JPS6089821A - Magnetic recording medium - Google Patents

Magnetic recording medium

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Publication number
JPS6089821A
JPS6089821A JP19712483A JP19712483A JPS6089821A JP S6089821 A JPS6089821 A JP S6089821A JP 19712483 A JP19712483 A JP 19712483A JP 19712483 A JP19712483 A JP 19712483A JP S6089821 A JPS6089821 A JP S6089821A
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JP
Japan
Prior art keywords
film layer
film
protective film
metal thin
layer
Prior art date
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Pending
Application number
JP19712483A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tsunemi Oiwa
大岩 恒美
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Maxell Ltd
Original Assignee
Hitachi Maxell Ltd
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Filing date
Publication date
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Abstract

PURPOSE:To obtain a magnetic recording medium to which a protective film is securely joined and which has running durability and corrosion resistance by forming a thin ferromagnetic metallic film on a base body and depositing phosphate or the salt thereof on the surface of the thin film then forming an org. high polymer protective film thereon. CONSTITUTION:A thin ferromagnetic metallic film 8 consisting of a metal such as Co, Fe, Ni or the alloy thereof is formed on a base body 1 consisting of a polyester film, etc. A soln. of phosphate such as polyoxyethylene alkyl ether phosphate or the salt thereof is coated on the film 8 and is dried to form a film 9 to join securely the protective layer 10 to be provided thereon so that the peeling of said layer 10 from the magnetic film 8 or the like is prevented. The layer 10 is formed by coating and drying a soln. of a vinyl chloride/vinyl acetate copolymer, etc. or by a plasma polymn. method, etc. of hydrocarbon, fluorin org. compd. or silicon org. compd. The durability and corrosion resistance are thus improved without affecting adversely the electromagnetic conversion characteristic.

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は強磁性金属薄膜層を磁気記録層とする磁気記
録媒体に関し、、その目的とするところは、耐久性およ
び耐帛性に優れた前記の磁気記録媒体を提供することに
ある。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a magnetic recording medium having a ferromagnetic metal thin film layer as a magnetic recording layer, and an object thereof is to provide the above-mentioned magnetic recording medium having excellent durability and film resistance. It's about doing.

強磁性金属薄膜層を磁気記録層とする磁気記録媒体は、
通雷、金属もしくはそれらの合金などを真空参看等によ
って基体フィルム上に被着してつくられ、高密度記録に
適した特性を有するが、反、面磁気ヘッドとの摩擦係弊
が大きくて摩耗や損傷を受け易く、また空気中で徐々に
酸化を受けて最大磁束密度などの磁気特性が劣化するな
どのEIt点がある。
A magnetic recording medium whose magnetic recording layer is a ferromagnetic metal thin film layer is
It is made by depositing lightning conductors, metals, or their alloys on a base film using a vacuum sensor, etc., and has characteristics suitable for high-density recording, but on the other hand, friction with the surface magnetic head is large, resulting in wear and tear. There is an EIt point where magnetic properties such as maximum magnetic flux density deteriorate due to gradual oxidation in the air.

このため、従来から強磁性金属薄膜層上に種々の保護膜
層を設&Jるなどして耐久性および耐食性を改善するこ
とが行われており、被膜性のよい樹脂を溶剤に溶解して
強磁性金属薄膜層上に塗布したり、あるいは近年におい
ては、プラズマ重合やスパフタリング等の方法によって
、有機高分子化合物からなる保護膜層を強磁性金属薄膜
層上に設けることが提案されている。
For this reason, attempts have been made to improve durability and corrosion resistance by forming various protective film layers on the ferromagnetic metal thin film layer, and by dissolving a resin with good film properties in a solvent. It has been proposed to provide a protective film layer made of an organic polymer compound on a ferromagnetic metal thin film layer by coating it on the magnetic metal thin film layer, or, in recent years, by using methods such as plasma polymerization and sputtering. .

ところが、これらの有機高分子化合物からなる保護膜層
は、強磁性金属薄膜層に対する接着性が良好でなく、磁
気ヘッドとの摺接によって比較的短時間で保護膜層が剥
離、破壊したり、高温多湿の条件下では保護膜層下の強
磁性金属薄膜層が比較的短時間で腐食したり保護膜層が
剥離したりする場合があり、未だ耐久性および耐食性は
充分に改善されていない。
However, the protective film layer made of these organic polymer compounds does not have good adhesion to the ferromagnetic metal thin film layer, and the protective film layer peels off or breaks in a relatively short period of time due to sliding contact with the magnetic head. Under high temperature and high humidity conditions, the ferromagnetic metal thin film layer under the protective film layer may corrode in a relatively short time or the protective film layer may peel off, and durability and corrosion resistance have not yet been sufficiently improved.

