JPS611015A - イオン蒸着装置 - Google Patents
イオン蒸着装置Info
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- JPS611015A JPS611015A JP12248784A JP12248784A JPS611015A JP S611015 A JPS611015 A JP S611015A JP 12248784 A JP12248784 A JP 12248784A JP 12248784 A JP12248784 A JP 12248784A JP S611015 A JPS611015 A JP S611015A
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- substrate
- applying
- vapor
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- Pending
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/02104—Forming layers
- H01L21/02365—Forming inorganic semiconducting materials on a substrate
- H01L21/02612—Formation types
- H01L21/02617—Deposition types
- H01L21/02631—Physical deposition at reduced pressure, e.g. MBE, sputtering, evaporation
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明は、基板に金属マスクをかけ、イオン化した蒸気
を該基板上に蒸着せしめるイオン蒸着装置に関するもの
である。
を該基板上に蒸着せしめるイオン蒸着装置に関するもの
である。
従来のイオン蒸着装置、例えばクラスターイオンビーム
蒸着装置において基板に金属マスクをかけ、イオン化し
た蒸気を蒸着せしめる場合は、イオン化された蒸気は基
板近くにおいて金属マスクに吸着され易く、一方基板に
は付着しに＜＜、従って、従来の金属マスクを用いる蒸
着装置では、蒸着効率が悪く、しかも付着力が弱い等の
欠点があった。
蒸着装置において基板に金属マスクをかけ、イオン化し
た蒸気を蒸着せしめる場合は、イオン化された蒸気は基
板近くにおいて金属マスクに吸着され易く、一方基板に
は付着しに＜＜、従って、従来の金属マスクを用いる蒸
着装置では、蒸着効率が悪く、しかも付着力が弱い等の
欠点があった。
第１図は従来のイオン蒸着装置を示し、図において、■
はｉ膜を蒸着形成しようとする基板、２は該基板１に電
気回路等のパターンを蒸着形成するための金属マスク、
２ａはパターン状に部分的に切欠かれた細隙、３はイオ
ン化された蒸気、４は等電位線、５は物質を蒸気化する
ためのるつぼ、５ａは蒸気を噴出するための細孔、６は
蒸着しようとする物質、７は電子発生源、８は電子の放
射ベクトルを支配するために設けられたグリッドで、こ
れらは全て真空容器内に設けられている。また、９は電
子、１０はイオン化蒸気の軌道である。
はｉ膜を蒸着形成しようとする基板、２は該基板１に電
気回路等のパターンを蒸着形成するための金属マスク、
２ａはパターン状に部分的に切欠かれた細隙、３はイオ
ン化された蒸気、４は等電位線、５は物質を蒸気化する
ためのるつぼ、５ａは蒸気を噴出するための細孔、６は
蒸着しようとする物質、７は電子発生源、８は電子の放
射ベクトルを支配するために設けられたグリッドで、こ
れらは全て真空容器内に設けられている。また、９は電
子、１０はイオン化蒸気の軌道である。
次に作用について説明、する。
物質６が収容されたるつぼ５を放射熱あるいは電子衝突
エネルギー等で加熱し、電子発生源７とグリッド８との
間及び該グリッド８と基板１との間に電位差を与える。
エネルギー等で加熱し、電子発生源７とグリッド８との
間及び該グリッド８と基板１との間に電位差を与える。
すると上記物質６は熔融蒸気化してるつぼ５の細孔５ａ
から真空中に噴出し、該噴出した蒸気は電子発生源７か
ら放出した電子の衝突によりイオン化され、該イオン化
蒸気３は上記グリッド８．基板１間の電位差により加速
されて基板１に蒸着する。
から真空中に噴出し、該噴出した蒸気は電子発生源７か
ら放出した電子の衝突によりイオン化され、該イオン化
蒸気３は上記グリッド８．基板１間の電位差により加速
されて基板１に蒸着する。
そしてこの際の、基板１に密着して設けられた金属マス
ク２及びこれの細隙２ａにおける電位分布は、等電位線
