JPS6092834U - 半導体ウエ−ハの導電率の非接触測定装置 - Google Patents
半導体ウエ−ハの導電率の非接触測定装置Info
- Publication number
- JPS6092834U JPS6092834U JP18610883U JP18610883U JPS6092834U JP S6092834 U JPS6092834 U JP S6092834U JP 18610883 U JP18610883 U JP 18610883U JP 18610883 U JP18610883 U JP 18610883U JP S6092834 U JPS6092834 U JP S6092834U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- conductivity
- measurement device
- semiconductor wafers
- contact measurement
- support
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Landscapes
- Measuring Magnetic Variables (AREA)
- Measurement Of Resistance Or Impedance (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
第１図は本考案測定装置の一実施例を示す一部切欠正面
図、第２図は同平面図、第３図は回路図、第４図はウェ
ーハ周縁近傍の導電率を測定している状態を示す平面路
である。 尚図中、１・・・・・・支持体、ｌａ、ｌｂ・・・・・
・支持部、Ｃ・・・・・・挿入間隙、ｆよｑ ｆ２・・
・・・・支持部の対向面、２・・・・・・検出コイル、
３・・・・・・励磁コイル、Ｗ・・・・・・半導体ウェ
ーハ。
図、第２図は同平面図、第３図は回路図、第４図はウェ
ーハ周縁近傍の導電率を測定している状態を示す平面路
である。 尚図中、１・・・・・・支持体、ｌａ、ｌｂ・・・・・
・支持部、Ｃ・・・・・・挿入間隙、ｆよｑ ｆ２・・
・・・・支持部の対向面、２・・・・・・検出コイル、
３・・・・・・励磁コイル、Ｗ・・・・・・半導体ウェ
ーハ。
Claims (1)
- 熱膨張係数の極めて小さい素材で支持体を構成し、該支
持体に所定の間隔をおいて並行に対向する一対の支持部
を設け、これら支持部間に半導体ウェーハの挿入間隙を
形成すると共に、該支持部の対向面に検出コイルと励磁
コイルとを同一軸線上に位置させて設け、この検出コイ
ル及び励磁コイルを直径３悶以下に形成してなる半導体
ウェーハの導電率の非接触測定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18610883U JPS6092834U (ja) | 1983-11-30 | 1983-11-30 | 半導体ウエ−ハの導電率の非接触測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18610883U JPS6092834U (ja) | 1983-11-30 | 1983-11-30 | 半導体ウエ−ハの導電率の非接触測定装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6092834U true JPS6092834U (ja) | 1985-06-25 |
Family
ID=30402076
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18610883U Pending JPS6092834U (ja) | 1983-11-30 | 1983-11-30 | 半導体ウエ−ハの導電率の非接触測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6092834U (ja) |
-
1983
- 1983-11-30 JP JP18610883U patent/JPS6092834U/ja active Pending
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