JPS6092460A - セラミツク質溶射材の製造法 - Google Patents
セラミツク質溶射材の製造法Info
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- JPS6092460A JPS6092460A JP58198307A JP19830783A JPS6092460A JP S6092460 A JPS6092460 A JP S6092460A JP 58198307 A JP58198307 A JP 58198307A JP 19830783 A JP19830783 A JP 19830783A JP S6092460 A JPS6092460 A JP S6092460A
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- Japan
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/622—Forming processes; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/653—Processes involving a melting step
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C4/00—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge
- C23C4/04—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge characterised by the coating material
- C23C4/10—Oxides, borides, carbides, nitrides or silicides; Mixtures thereof
- C23C4/11—Oxides
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は７フルミプ買等のセラミック質溶躬材の製造法
に関づる。
に関づる。
セラミック溶Ｑ・１月としてはアルミナ、ジルコニア、
ムライト、アルミナ−ジルコニア、アルミナ５ｙ） 一ヂタニア、ブーニア、スピネル鋳が多く用いられてい
る。
ムライト、アルミナ−ジルコニア、アルミナ５ｙ） 一ヂタニア、ブーニア、スピネル鋳が多く用いられてい
る。
のが使用され一ζいる。粉砕においては粉砕機からの鉄
分の之ｔｉ染Ｂあるので、除鉄工程が必要となるまた溶
融セラミックスは一般にＮ粉砕性のため、粉砕に多大の
エネルギーを必要とＪる外、必要粒度以下の細粒がかな
り発生づ−るのｔま避けられない。
分の之ｔｉ染Ｂあるので、除鉄工程が必要となるまた溶
融セラミックスは一般にＮ粉砕性のため、粉砕に多大の
エネルギーを必要とＪる外、必要粒度以下の細粒がかな
り発生づ−るのｔま避けられない。
ζノ
また溶融後、インゴットする方法では複合成分、例えば
へ斐２０３−１−ｉ ０２ 、Ａ斐２０３−Ｚｒ ０２
、Ｚｒ ０２−Ｙ２０３等の場合、その組成範囲によ
っては偏析を起し、製品が不均一になり易い。さらにＺ
ｒ ０２ 、Ａ１２０３−ＺｒＯ２、Ａ斐２０３−Ｔｉ
０２等の場合、アーク炉で溶解すると、通常炉内は還
元雰囲気、即ち酸素不足の状態にあるので、Ｚｒ ０２
−ｘ等となり、これをインゴットに固化しても多くはそ
のままの形になっているので、着色し易い、しかもその
色が一定でないので、商品１１１１ｉ値を損なうという
問題がある。
へ斐２０３−１−ｉ ０２ 、Ａ斐２０３−Ｚｒ ０２
、Ｚｒ ０２−Ｙ２０３等の場合、その組成範囲によ
っては偏析を起し、製品が不均一になり易い。さらにＺ
ｒ ０２ 、Ａ１２０３−ＺｒＯ２、Ａ斐２０３−Ｔｉ
０２等の場合、アーク炉で溶解すると、通常炉内は還
元雰囲気、即ち酸素不足の状態にあるので、Ｚｒ ０２
−ｘ等となり、これをインゴットに固化しても多くはそ
のままの形になっているので、着色し易い、しかもその
色が一定でないので、商品１１１１ｉ値を損なうという
問題がある。
本発明はセラミック質溶射拐を得る方法に関し、その目
的は、粉砕工程を４１！なわず、あるいは粉砕したとし
ても容易に粉砕できる方法を提供づること、また他の目
的は成分の均一な溶銅材を得ること、ざらに他の目的は
着色のバラツキのない製品を得ることにある。
的は、粉砕工程を４１！なわず、あるいは粉砕したとし
ても容易に粉砕できる方法を提供づること、また他の目
的は成分の均一な溶銅材を得ること、ざらに他の目的は
着色のバラツキのない製品を得ることにある。
を樋等より流下させ、その落下流に高圧ガスを吹きつ番
ノで、溶湯を微細に飛＠させて凝固粒とし、これを分級
して所定の粒度のものはそのまま溶射材とし、人σい−
ｂのシよ粉砕、分級して溶剤材とするものである。
ノで、溶湯を微細に飛＠させて凝固粒とし、これを分級
して所定の粒度のものはそのまま溶射材とし、人σい−