この発明者は、かかる現状に鑑み種々検討を行った結果
、まず、強磁性金属薄膜層の表面に燐酸エステルもしく
はその塩を被着させ、次いでこの燐酸エステルもしくは
その塩を介してこの上に樹脂を溶剤に溶解して塗布する
か、または有機化合物のモノマーガスをプラズマ重合す
るか、あるいは耐熱性樹脂をスパフタリングするなどし
て、有機高分子化合物からなる保護膜層を形成すると、
燐酸エステルもしくはその塩が強磁性金属薄1*層の表
面に強固に結合するとともに前記の有機高分子化合物か
らなる保護膜層に対して良好な接着性を有するため、こ
の燐酸エステルもしくはその塩を介して前記の有機高分
子化合物からなる保護膜層が強磁性金属薄膜層上に強固
に被着され、耐久性および耐食性が充分に改善されるこ
とを見いだし、この発明をなすに至った。
As a result of various studies in view of the current situation, the inventor first deposited a phosphoric acid ester or a salt thereof on the surface of a ferromagnetic metal thin film layer, and then coated the resin with the phosphoric acid ester or salt thereof. When a protective film layer made of an organic polymer compound is formed by dissolving it in a solvent and applying it, plasma polymerizing an organic compound monomer gas, or sputtering a heat-resistant resin,
This phosphoric ester or its salt is strongly bonded to the surface of the ferromagnetic metal thin 1* layer and has good adhesion to the protective film layer made of the organic polymer compound described above. The present inventors have discovered that the protective film layer made of the organic polymer compound described above can be firmly adhered to the ferromagnetic metal thin film layer through the ferromagnetic metal thin film layer, and the durability and corrosion resistance can be sufficiently improved.

この発明で使用される燐酸エステルもしくはその塩とし
ては、ポリオキシエチレンアルキルエーテル燐酸もしく
はその塩、アルキル燐酸エステルもしくばその塩などが
好ましく使用され、これらの燐酸エステルもしくはその
塩は、金属との親和性がよく金属表面に強固に結合する
とともに有機高分子化合物とのなじみもよい。従って″
、この種の燐酸エステルもしくはその塩は強磁性金属か
らなる強磁性金属薄膜層」二に良好に被着されて被験が
形成され、この上に有機高分子化合物からなる保護膜層
が形成されると、これらの有機高分子化合物からなる保
護膜層ともなじみがよいため、有機高分子化合物からな
る保護膜層がこの種のリン酸エステルもしくはその塩を
介し゛ζ強磁性金属薄膜層上に良好な接着性で強固に被
着される。その結果有機高分子化合物からなる保護膜層
の強磁性金属薄膜層に対する接着性は改善され、たとえ
高温多湿の条件下にあっても保護膜N)の強磁性金属薄
膜層が腐食したり、また保護I!ii!屓が剥離したり
することもなり、耐久性および耐食性が充分に向上され
る。
As the phosphoric acid ester or its salt used in this invention, polyoxyethylene alkyl ether phosphoric acid or its salt, alkyl phosphoric acid ester or its salt, etc. are preferably used. It has good properties and binds firmly to metal surfaces, and is also compatible with organic polymer compounds. Therefore”
This kind of phosphoric acid ester or its salt is well adhered to a ferromagnetic metal thin film layer made of a ferromagnetic metal to form a test material, and a protective film layer made of an organic polymer compound is formed on this. The protective film layer made of the organic polymer compound is also compatible with the protective film layer made of these organic polymer compounds. Strong adhesion with excellent adhesive properties. As a result, the adhesion of the protective film layer made of an organic polymer compound to the ferromagnetic metal thin film layer is improved, and even under high temperature and humidity conditions, the ferromagnetic metal thin film layer of the protective film N) will not corrode or Protection I! ii! The shells will not peel off, and the durability and corrosion resistance will be sufficiently improved.

このような燐酸エステルもしくはその塩は、トルエンな
どの適当な溶剤に溶解し、溶解によって得られた溶液中
に強磁性金属薄膜層を浸漬するか、あるいは上記溶液を
強磁性金属薄膜層の表面に塗布もしくは噴霧するなどの
方法で強磁性金属薄膜層上に被着される。被着量は強磁
性金属薄膜層上に2〜500人の被験が形成される範囲
内で被着させるのが好ましく、2八より膜厚が薄いと所
期の効果が得られず、500人より膜厚が厚いと接着力
が低下する。このように被着量は2〜500人の被験が
形成される範囲内で被着させるのが好ましく、5〜10
0人の被膜が形成される範囲内で被着させるのがより好
ましい。
Such a phosphoric acid ester or its salt is dissolved in an appropriate solvent such as toluene, and the ferromagnetic metal thin film layer is immersed in the solution obtained by dissolution, or the solution is applied to the surface of the ferromagnetic metal thin film layer. It is deposited on the ferromagnetic metal thin film layer by coating or spraying. It is preferable that the amount of the coating be within the range where 2 to 500 test subjects are formed on the ferromagnetic metal thin film layer.If the film thickness is thinner than 28, the desired effect cannot be obtained, The thicker the film, the lower the adhesive strength. In this way, it is preferable to apply the coating amount within a range that will cover 2 to 500 subjects, and 5 to 10
It is more preferable to apply the coating within a range in which a coating of 0 people is formed.