４により概略的に示されているように、細隙２ａ内にお
いては基板１側に大きく湾曲している。一般にイオン化
蒸気３には上記等電位線の法線方向にその軌道を曲げよ
うとする力が働き、そのためイオン化蒸気３は細隙２ａ
内で基板１に平行な方向に曲げられ、その結果該イオン
化蒸気３は基板１に到達せずマスク２に付着し易くなる
。イオン化蒸気３がマスク２に付着する量と基板１に付
着する量との割合は、イオン化蒸気３が持っている運動
エネルギーとマスク２の細隙２ａ付近の電界の分布によ
って左右される。例えばグリッド８と基板１との間に与
えられた電位差により加速された運動エネルギー及びる
っぽ５がら噴出する初速エネルギーが大きい程、基板ｌ
に到達する割合は高くなり、一方、マスク２の細隙２ａ
の幅が小さくなるほど該細隙２ａ付近の電位分布はイオ
ン化蒸気３をマスク２に付着させようとする向きの電界
が強くなり、イオン化蒸気は基板１に到達しにくくなる
。
ク２及びこれの細隙２ａにおける電位分布は、等電位線
４により概略的に示されているように、細隙２ａ内にお
いては基板１側に大きく湾曲している。一般にイオン化
蒸気３には上記等電位線の法線方向にその軌道を曲げよ
うとする力が働き、そのためイオン化蒸気３は細隙２ａ
内で基板１に平行な方向に曲げられ、その結果該イオン
化蒸気３は基板１に到達せずマスク２に付着し易くなる
。イオン化蒸気３がマスク２に付着する量と基板１に付
着する量との割合は、イオン化蒸気３が持っている運動
エネルギーとマスク２の細隙２ａ付近の電界の分布によ
って左右される。例えばグリッド８と基板１との間に与
えられた電位差により加速された運動エネルギー及びる
っぽ５がら噴出する初速エネルギーが大きい程、基板ｌ
に到達する割合は高くなり、一方、マスク２の細隙２ａ
の幅が小さくなるほど該細隙２ａ付近の電位分布はイオ
ン化蒸気３をマスク２に付着させようとする向きの電界
が強くなり、イオン化蒸気は基板１に到達しにくくなる
。
本発明は、上記従来装置の欠点を除去するためになされ
たもので、マスクの蒸着源側の面に高い、基板側の面に
低い電位を印加して該マスクの細隙にイオン化蒸気をほ
ぼ直進させるような電界分布を形成することにより、イ
オン化蒸気の基板への付着効率及び付着力を大きく向上
できるイオン蒸着装置を提供することを目的としている
。
たもので、マスクの蒸着源側の面に高い、基板側の面に
低い電位を印加して該マスクの細隙にイオン化蒸気をほ
ぼ直進させるような電界分布を形成することにより、イ
オン化蒸気の基板への付着効率及び付着力を大きく向上
できるイオン蒸着装置を提供することを目的としている
。
以下、本発明の実施例を図について説明する。
第２図は本発明の一実施例を示し、図において、１は基
板、１２ａはマスクである絶縁層、１２ｄは細隙、１２
ｂはマスク１２ａの基板側の電極、１２Ｃはマスク１２
ａの蒸着源側の電極である。
板、１２ａはマスクである絶縁層、１２ｄは細隙、１２
ｂはマスク１２ａの基板側の電極、１２Ｃはマスク１２
ａの蒸着源側の電極である。
また、図示していないが本実施例では、上記両電極１２
ｂ、１２ｃに対し、基板側電極１２ｂに低い、蒸着源側
電極１２ｃに高い電位を印加する電位印加手段が設けら
れている。また、３はイオン化蒸気、１０はイオン化蒸
気３の軌道を示す。
ｂ、１２ｃに対し、基板側電極１２ｂに低い、蒸着源側
電極１２ｃに高い電位を印加する電位印加手段が設けら
れている。また、３はイオン化蒸気、１０はイオン化蒸
気３の軌道を示す。
次に作用効果について説明する。
従来の動作において説明したのと同様にして、イオン化
蒸気３を発生させ、この状態において、電位印加手段に
より電極１２ｃにプラス電位、電極１２ｂにアース電位
を印加する。なお、電極１２Ｃの電位はグリッド８の電
位より低く、アース電位に近い電位とする。各電極１２
ｂ、１２ｃにこのような電位を印加すると、電界分布、
即ち等電位線１１の分布は、第２図のようにマスク１２
ａの細隙１２ｄ内において基板１とほぼ平行になる。上
述のとおり、イオン化蒸気３は等電位線１１の略法線方
向に軌道を描く訳であるが、本実施例では等電位線１１
は細隙１２ｄ内において上記のような分布となるため、
イオン化蒸気３は上記細隙１２ａ内において外方に曲る
ことなくほぼ直進し、基板１に付着し易くなり、その結
果付着効率、付着力が向上する。
蒸気３を発生させ、この状態において、電位印加手段に
より電極１２ｃにプラス電位、電極１２ｂにアース電位
を印加する。なお、電極１２Ｃの電位はグリッド８の電
位より低く、アース電位に近い電位とする。各電極１２
ｂ、１２ｃにこのような電位を印加すると、電界分布、
即ち等電位線１１の分布は、第２図のようにマスク１２
ａの細隙１２ｄ内において基板１とほぼ平行になる。上
述のとおり、イオン化蒸気３は等電位線１１の略法線方