ｂのシよ粉砕、分級して溶剤材とするものである。
セラミック買Ｉ１１判は前記した各種のものが使用でき
るが、１Ｚｉに本発明に適するものはＡ１２０３−Ｔ！
０２ 、ΔｆＬ２０３−Ｚｒ ０２ 、Ｚｒ ０２−
Ｙ２０３ 、Ｚｒ ０２−Ｃａ Ｏ，Ｚｒ ０２−ＭＯ
’０である。
るが、１Ｚｉに本発明に適するものはＡ１２０３−Ｔ！
０２ 、ΔｆＬ２０３−Ｚｒ ０２ 、Ｚｒ ０２−
Ｙ２０３ 、Ｚｒ ０２−Ｃａ Ｏ，Ｚｒ ０２−ＭＯ
’０である。
原料の溶融は第１図のＪ、うに電気アーク炉で行なう。
図で１は電気炉で、２が炉壁でその内面は原料でレルフ
シイニング２′されでいる。３は電極、４はＷｊ場を抜
き出して流下させる樋、５は溶湯の落下流、６はｔ１重
圧体、例えば高圧窒素を吹きつ番ノるノズルである。落
下流５は高圧気体にまり液滴に飛散８れ、凝固粒子７に
なる。図では炉の下部にり溶湯を抜き出しＣいるが、こ
れは傾注炉にしＣ炉の上部Ｊ、り樋を通して落下させる
ことも可能である。
シイニング２′されでいる。３は電極、４はＷｊ場を抜
き出して流下させる樋、５は溶湯の落下流、６はｔ１重
圧体、例えば高圧窒素を吹きつ番ノるノズルである。落
下流５は高圧気体にまり液滴に飛散８れ、凝固粒子７に
なる。図では炉の下部にり溶湯を抜き出しＣいるが、こ
れは傾注炉にしＣ炉の上部Ｊ、り樋を通して落下させる
ことも可能である。
高圧気体の吹きイ１けの条ｆ１は気体圧３〜１０ｋ。
／Ｃｌ１１２、溶湯の流量１００容輯部／分に対し、気
体望ｏｏｏｏ 、／ は２０００〜≠赫容呈部／分（常圧換粋）の範囲が適当
である。
体望ｏｏｏｏ 、／ は２０００〜≠赫容呈部／分（常圧換粋）の範囲が適当
である。
溶剤材は通常７４〜１０μｍの範囲が多く使用されるの
で、本発明によって得られた粒子をそのまま溶０Ａ４４
とする場合はこのような細粒を多くづる必要があり、そ
のためには溶湯の温度はできるだｔｊ高くすること、吹
き付【ノ条ヂＩｔ）前記範囲で気体圧、気体流量とも高
い側が望ましい。
で、本発明によって得られた粒子をそのまま溶０Ａ４４
とする場合はこのような細粒を多くづる必要があり、そ
のためには溶湯の温度はできるだｔｊ高くすること、吹
き付【ノ条ヂＩｔ）前記範囲で気体圧、気体流量とも高
い側が望ましい。
溶湯温疫を吹付り時間中、高温に維持するには図示のよ
うに吹き付は中も通電し、加熱づるようにすればよい。
うに吹き付は中も通電し、加熱づるようにすればよい。
凝固粒がそのまま溶射材にならないような大きい粒は粉
砕して溶剤材と覆ることができる。凝固粒子は多くの場
合、また特に粒子が大きい場合、中空になる。従って、
粉砕が容易であり、不必要に小さい不良粒度の発生−ｂ
少ない。凝固粒子をそのまま使用づれば球状なので流動
性がより、ＷＩ躬材として好ましいが、大きな粒子を粉
砕したものでも溶射材として特に支障はない。粉砕はボ
ールミル、振動ミル等の粉砕機によって行なう。
砕して溶剤材と覆ることができる。凝固粒子は多くの場
合、また特に粒子が大きい場合、中空になる。従って、
粉砕が容易であり、不必要に小さい不良粒度の発生−ｂ
少ない。凝固粒子をそのまま使用づれば球状なので流動
性がより、ＷＩ躬材として好ましいが、大きな粒子を粉
砕したものでも溶射材として特に支障はない。粉砕はボ
ールミル、振動ミル等の粉砕機によって行なう。
粒子の分級は４４１１Ｉｌｌ程度までは篩によって行な
うことができるが、それ以下のものについては気裟９ 流分後、湿式沈降等によって行なうことができる。
うことができるが、それ以下のものについては気裟９ 流分後、湿式沈降等によって行なうことができる。
本発明における凝固粒は液滴の急冷固化なので、成分の
偏析がない。例えばＡｌ２Ｏ２−Ｔｉ ０２の場合、Ｔ
ｉＯ２が少量で固溶する範囲なら特に問題ないが、例え
ば丁１０２が５〜４５重量％の範囲だと、通電のインゴ
ットに固化する方法では偏析が起り易くインｆツ１への
表ｍ１ど内部では組成が変ってくる。
偏析がない。例えばＡｌ２Ｏ２−Ｔｉ ０２の場合、Ｔ
ｉＯ２が少量で固溶する範囲なら特に問題ないが、例え
ば丁１０２が５〜４５重量％の範囲だと、通電のインゴ
ットに固化する方法では偏析が起り易くインｆツ１への
表ｍ１ど内部では組成が変ってくる。
ヒラミック原わ１の溶融は通常アーク炉で行なわれ、炭
素電極が使用されるので、溶融帯は還元雰囲気である。
素電極が使用されるので、溶融帯は還元雰囲気である。
そのため、例えばＴｉＯ２、ＺｒＯ２が含有している場
合、Ｔｆ ０２−Ｘ、Ｚｒ ０２−ｘとなって酸素欠損
が起る。これをインゴットに固化すると酸素欠損は殆ん
どそのままラックので製品に酸素欠損に起因する着色ム
ラが生じ、商品価値を損なう。
合、Ｔｆ ０２−Ｘ、Ｚｒ ０２−ｘとなって酸素欠損
が起る。これをインゴットに固化すると酸素欠損は殆ん
どそのままラックので製品に酸素欠損に起因する着色ム
ラが生じ、商品価値を損なう。
ところが、気体吹きｆりけにより、微細な液滴に分散さ
ゼると、表面積が大きくなり、それが空気に触れるので
酸素欠損が少なくなり、着色ムラも消滅する。