このような燐酸エステルもしくはその塩が被着された強
磁性金属i膜層の表面に、さらにこれらの燐酸エステル
もしくはその塩を介して被着形成される有機高分子化合
物からなる保護I!ii層は、この保gi映層が樹脂を
溶剤に溶解し塗布して形成される場合は、塩化ビニル−
酢酸ビニル系共重合体、ポリビニルブチラール樹脂、繊
維素系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂
、ABS樹脂、メチルメタアクリレート等の被膜性の良
好な樹脂を適当な有ta溶剤に溶解し、強磁性金属薄膜
層上に塗布し乾燥して形成される。このようにして形成
される樹脂からなる保護1!iti 層は被膜性が良好
で自己潤滑性を有するとともに迫瓜な硬さを有し、従っ
てこの樹脂からなる保6’A I¥層が燐酸エステルも
しくはその塩を介し゛ζζ強磁性金属薄膜層上形成され
ると、強磁性金属薄膜1iとの接着性も良好で耐IT耗
性および耐食性が向上される。このような樹脂からなる
保護膜層の膜厚は、300〜3000人の範囲内である
ことが好ましり、11!;l!厚が薄ずぎるとこの保護
膜層にょる#i(天性および耐食性の効果が充分に発揮
されず、厚ずぎるとスペーシングロスが大きく成りすぎ
て電磁変換特性に悪影響を及ばず。
On the surface of the ferromagnetic metal i-film layer coated with such phosphoric acid esters or salts thereof, a protective layer consisting of an organic polymer compound is further deposited via these phosphoric acid esters or salts thereof. When the 2-layer is formed by dissolving the resin in a solvent and applying it, the 2-layer is made of vinyl chloride.
A resin with good film properties such as vinyl acetate copolymer, polyvinyl butyral resin, cellulose resin, polyurethane resin, polyester resin, ABS resin, methyl methacrylate, etc. is dissolved in a suitable ta-containing solvent to form a ferromagnetic material. It is formed by coating on a metal thin film layer and drying it. Protection 1 made of resin thus formed! The layer has good film properties, self-lubricating properties, and extremely hardness. Therefore, the layer made of this resin forms a ferromagnetic metal thin film layer through phosphoric acid ester or its salt. When formed above, the adhesion to the ferromagnetic metal thin film 1i is also good, and IT wear resistance and corrosion resistance are improved. The thickness of the protective film layer made of such a resin is preferably within the range of 300 to 3000, and 11! ;l! If the thickness is too thin, the natural and corrosion-resistant effects of this protective film layer will not be fully exhibited, and if it is too thick, the spacing loss will be too large and will not adversely affect the electromagnetic conversion characteristics.

