JPS6234324A - Magnetic recording medium - Google Patents

Magnetic recording medium

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Publication number
JPS6234324A
JPS6234324A JP17382785A JP17382785A JPS6234324A JP S6234324 A JPS6234324 A JP S6234324A JP 17382785 A JP17382785 A JP 17382785A JP 17382785 A JP17382785 A JP 17382785A JP S6234324 A JPS6234324 A JP S6234324A
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JP
Japan
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film layer
protective film
titanium oxide
layer made
layer
Prior art date
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Pending
Application number
JP17382785A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Noboru Isoe
磯江 昇
Kunio Wakai
若居 邦夫
Tetsuo Mizumura
哲夫 水村
Fumio Komi
文夫 小海
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Maxell Ltd
Original Assignee
Hitachi Maxell Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Maxell Ltd filed Critical Hitachi Maxell Ltd
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Publication of JPS6234324A publication Critical patent/JPS6234324A/en
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Abstract

PURPOSE:To extend the still reproduction life of a titled medium, to decrease the rate of deterioration and to improve the durability and corrosion resistance thereof by providing a protective film layer of an org. high-polymer compd. on a protective film layer of a titanium oxide provided on the surface of a thin ferromagnetic metallic film. CONSTITUTION:The protective film layer 3 consisting of the titanium oxide formed on the thin ferromagnetic metallic film 2 is formed by depositing the titanium oxide by a method such as vacuum deposition or sputtering on the layer 2. Although this layer 3 has a large coefft. of friction with a magnetic head, etc., the protective film layer 4 consisting of the org. high-polymer compd. contg. carbon or carbon atoms is provided thereon. The direct sliding contact of the layer 3 with the magnetic head is blocked by the layer 4, by which the excellent corrosion preventive effect of the layer 3 is exhibited and the corrosion resistance is improved without deteriorating the durability.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は強磁性金属薄膜層を磁気記録層とする磁気記
録媒体に関し、さらに詳しくは、耐久性および耐食性に
優れた前記の磁気記録媒体に関する。
Detailed Description of the Invention [Field of Industrial Application] The present invention relates to a magnetic recording medium having a ferromagnetic metal thin film layer as a magnetic recording layer, and more particularly relates to the above-mentioned magnetic recording medium having excellent durability and corrosion resistance. .

〔従来の技術〕[Conventional technology]

強磁性金属薄膜層を磁気記録層とする磁気記録媒体は、
通常、金属もしくはそれらの合金などを真空蒸着、スパ
ッタリング等によって基体フィルム上に被着してつくら
れ、高密度記録に適した特性を有するが、反面磁気ヘッ
ドとの摩擦係数が太き(て摩耗や損傷を受は易く、また
空気中で徐々に酸化を受けて最大磁束密度などの磁気特
性が劣化するなどの難点がある。
A magnetic recording medium whose magnetic recording layer is a ferromagnetic metal thin film layer is
It is usually made by depositing metals or their alloys on a base film by vacuum evaporation, sputtering, etc., and has characteristics suitable for high-density recording, but on the other hand, it has a high coefficient of friction with the magnetic head (and wears out). It is easily damaged and is subject to gradual oxidation in the air, resulting in deterioration of magnetic properties such as maximum magnetic flux density.

このため、従来から強磁性金属薄膜層上に種々の保護膜
層を設けるなどして耐久性および耐食性を改善すること
が行われており、たとえば、耐食性に優れたチタン酸化
物膜層を設けたり (特開昭5’l−147133号)
、また、フッ素系/I21滑剤を被着したり(特開昭5
8−94130号)、さらに、有機化合物のモノマーガ
スをプラズマ重合して、有機化合物のプラズマ重合保護
膜層を設ける(特開昭53−13231O号)ことが提
案されている。
For this reason, efforts have been made to improve durability and corrosion resistance by providing various protective film layers on the ferromagnetic metal thin film layer. For example, by providing a titanium oxide film layer with excellent corrosion resistance, (Unexamined Japanese Patent Publication No. 5'l-147133)
In addition, a fluorine-based/I21 lubricant may be applied (Japanese Patent Application Laid-Open No.
8-94130), and furthermore, it has been proposed to plasma-polymerize a monomer gas of an organic compound to provide a plasma-polymerized protective film layer of an organic compound (Japanese Patent Laid-Open No. 13231-1983).

