ22側で求めても
よい。その他、本発明はその要旨を逸脱しない範囲で穏
々変形して実施できる。
In addition, although the above embodiment has one system controller 22, the system controller 22 is provided in a number corresponding to the number of radiation generators I2,
The radiation control unit 23 and the plate thickness conversion unit may correspond to each other with 1=1. In this case, each system controller 22 will individually control its operation based on instructions from the display processing section 24 or the keyboard. Further, although a transmission control section 162 is provided for each data collection unit of the data collection section 16, this is provided for each multi-channel detector 15. May be used in common with... Similarly, the transmission drive 165 can also be shared. Further, although the calibration curve was obtained by the plate thickness conversion unit 21, it may be obtained by the system controller 22 side. In addition, the present invention can be implemented with moderate modifications without departing from the gist thereof.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上詳記したように本発明によれば、基本校正のデータ
を用いて遂次単純校正を行うので、各測定間で必要なと
きに単時間で校正でき、例えば圧延中で校正時間が定め
られているような場合でも十分対処でき、特にドリフト
が発生する場合にその影響を簡単に除去して正確な測定
データを得ることができるプロフィールメータを提供で
きる。
As described in detail above, according to the present invention, simple calibration is performed sequentially using basic calibration data, so calibration can be performed in a single time when necessary between each measurement. For example, if the calibration time is determined during rolling, It is possible to provide a profile meter that can sufficiently cope with such cases, and in particular, when drift occurs, the influence can be easily removed and accurate measurement data can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図ないし第7図は本発明に係るプロフィールメータ
の一実施例を説明するために示したもので、第1図はプ
ロフィールメータ全体の構成図、第2図は第1図のデー
タ収集部のブロック図、第3図は第1図のシステムコン
トローラのハード的な構成図、第4図は第1図の板厚変
換ユニットの内部構成図、第5図および第6図A玉む は基本校正処理動作の       およびその校正曲
線図、第7図は単純校正処理動作の^1o・・・被測定
物、12・・・放M線発生器、13・・・基準板、ノ5
・・・多チャ/ネル検出器、16・・・データ収集部、
20・・・信勺処理部、2ノ・・・板厚変換ユニット部
、22・・・システムコントローラ、23・・・放射線
制御部、24・・・表示制御部、211・・・共通メモ
リ、213・・・CPU、214・・・ROM、216
・・・RAM、222・・・ROM。 223・・・RAM、224・・・CPU、227・・
・基準板駆動部。 出願人代理人 弁理士  鈴 江 武 彦第1図  2
゜ ゴ b 第2EJ 第 5 図
1 to 7 are shown to explain one embodiment of the profile meter according to the present invention, FIG. 1 is a configuration diagram of the entire profile meter, and FIG. 2 is a data collection section of FIG. 1. , Figure 3 is a hardware configuration diagram of the system controller in Figure 1, Figure 4 is an internal configuration diagram of the plate thickness conversion unit in Figure 1, and Figures 5 and 6 are basic diagrams of the system controller. Calibration processing operation and its calibration curve diagram, Fig. 7 shows simple calibration processing operation ^1o...Object to be measured, 12...Radiation radiation generator, 13...Reference plate, No.5
...Multi-channel/channel detector, 16...Data acquisition section,
20... Shinku processing section, 2... Board thickness conversion unit section, 22... System controller, 23... Radiation control section, 24... Display control section, 211... Common memory, 213...CPU, 214...ROM, 216
...RAM, 222...ROM. 223...RAM, 224...CPU, 227...
・Reference plate drive unit. Applicant's agent Patent attorney Takehiko Suzue Figure 1 2
゜go b 2nd EJ Fig. 5

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 放射線発生器の放射線照射路に異なる板厚の基準板をセ
ットし、前記放射線発生器から基準板を通って入射され
る放射線を多チャンネル検出器によって検出し、この検
出データを用いて校正曲線を求めるプロフィールメータ
において、被測定物に応じて予め予想される範囲内で複
数の設定板厚を指定するとともに、これらの設定板厚に
対応した前記基準板をセットし、このとき前記多チャン
ネル検出器から得られる全チャンネルの検出電圧を収集
して校正曲線およびチャンネル間感度係数を求める基本
校正処理手段と、この基本校正処理手段による複数の設
定板厚よりも少ない数の単純校正用設定板厚を指定する
とともに、各単純校正用設定板厚に対応した前記基準板
をセットし、このとき前記多チャンネル検出器から得ら
れる全チャンネルの検出電圧から予めブロック化した複
数のチャンネルの平均検出電圧を得、このブロックごと
の平均検出電圧と前記チャンネル間感度係数から単純校
正用の校正曲線を求める単純校正処理手段とを有し、短
時間に校正を行うようにしたことを特徴とするプロフィ
ールメータ。
Reference plates of different thicknesses are set in the radiation irradiation path of the radiation generator, and the radiation incident from the radiation generator through the reference plates is detected by a multi-channel detector, and this detected data is used to create a calibration curve. In the desired profile meter, a plurality of set plate thicknesses are specified within a range expected in advance according to the object to be measured, and the reference plate corresponding to these set plate thicknesses is set, and at this time, the multi-channel detector A basic calibration processing means that collects the detection voltages of all channels obtained from the above to obtain a calibration curve and inter-channel sensitivity coefficient, and a set plate thickness for simple calibration that is smaller than the plurality of set plate thicknesses by this basic calibration processing means. At the same time, the reference plate corresponding to each set plate thickness for simple calibration is set, and at this time, the average detection voltage of a plurality of channels that have been divided into blocks in advance is obtained from the detection voltage of all channels obtained from the multi-channel detector. A profile meter characterized in that it has simple calibration processing means for determining a calibration curve for simple calibration from the average detected voltage for each block and the inter-channel sensitivity coefficient, and is configured to perform calibration in a short time.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0664437A2 (en) * 1990-05-31 1995-07-26 Integrated Diagnostic Measurement Corporation Method and apparatus for obtaining non-destructive measurements for regularly-shaped objects

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0664437A2 (en) * 1990-05-31 1995-07-26 Integrated Diagnostic Measurement Corporation Method and apparatus for obtaining non-destructive measurements for regularly-shaped objects
EP0664437A3 (en) * 1990-05-31 1997-10-15 Integrated Diagnostic Measurem Method and apparatus for obtaining non-destructive measurements for regularly-shaped objects.

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