また、有機化合物のモノマーガスのプラズマ重合によっ
てプラズマ重合保護膜層が形成される場合は、処理槽内
で、炭化水素系化合物、)・、素糸有機化合物およびケ
イ素系有機化合物等のモノマーガスを、高周波によりプ
ラズマ重合させて、前記vj酸エステルもしくはその塩
が被着された強磁性金属薄膜層上に析出することにょっ
゛ζ形成される。このプラズマ重合保護11Jを形成す
るのに使用するモノマーガスとしては、たとえは、ブ1
コバン、エチレン、プロピレンなどの炭化水素系化合物
のモノマーガス、C2F4 、C3F6等のフ・7素系
有機化合物のモノマーガスおよびテトラメチルシラン、
オクタメチルシクロテトラシロキザン、ヘキサメチルジ
シラザン等のケイ素系有機化合物のモノマーガス等が好
ましく使用され、これらの有機化合物のモノマーガスは
、高周波によりラジカルが生成され、この生成されたラ
ジカルが反応し重合して被膜となる。このラジカルはこ
れらの有機化合物が二重結合または三重結合を有してい
たり、また末端に金属元素を有する金属塩化合物である
かあるいはOH基等の官能基を有しているほど生成しや
すいため、これら不飽和結合、金属元素および官能基等
を有するものがより好ましく使用される。またこれらの
七ツマーガスをプラズマ重合する際、アルゴンガス、ヘ
リウムガスおよび酸素ガス等のキャリアガスを併存させ
るとモノマーガスを単独でプラズマ重合する場合に比べ
て3〜5倍の速度で析出されるため、これらのキャリア
ガスを併存させて行うのが好ましい。これらのキャリア
ガスと併存させる際、その組成割合はキャリアガス対前
記有機化合物の七ツマーガスの比にして1文=I l〜
20対lの範囲内で併存さ・けるのが好ましく、キャリ
アガスが少なずぎるとわ1出迎度が低下し、多ずぎると
モノマーガスが少なくなってプラズマ重合反応に支障を
きたす。なお、炭化水素系化合物の七ツマーガスを使用
するときは、酸素ガスをキャリアガスとして使用すると
酸化反応が生じるため、酸素ガスをキャリアガスとして
使用するのは好ましくない。
In addition, when a plasma-polymerized protective film layer is formed by plasma polymerization of monomer gas of an organic compound, monomer gas of hydrocarbon compounds, ), thread organic compounds, silicon-based organic compounds, etc. The vj acid ester or its salt is precipitated on the deposited ferromagnetic metal thin film layer by plasma polymerization using high frequency waves, thereby forming a ferromagnetic metal thin film layer. The monomer gas used to form this plasma polymerization protection 11J includes, for example,
Monomer gas of hydrocarbon compounds such as coban, ethylene, propylene, monomer gas of 7-based organic compounds such as C2F4, C3F6, and tetramethylsilane,
Monomer gases of silicon-based organic compounds such as octamethylcyclotetrasiloxane and hexamethyldisilazane are preferably used, and these organic compound monomer gases generate radicals by high frequency, and the generated radicals react. Polymerizes to form a film. This radical is more likely to be generated when these organic compounds have double bonds or triple bonds, are metal salt compounds with a metal element at the end, or have functional groups such as OH groups. , those having these unsaturated bonds, metal elements, functional groups, etc. are more preferably used. In addition, when plasma polymerizing these 7-mer gases, if a carrier gas such as argon gas, helium gas, or oxygen gas is present, the monomer gas will be deposited at a rate 3 to 5 times faster than when monomer gas is plasma polymerized alone. It is preferable to use these carrier gases together. When coexisting with these carrier gases, the composition ratio is expressed as a ratio of the carrier gas to the 7-mer gas of the organic compound.
It is preferable to coexist within a range of 20 to 1; if the carrier gas is too small, the carrier gas will decrease the carrier gas, and if it is too large, the monomer gas will be too small, which will interfere with the plasma polymerization reaction. Note that when using a 7-mer gas of a hydrocarbon compound, it is not preferable to use oxygen gas as a carrier gas because an oxidation reaction will occur if oxygen gas is used as a carrier gas.

プラズマ重合を行う場合のガス圧および高周波の出力は
、ガス圧が高くなるほど析出速度が速くなる反面モノマ
ーガスが比較的低分子量でプラズマ重合されて硬い保護
膜層が得られず、またガス圧を低くして高周波出力を高
くすると析出速度が遅くなる反面高分子化された比較的
硬い保護膜層が得られるが、ガス圧を低くして高周波出
力を高くしずぎると、モノマーガスが粉末化してしまい
プラズマ重合保護膜層が形成されないため、ガス圧を0
.03〜5トールの範囲内とし、高周波出力を0.03
〜l W / cotの範囲内とするのが好ましく、ガ
ス圧を0.05〜1トールとし、11周波出力を0.0
5〜0.3W/cotの範囲内とするのがより好ましい
。このようにしてプラズマ重合によって析出形成される
有機化合物のプラズマ重合保護膜層は緻密で摩擦係数も
小さく、従ってこの有機化合物のプラズマ重合保護膜層
が燐酸エステルもしくはその塩を介して強磁性金属薄膜
層上に形成されると、強磁性金属薄膜層との接着性もよ
く耐摩耗性および耐食性が一段と向上する。このような
有機化合物のプラズマ重合保護膜j―のII!!厚は、
20〜1000人の範囲内であることが好ましく、膜厚
が薄ずぎるとこの保護膜層による耐久性および耐食性の
効果が充分に発揮されず、厚すぎるとスペーシングロス
が大きくなりすぎて電磁変換特性に悪影響を及ばず。
When performing plasma polymerization, the higher the gas pressure and the higher the high frequency output, the higher the deposition rate, but on the other hand, the monomer gas is plasma polymerized with a relatively low molecular weight, making it difficult to obtain a hard protective film layer. If the gas pressure is lowered and the high frequency output is increased, the deposition rate will be slower, but at the same time a relatively hard protective film layer made of polymer will be obtained. However, if the gas pressure is lowered and the high frequency output is kept high, the monomer gas will turn into powder. If the plasma polymerized protective film layer is not formed, the gas pressure should be reduced to 0.
.. Within the range of 0.03 to 5 torr, and the high frequency output is 0.03
It is preferably within the range of ~l W/cot, with a gas pressure of 0.05-1 Torr and an 11-frequency output of 0.0
More preferably, it is within the range of 5 to 0.3 W/cot. The plasma-polymerized protective film layer of an organic compound that is deposited and formed by plasma polymerization in this way is dense and has a small coefficient of friction. When formed on the layer, it has good adhesion to the ferromagnetic metal thin film layer and further improves wear resistance and corrosion resistance. II! of such a plasma polymerized protective film of an organic compound j-! ! The thickness is
It is preferably within the range of 20 to 1000 people. If the film thickness is too thin, the durability and corrosion resistance effects of this protective film layer will not be fully exhibited, and if it is too thick, the spacing loss will be too large and electromagnetic conversion No adverse effect on characteristics.