ゼると、表面積が大きくなり、それが空気に触れるので
酸素欠損が少なくなり、着色ムラも消滅する。
実験例 １
へ愛２０３（８０重量％） −Ｔｉ ０２ （２０重焔
％）をアーク炉で溶融し、 ３００にりのインボッ（−
にした（比較量）ａまた、圧力５ 、ｋ（１／ Ｃｍ２
、ｍ ｆｆｌ ６ Ｎｌｌ＋ ３／ｍｉｎ、溶澗流（ｉ
１３０ｋｇ／ｍｉｎ テ約１００ｋｇを吹き飛ばした。
％）をアーク炉で溶融し、 ３００にりのインボッ（−
にした（比較量）ａまた、圧力５ 、ｋ（１／ Ｃｍ２
、ｍ ｆｆｌ ６ Ｎｌｌ＋ ３／ｍｉｎ、溶澗流（ｉ
１３０ｋｇ／ｍｉｎ テ約１００ｋｇを吹き飛ばした。
インゴットについ−では中心部、上部、下部、側部の部
位及び全体を２ｍｍ１”に粉砕した場合、吹き飛ばし品
は全体からＶンプリングし成分を調べた。結果を表−１
に示す。
位及び全体を２ｍｍ１”に粉砕した場合、吹き飛ばし品
は全体からＶンプリングし成分を調べた。結果を表−１
に示す。
表−１
（単位：Ｗ【％）
＝９１．よ、ｍ二：
また、吹き飛ばしたｂのの粒度分布は、１４μｍ以下粒
が５〜１０％含まれているので、この粒度のものはその
まＪ、溶用材どしＣ使用できる。この粒度以上の６のは
粉Ｗｒ Ｌ、て溶用材の粒度にりる。
が５〜１０％含まれているので、この粒度のものはその
まＪ、溶用材どしＣ使用できる。この粒度以上の６のは
粉Ｗｒ Ｌ、て溶用材の粒度にりる。
次に３００ｋ（ｌインゴットの２ｍｎ＋Ｆ粉砕品、及び
吹き飛ばし品をポットミルぐ粉砕後分級し、４４〜１０
μの粒を採取した時の１−ｉ０２最を４４μ上、１０μ
下の成分と合わ１０表−２に承り。
吹き飛ばし品をポットミルぐ粉砕後分級し、４４〜１０
μの粒を採取した時の１−ｉ０２最を４４μ上、１０μ
下の成分と合わ１０表−２に承り。
表−２
実験例 ２
Δｎ２０３−７ｒ ０２系（７ｒ ０２ ： ２５ｗｔ
％）（以下余白）
％）（以下余白）
第１図はセラミック質原料を溶融、吹き飛ばしている状
態を表わす図である。 １・・・電気炉 ３・・・電極 ５・・・溶湯落下流 ６・・・ノズル ７・・・凝固粒子 出 願 人 昭和電工株式会社 代 理 人 弁理士 菊 地 粕 −
態を表わす図である。 １・・・電気炉 ３・・・電極 ５・・・溶湯落下流 ６・・・ノズル ７・・・凝固粒子 出 願 人 昭和電工株式会社 代 理 人 弁理士 菊 地 粕 −
Claims (1)
- セラミック′１１原おｌを溶融し、その溶湯落下流に高
圧ガスを吹きイリリ、溶湯を微細に飛散させて凝固粉と
し、これを分級もしくは凝固粉を粉砕後分級することを
特徴とりるセラミック賀溶躬祠の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58198307A JPS6092460A (ja) | 1983-10-25 | 1983-10-25 | セラミツク質溶射材の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58198307A JPS6092460A (ja) | 1983-10-25 | 1983-10-25 | セラミツク質溶射材の製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6092460A true JPS6092460A (ja) | 1985-05-24 |
Family
ID=16388952
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58198307A Pending JPS6092460A (ja) | 1983-10-25 | 1983-10-25 | セラミツク質溶射材の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6092460A (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5647921A (en) * | 1979-09-28 | 1981-04-30 | Hitachi Ltd | Magnetic resistance head |
| JPS5811776A (ja) * | 1981-04-06 | 1983-01-22 | ユ−テクテイツク・コ−ポレイシヨン | 火炎吹付粉剤 |
-
1983
- 1983-10-25 JP JP58198307A patent/JPS6092460A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5647921A (en) * | 1979-09-28 | 1981-04-30 | Hitachi Ltd | Magnetic resistance head |
| JPS5811776A (ja) * | 1981-04-06 | 1983-01-22 | ユ−テクテイツク・コ−ポレイシヨン | 火炎吹付粉剤 |
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