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problem that the invention seeks to solve]

ところが、強磁性金属薄膜層上にチタン酸化物膜層を設
けたものは、耐食性に優れる反面磁気ヘッド等との摩擦
係数が大きくて耐久性に欠け、フッ素系の潤?fk剤層
や有機化合物のプラズマ重合保護膜層を設けたものは、
未だ耐食性が充分に良好でなく、耐久性および耐食性は
未だ充分に改善されていない。
However, although a titanium oxide film layer provided on a ferromagnetic metal thin film layer has excellent corrosion resistance, it has a large coefficient of friction with magnetic heads, etc., and lacks durability. Those with an fk agent layer or a plasma polymerized protective film layer of an organic compound are
Corrosion resistance is still not sufficiently good, and durability and corrosion resistance have not yet been sufficiently improved.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

この発明はかかる現状に鑑み種々検討を行った結果なさ
れたもので、まず、強磁性金属薄膜層の表布にチタン酸
化物からなる第1の保護膜層を設け、さらにこの上にカ
ーボンもしくは少なくとも炭素原子を含む有機高分子化
合物からなる第2の保護膜層を設けることによって、磁
気へノド等との摩擦係数を充分に小さくし、耐久性およ
び耐食性を充分に改善したものである。
This invention was made as a result of various studies in view of the current situation. First, a first protective film layer made of titanium oxide is provided on the surface cloth of a ferromagnetic metal thin film layer, and then a first protective film layer made of titanium oxide is provided on the surface fabric of the ferromagnetic metal thin film layer. By providing the second protective film layer made of an organic polymer compound containing carbon atoms, the coefficient of friction with the magnetic head etc. is made sufficiently small, and the durability and corrosion resistance are sufficiently improved.

この発明において、強磁性金属薄膜層上に形成されるチ
タン酸化物からなる第1の保護膜層は、チタン酸化物を
真空蒸着、スパッタリング、イオンブレーティング等の
方法で強磁性金属薄膜層上に被着して形成され、チタン
酸化物としては、たとえば、T i 02等が好適なも
のとして使用される。このようにして形成されるこの種
のチタン酸化物からなる保護膜層は、磁気へ・7ド等と
の摩擦係数が大きいが、この上にさらにカーボンもしく
は少なくとも炭素原子を含む有機高分子化合物からなる
第2の保護膜層が設けられると、この第2の保護膜層に
よって、磁気ヘッド等との直接の摺接が遮られ、チタン
酸化物からなる保護膜層の非常に優れた耐食効果が充分
に発揮されて、耐久性を低下させずに耐食性が充分に向
上される。またこの種のチタン酸化物からなる保護膜層
は、金属磁性材からなる強磁性金属薄膜層との接着性が
極めてよく、強磁性金属薄膜層上に強固に被着形成され
る。層厚は強磁性金属薄膜層と前記の第2の保護膜層と
の間にあって、耐食性を充分に発揮させるため、10Å
以上にするのが好ましい。しかし、この上にさらに積層
されるカーボンもしくは少なくとも炭素原子を含む有機
高分子化合物からなる第2の保護膜層との合計厚が50
0人より厚くなると、スペーシングロスが大きくなって
、電磁変換特性が劣化するおそれがあるため、この第2
の保護膜層との合計厚が500Å以下となるようにする
のが好ましい。
In this invention, the first protective film layer made of titanium oxide formed on the ferromagnetic metal thin film layer is formed by depositing titanium oxide on the ferromagnetic metal thin film layer by a method such as vacuum evaporation, sputtering, or ion blating. For example, T i 02 is preferably used as the titanium oxide. The protective film layer made of this type of titanium oxide formed in this way has a high coefficient of friction with magnetic fields, etc., but is further coated with carbon or an organic polymer compound containing at least carbon atoms. When a second protective film layer made of titanium oxide is provided, direct sliding contact with the magnetic head etc. is blocked by this second protective film layer, and the extremely excellent corrosion resistance effect of the protective film layer made of titanium oxide is maintained. Corrosion resistance is sufficiently improved without reducing durability. Further, the protective film layer made of this type of titanium oxide has extremely good adhesion to the ferromagnetic metal thin film layer made of a metal magnetic material, and is firmly adhered to the ferromagnetic metal thin film layer. The layer thickness is between the ferromagnetic metal thin film layer and the second protective film layer, and is 10 Å in order to fully exhibit corrosion resistance.
It is preferable to do the above. However, the total thickness of the second protective film layer made of carbon or an organic polymer compound containing at least carbon atoms, which is further laminated on top of this, is 50 mm.
If it becomes thicker than 0, the spacing loss will increase and the electromagnetic conversion characteristics may deteriorate, so this second
It is preferable that the total thickness with the protective film layer is 500 Å or less.