さらにスパッタリングによって耐熱性樹脂からなる保護
膜層が形成される場合は、処理槽内で、耐熱性の良好な
樹脂をアルゴンガス等の存在下で高周波によりスパッタ
リングさせて強磁性金属薄膜層上に析出することによっ
て形成される。このようなスパッタリングによって保護
膜層を形成するのに使用される樹脂は、200 ’c以
上の温度で軟化したり分解することのない耐熱性に優れ
た樹脂が好ましく使用され、200℃以下の温度で軟化
したり分解するものではスパッタリング時に分解してし
まうため好ましくない。このような耐熱性樹脂としては
、ポリイミド系樹脂、フッ素系樹脂、シリコーン系樹脂
、フェノール系樹脂、メラミン系樹脂、ポルマリン系樹
脂、尿素系樹脂、フラン系樹脂、エポキシ系樹脂等が挙
げられ、具体例としては、カプトン、シリコーン樹脂、
テフロン、等が挙げられる。
Furthermore, when a protective film layer made of a heat-resistant resin is formed by sputtering, a resin with good heat resistance is sputtered with high frequency in the presence of argon gas etc. in a processing bath to deposit it on the ferromagnetic metal thin film layer. formed by The resin used to form the protective film layer by such sputtering is preferably a resin with excellent heat resistance that does not soften or decompose at temperatures of 200'C or higher; A material that softens or decomposes during sputtering is not preferable because it will decompose during sputtering. Examples of such heat-resistant resins include polyimide resins, fluorine resins, silicone resins, phenol resins, melamine resins, pomarine resins, urea resins, furan resins, and epoxy resins. Examples include Kapton, silicone resin,
Examples include Teflon.

スパッタリングを行う場合のアルゴンガス等のガス圧お
よび高周波の出力は、耐熱性樹脂の分)Wなどがおこら
ないように、ガス圧を0.1−0.001トールとし、
高周波出力を0.1〜5 W / cnlの範囲内とす
るのが好ましい。このようにしてスパッタリングによっ
て析出形成される耐熱性樹脂からなる保護膜層は緻密で
摩擦係数も小さく、従ってこのll1ll熱性(ろ1脂
からなる保護膜層が燐酸エステルもしくはその塩を介し
て強磁性金属薄1薄膜層」二に形成されると、強磁性金
属薄1挨層との接着性もよく、111j摩耗性および耐
食性が一段と向」ニされる。このような耐熱性樹脂から
なる保護膜層の膜厚は20〜1000人の範囲内である
ことが好ましく、膜IIが薄ずぎると保aI膜層による
耐久性および耐食性の9)果が充分に発揮されず、厚す
ぎるとスペーシングロスが大きくなりすぎて電磁変換特
性に悪影響を及ばず。
When performing sputtering, the gas pressure such as argon gas and the output of high frequency are set to 0.1-0.001 torr to prevent heat-resistant resin) W etc.
Preferably, the high frequency output is within the range of 0.1 to 5 W/cnl. The protective film layer made of heat-resistant resin deposited by sputtering in this way is dense and has a small coefficient of friction. When formed as a thin metal layer, it has good adhesion with the ferromagnetic thin metal layer, and its abrasion resistance and corrosion resistance are further improved.A protective film made of such a heat-resistant resin The thickness of the layer is preferably within the range of 20 to 1000. If the film II is too thin, the durability and corrosion resistance of the αI film layer will not be fully demonstrated, and if it is too thick, it will cause spacing loss. becomes too large and does not adversely affect electromagnetic conversion characteristics.

強磁性金属薄膜層の形成材料としては、Co、Fe、N
i、Co−Ni合金、Co−Cr合金、Co−P合金、
Co−JJi−P合金などの強磁性材が使用され、これ
らの強磁性材からなる強磁性金属薄膜層は、真空蒸着、
イオンブレーティング、スパッタリング、メッキ等の手
段によって基体上に被着形成される。
Materials for forming the ferromagnetic metal thin film layer include Co, Fe, and N.
i, Co-Ni alloy, Co-Cr alloy, Co-P alloy,
Ferromagnetic materials such as Co-JJi-P alloy are used, and ferromagnetic metal thin film layers made of these ferromagnetic materials are formed by vacuum deposition,
It is deposited on the substrate by means such as ion blasting, sputtering, and plating.

