JPS6092819U - 高温・高真空熱処理装置 - Google Patents

高温・高真空熱処理装置

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JPS6092819U
JPS6092819U JP1983184972U JP18497283U JPS6092819U JP S6092819 U JPS6092819 U JP S6092819U JP 1983184972 U JP1983184972 U JP 1983184972U JP 18497283 U JP18497283 U JP 18497283U JP S6092819 U JPS6092819 U JP S6092819U
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JP
Japan
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heat treatment
vacuum heat
treatment equipment
high temperature
high vacuum
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田所　宏一
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日本電気株式会社
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第１図は従来例の熱処理装置の内部構造の断面図、第２
図は本考案による間接発熱体を有する熱処理装置の内部
構造の斜視図、第３図は、従来例と本考案実施例におけ
る被熱処理物上での温度分布状態を示すグラフである。 １・・・・・・発熱体、２・・・・・・間接発熱体、３
・・・・・・被熱処理体、Ａ・・・・・・従来例におけ
る被熱処理体上での温度分布線、Ｂ・・・・・・本考案
実施例における被熱処理体上での温度分布線。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. ペルジャー内に半円筒状の発熱体を配置してなる高温・
    高真空熱処理装置において、前記発熱体と被熱処理体と
    の間に間接発熱体を被熱処理体と近接離間させて被覆配
    置したことを特徴とする高温・高真空熱処理装置。
JP1983184972U 1983-11-30 1983-11-30 高温・高真空熱処理装置 Granted JPS6092819U (ja)

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JP1983184972U JPS6092819U (ja) 1983-11-30 1983-11-30 高温・高真空熱処理装置

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JPS6092819U true JPS6092819U (ja) 1985-06-25
JPH0414928Y2 JPH0414928Y2 (ja) 1992-04-03

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JP1983184972U Granted JPS6092819U (ja) 1983-11-30 1983-11-30 高温・高真空熱処理装置

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