向に軌道を描く訳であるが、本実施例では等電位線１１
は細隙１２ｄ内において上記のような分布となるため、
イオン化蒸気３は上記細隙１２ａ内において外方に曲る
ことなくほぼ直進し、基板１に付着し易くなり、その結
果付着効率、付着力が向上する。
以上のように本発明に係るイオン蒸着装置によれば、基
板にマスクをかけて蒸着する際に、該マスクの蒸着源側
に高い、基板側に低い電位を印加するようにしたので、
イオン化蒸気を上記電位差により生じる電界によりマス
クの細隙を通ってほぼ直進せしめて、基板に十分に蒸着
させることができ、蒸着効率を向上でき、しかも付着力
を大きくできる効果がある。
板にマスクをかけて蒸着する際に、該マスクの蒸着源側
に高い、基板側に低い電位を印加するようにしたので、
イオン化蒸気を上記電位差により生じる電界によりマス
クの細隙を通ってほぼ直進せしめて、基板に十分に蒸着
させることができ、蒸着効率を向上でき、しかも付着力
を大きくできる効果がある。
【図面の簡単な説明】
第１図は従来のイオン蒸着装置の構成図、第２図は本発
明の一実施例によるイオン蒸着装置の構成図である。 １・・・基板、１２ａ・・・マスク、１２ｂ・・・基板
側電極、１２ｃ・・・蒸着源側電極。 なお図中同一符号は同−又は相当部分を示す。
明の一実施例によるイオン蒸着装置の構成図である。 １・・・基板、１２ａ・・・マスク、１２ｂ・・・基板
側電極、１２ｃ・・・蒸着源側電極。 なお図中同一符号は同−又は相当部分を示す。
Claims (1)
- （１）蒸着物質の蒸気をイオン化してマスクがかけられ
た基板上に蒸着するイオン蒸着装置において、上記マス
クの基板側の面に低い、蒸着源側の面に高い電位を印加
する電位印加手段を備えたことを特徴とするイオン蒸着
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12248784A JPS611015A (ja) | 1984-06-12 | 1984-06-12 | イオン蒸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12248784A JPS611015A (ja) | 1984-06-12 | 1984-06-12 | イオン蒸着装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS611015A true JPS611015A (ja) | 1986-01-07 |
Family
ID=14837060
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12248784A Pending JPS611015A (ja) | 1984-06-12 | 1984-06-12 | イオン蒸着装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS611015A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5109079A (en) * | 1989-12-16 | 1992-04-28 | Bayer Aktiengesellschaft | Monofuctional polyacrylates, their production and their use for the production of polycarbonates |
| US5705093A (en) * | 1993-08-06 | 1998-01-06 | Merck Patent Gesellschaft Mit Beschrankter Haftung | Thermochromic media |
-
1984
- 1984-06-12 JP JP12248784A patent/JPS611015A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5109079A (en) * | 1989-12-16 | 1992-04-28 | Bayer Aktiengesellschaft | Monofuctional polyacrylates, their production and their use for the production of polycarbonates |
| US5705093A (en) * | 1993-08-06 | 1998-01-06 | Merck Patent Gesellschaft Mit Beschrankter Haftung | Thermochromic media |
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