また、磁気記録媒体としては、ポリエステルフィルム、
ポリイミドフィルムなどの合成樹脂フィルムを基体とす
る磁気テープ、合成樹脂フィルム、アルミニウム扱およ
びガラス板等からなる円盤やドラムを基体とする磁気デ
ィスクや磁気ドラムなど、磁気ヘッドと慴接する構造の
種々の形態を包含する。
In addition, as magnetic recording media, polyester film,
Various types of structures that come in close contact with magnetic heads, such as magnetic tapes based on synthetic resin films such as polyimide films, magnetic disks and magnetic drums based on disks and drums made of synthetic resin films, aluminum and glass plates, etc. includes.

次に、この発明の実施例について説明する。Next, embodiments of the invention will be described.

実施例1 厚さlOμのポリエステルフィルムを真空蒸着装置に装
填し、lX10−5トールの真空下でコバルトを加、熱
蒸発させてポリエステルフィルム上に厚さ800人のコ
バルトからなる強磁性金属薄膜層を形成した。次に、こ
れにブライサーフA−212C(第一工業製薬社製、ポ
リオキシエチレンアルキルエーテル燐酸)の065重量
%イソプロピルアルコール溶液を塗布、乾燥して厚さ1
00へのブライサーフA−212Cからなる被膜を形成
した。次いで、第1図に示すプラズマ処理装置を使用し
、強磁性金属薄膜層を形成しかつその表面に燐酸エステ
ルを塗布、乾燥したポリエステルフィルム1を処理槽2
の内部に配設した円筒状キャン3の周側面に沿って走行
するようにセラ1〜し、処理槽2に取りつけたガス導入
管4からテトラメチルシランのモノマーガスを100s
ecmの流量で導入し、ガス圧0.5トール、電極5の
高周波出力0.3W/Cl11、ポリエステルフィルム
lの走行速度lrn/minでプラズマ重合を行い、j
yさ200人のプラズマ重合保護1liii層を形成し
た。しかる後、所定の中に裁断して第2図に示すような
ポリエステルフィルムl上に強磁性金属薄膜層8、燐酸
エステル被膜9およびプラズマ重合保護膜層10を順次
に積層形成した磁気テープAをつくった。なお、図中6
は処理槽2内を減圧するための排気系であり、7は電極
5に高周波を印加するための高周波電源である。
Example 1 A polyester film with a thickness of lOμ was loaded into a vacuum deposition apparatus, and cobalt was heated and thermally evaporated under a vacuum of lX10-5 torr to form a ferromagnetic metal thin film layer of cobalt with a thickness of 800μ on the polyester film. was formed. Next, a 065% by weight isopropyl alcohol solution of Blysurf A-212C (manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd., polyoxyethylene alkyl ether phosphoric acid) was applied to this, and dried to a thickness of 1.
A coating consisting of Blysurf A-212C to 00 was formed. Next, a ferromagnetic metal thin film layer was formed using the plasma processing apparatus shown in FIG.
A monomer gas of tetramethylsilane is introduced for 100 seconds from the gas introduction pipe 4 attached to the processing tank 2 through the cellar 1 to run along the circumferential side of the cylindrical can 3 disposed inside the processing tank 2.
ecm, plasma polymerization was carried out at a gas pressure of 0.5 Torr, a high frequency output of electrode 5 of 0.3 W/Cl, and a running speed of polyester film l of lrn/min.
A plasma polymerized protective layer of 200 times was formed. Thereafter, a magnetic tape A is prepared by cutting into a predetermined size and sequentially laminating a ferromagnetic metal thin film layer 8, a phosphoric acid ester coating 9, and a plasma polymerized protective film layer 10 on a polyester film l as shown in FIG. I made it. In addition, 6 in the figure
7 is an exhaust system for reducing the pressure inside the processing tank 2, and 7 is a high frequency power source for applying high frequency to the electrode 5.

実施例2 実施例1において、ブライサーフA−212Cの0.5
重量%イソプロピルアルコール溶液に代えて、エルシン
19M(第一工業製薬社製、アルキル燐酸エステル塩)
の0.5重量%イソプロピルアルコール溶液を使用した
以外は実施例1と同様にし′ζエルン19Mからなる厚
さ200人の被11俯を形成し、磁気テープをつくった
Example 2 In Example 1, 0.5 of Blysurf A-212C
Instead of the weight% isopropyl alcohol solution, Erucin 19M (manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd., alkyl phosphate ester salt)
A magnetic tape was produced in the same manner as in Example 1 except that a 0.5% by weight isopropyl alcohol solution was used to form a 200-thick 11-layer film made of 19M ζErn.

実施例3 実施例■におりるプラズマ重合保護膜層の形成において
、テトラメチルシランのモノマーガスに電極5の高周波
出力0.3W/aA、ポリニスデルフィルムlの走行速
度1+n/minでプラズマ重合を行い、jvさ150
人のプラズマ重合保護1模1iを形成した以外ば実施例
1と同様にして磁気テープをつくった。
Example 3 In the formation of the plasma-polymerized protective film layer in Example 2, plasma polymerization was carried out using tetramethylsilane monomer gas at a high frequency output of 0.3 W/aA from electrode 5 and a running speed of polynisdel film 1 of 1+n/min. and jv 150
A magnetic tape was produced in the same manner as in Example 1, except that a human plasma polymerization protection 1 pattern 1i was formed.

実施例4 実施例1におりるプラズマ重合保護1挨層の形成におい
て、テトラメチルシランのモノマーガスに代え“ζ、ゾ
ロパンのモノマーガスを100secmの流量で処理槽
2内に導入し、ガス圧0.51〜−ル、電極5の高周波
出力0 、3 W / a艷、ポリエステルフィルムl
の走行速度1m/minでプラズマ重合を行い、厚さ1
80人のプラズマ重合保i1 M 5を形成した以外は
実施例1と同様にして磁気テープをつくっノこ。
Example 4 In the formation of the plasma polymerization protection 1 dust layer in Example 1, instead of the monomer gas of tetramethylsilane, a monomer gas of ζ and zolopane was introduced into the treatment tank 2 at a flow rate of 100 sec, and the gas pressure was 0. .51~-1, high frequency output of electrode 5 0, 3 W/a, polyester film l
Plasma polymerization was carried out at a running speed of 1 m/min, and the thickness was 1 m/min.
A magnetic tape was made in the same manner as in Example 1, except that 80 plasma polymerization bonds were formed.

実施例5 実施例1におりるプラズマ重合保護lI!層の形成に代
えζ、処理槽2内の電極5上にカプトンをターゲットと
してセソトシ、アルゴンガスのガス圧3×■0弓1・−
ルで電極5の高周波出力をIW/ailとしてスパッタ
リングを行・い、厚さ150人のカプトンからなる保護
膜層を形成した以外は実施例1と同様にして磁気テープ
をつくった。
Example 5 Plasma polymerization protection as in Example 1! Instead of forming a layer ζ, the gas pressure of argon gas is 3 x ■ 0 bow 1 - with Kapton as a target on the electrode 5 in the processing tank 2.
A magnetic tape was produced in the same manner as in Example 1, except that sputtering was carried out with the high frequency output of electrode 5 set to IW/ail to form a protective film layer of 150 Kapton thick.

実施例6 実施例1にお&Jるプラズマ重合保護膜層の形成に代え
て、V A G H(U、C,C社製塩化ビニル−酢酸
ビニル−ビニルアルコール共重合体)の5ffiit%
メチルイソブチルケトン−トルエン 塗布、乾燥して厚さ800人のV A G Hからなる
保護膜層を形成した以外は実施例1と同様にして磁気テ
ープをつくった。
Example 6 Instead of forming the plasma polymerized protective film layer in Example 1, 5ffiit% of V AGH (vinyl chloride-vinyl acetate-vinyl alcohol copolymer manufactured by U, C, C Company) was used.
A magnetic tape was prepared in the same manner as in Example 1, except that methyl isobutyl ketone-toluene was coated and dried to form a protective film layer of 800 V AGH in thickness.

比較例1 実施例1において、プライサーフA−212Cの0 、
 5fJi 量%イソプロピルアルコールを省いた以外
は実施例1と同様にして磁気テープをつくった。
Comparative Example 1 In Example 1, 0 of Plysurf A-212C,
A magnetic tape was prepared in the same manner as in Example 1 except that the isopropyl alcohol was omitted.

比較例2 実施例2において、ニレノン19MのOt5ffi量%
イソプロピルアルコール溶液の塗布を省いた以外は、実
施例2と同様にして磁気テープをつくった。
Comparative Example 2 In Example 2, Ot5ffi amount% of Nilenone 19M
A magnetic tape was produced in the same manner as in Example 2, except that the application of the isopropyl alcohol solution was omitted.

比較例3 実施例3において、プライサーフA−212C(7) 
0.5重量%イソプロピルアルコール溶液の塗布を省い
た以外は実施例3と同様にして磁気テープをつくった。
Comparative Example 3 In Example 3, Plysurf A-212C (7)
A magnetic tape was prepared in the same manner as in Example 3 except that the application of the 0.5% by weight isopropyl alcohol solution was omitted.

比較例4 実施例4において、プライサーフA−212Cの0.5
重量%イソプロピルアルコール溶液の塗布を省いた以外
は実施例4と同様にして磁気テープをつくった。
Comparative Example 4 In Example 4, 0.5 of Plysurf A-212C
A magnetic tape was prepared in the same manner as in Example 4 except that the application of the wt% isopropyl alcohol solution was omitted.

比較例5 実施例5において、プライサーフA−2 1 2Cノ0
.5ffiit%イソプロピルアルコール溶液の塗布を
省いた以外は実施例5と同様にして磁気テープをつくっ
た。
Comparative Example 5 In Example 5, Plysurf A-2 1 2C-0
.. A magnetic tape was prepared in the same manner as in Example 5 except that the application of the 5ffiit% isopropyl alcohol solution was omitted.

比較例6 実施例6において、プライサーフA−212Cの0.5
重量%イソプロピルアルコール溶液の塗布を省いた以外
は実施例6と同様にし゛ζ磁気テープをつ(った。
Comparative Example 6 In Example 6, 0.5 of Plysurf A-212C
A ζ magnetic tape was prepared in the same manner as in Example 6 except that the application of the wt % isopropyl alcohol solution was omitted.

各実施例および各比較例で得られた磁気テープについて
、接着強度を測定し、耐久性および耐食性を試験した。
The adhesive strength of the magnetic tapes obtained in each Example and each Comparative Example was measured, and the durability and corrosion resistance were tested.

接着強度は剥離試験機を用いて剥離試験を行って測定し
、耐久性試験はVHS型ビデオテープレコーダを使用し
て得られた磁気テープのスチルライフを測定して行った
。また耐食性、試験は得られた磁気テープを60℃、9
0%RHの条件下に7日間放置して最大磁束密度を測定
し、放置前の磁気テープの最大磁束密度を100%とし
、これと比較した値でその劣化率を調べて行った。
The adhesive strength was measured by performing a peel test using a peel tester, and the durability test was performed by measuring the still life of the magnetic tape obtained using a VHS type video tape recorder. In addition, corrosion resistance tests were conducted on the obtained magnetic tape at 60°C and 90°C.
The maximum magnetic flux density was measured after being left under the condition of 0% RH for 7 days, and the deterioration rate was compared with the maximum magnetic flux density of the magnetic tape before being left as 100%.

下表はその結果である。The table below shows the results.

上表から明らかなように、この発明で得られた(dステ
ープ(実施例工ないし6)は、いずれも比較例1ないし
6で得られた磁気テープに比し、接着強度が強く、スチ
ルライフか長くて劣化率が小さく、このことからこの発
明によって得られる磁気記録媒体は、有機高分子化合物
からなる保護1模層の強磁性金属薄膜層に対する接着性
が良好で、その結果、耐久性および耐食性が一段と改善
されていることがわかる。
As is clear from the above table, the (d tapes (Examples 1 to 6) obtained in this invention have stronger adhesive strength and longer still life than the magnetic tapes obtained in Comparative Examples 1 to 6. Therefore, the magnetic recording medium obtained by the present invention has good adhesion to the ferromagnetic metal thin film layer of the protective first layer made of an organic polymer compound, and as a result, has excellent durability and It can be seen that the corrosion resistance has been further improved.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図はプラズマ重合保護膜層を形成する際に使用する
プラズマ処理装置の1例を示す概略断面図、第2図はこ
の発明によっζ得られた磁気テープの部分拡大断面図で
ある。 ■・・・ポリエステルフィルム(基体)、8・・・強磁
性金属薄膜j督、9・・・燐酸エステル被膜、IO・・
・プラズマ重合保護膜層(有機高分子化合物保護膜層)
、A・・・磁気テープ(磁気記録媒体)特許出願人 日
立マクセル株式会社 代理人 高岡−春 第1図 A 第2図
FIG. 1 is a schematic sectional view showing an example of a plasma processing apparatus used in forming a plasma polymerized protective film layer, and FIG. 2 is a partially enlarged sectional view of a magnetic tape obtained by the present invention. ■...Polyester film (substrate), 8...Ferromagnetic metal thin film director, 9...Phosphate ester coating, IO...
・Plasma polymerized protective film layer (organic polymer compound protective film layer)
, A... Magnetic tape (magnetic recording medium) patent applicant Hitachi Maxell Co., Ltd. Agent Takaoka-Haru Figure 1 A Figure 2

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1、基体上に金属もしくはそれらの合金からなる強磁性
金属薄膜層牽形成し、この強磁性金属薄り層の表面に燐
酸エステルもしくはその塩を被着し、さらにこの上に有
機高分子化合物からなる保護膜層、を設、けたこ、とを
特徴とする磁気記録媒体
1. A ferromagnetic metal thin film layer made of a metal or an alloy thereof is formed on a substrate, a phosphoric acid ester or its salt is deposited on the surface of this ferromagnetic metal thin layer, and an organic polymer compound is further coated on the surface of the ferromagnetic metal thin layer. A magnetic recording medium characterized by having a protective film layer and a structure.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62236128A (en) * 1986-04-08 1987-10-16 Fuji Photo Film Co Ltd Magnetic recording medium

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