また、チタン酸化物からなる第1の保護膜層上に被着形
成されるカーボンからなる保護膜層は、カーボンを真空
蒸着、スパッタリング、イオンブレーティング等の方法
で強磁性金属薄膜層上に被着して形成される。このよう
にして形成されるこの種のカーボンからなる保護膜層は
、アモルファス構造で磁気ヘッド等との摩擦係数が小さ
く、強磁性金属薄膜層上に形成したチタン酸化物からな
る第1の保護膜層上にあって、第1の保護膜層が直接磁
気ヘッド等に摺接することを防止するとともに、摩擦係
数を充分に低減して耐摩耗性を充分に向上する。従って
、この種のカーボンからなる第2の保護膜層が、前記の
チタン酸化物からなる第1の保護膜層上に形成されると
、摩擦係数が充分に低減されて耐摩耗性が充分に向上さ
れ、同時に第1の保護膜層の優れた耐食性も充分に発揮
されて、耐久性および耐食性が充分に向上される。
In addition, the protective film layer made of carbon is deposited on the first protective film layer made of titanium oxide, and carbon is coated on the ferromagnetic metal thin film layer by a method such as vacuum evaporation, sputtering, or ion blasting. It is formed by wearing. The protective film layer made of this type of carbon formed in this way has an amorphous structure and has a small coefficient of friction with magnetic heads, etc., and has a first protective film made of titanium oxide formed on the ferromagnetic metal thin film layer. It prevents the first protective film layer from coming into direct sliding contact with the magnetic head, etc., and also sufficiently reduces the coefficient of friction and sufficiently improves wear resistance. Therefore, when the second protective film layer made of this type of carbon is formed on the first protective film layer made of titanium oxide, the coefficient of friction is sufficiently reduced and the wear resistance is sufficiently improved. At the same time, the excellent corrosion resistance of the first protective film layer is fully exhibited, and the durability and corrosion resistance are sufficiently improved.

また、チタン酸化物からなる第1の保護膜層上に被着形
成される有機高分子化合物からなる保護膜層は、この保
護膜層が、プラズマ重合によって形成される場合は、処
理槽内で、炭化水素系化合物、フッ素系有機化合物およ
びケイ素系有機化合物等のモノマーガスを、高周波によ
りプラズマ重合させて前記の金属薄膜層上に析出形成す
ることによって形成される。このプラズマ重合保護膜層
を形成するのに使用するモノマーガスとしては、たとえ
ば、プロパン、エチレン、プロピレン等の炭化水素系化
合物のモノマーガス、02F4.03F6等のフッ素系
有機化合物のモノマーガスおよびテトラメチルシラン、
オクタメチルシクロテトラシロキサン、ヘキサメチルジ
シラザン等のケイ素系有機化合物のモノマーガス等が好
ましく使用され、これらの有機化合物のモノマーガスは
、高周波によりラジカルが生成され、この生成されたラ
ジカルが反応し重合して被膜となる。このラジカルはこ
れらの有機化合物が二重結合または三重結合を有してい
たり、また末端に全屈元素を有する金属塩化合物である
かあるいはO1l基等の官能基を有しているほど生成し
やすいため、これら不飽和結合、全屈元素および官能基
等を有するものがより好ましく使用される。またこれら
の七ツマーガスをプラズマ重合する際、アルゴンガス、
ヘリウムガスおよび酸素ガス等のキャリアガスを併存さ
せるとモノマーガスを単独でプラズマ重合する場合に比
べて3〜5倍の速度で析出されるため、これらのキャリ
アガスを併存させて行うのが好ましい。これらのキャリ
アガスと併存させる際、その組成割合はキャリアガス対
前記有機化合物の七ツマーガスの容積比にして1対20
〜1対10割合で併存させるのが好ましく、キャリアガ
スが少なすぎると析出速度が低下し、多すぎるとモノマ
ーガスが少なくなってプラズマ■合反応に支障をきたす
。なお、炭化水素系化合物のモノマーガスを使用すると
きは、酸素ガスをキャリアガスとして使用すると酸化反
応が生じるため、酸素ガスをキャリアガスとして使用す
るのは好ましくない。
In addition, when the protective film layer made of an organic polymer compound and formed on the first protective film layer made of titanium oxide is formed by plasma polymerization, the protective film layer is , a monomer gas such as a hydrocarbon compound, a fluorine-based organic compound, and a silicon-based organic compound is plasma-polymerized using high frequency waves and deposited on the metal thin film layer. Examples of the monomer gas used to form this plasma-polymerized protective film layer include monomer gases of hydrocarbon compounds such as propane, ethylene, and propylene, monomer gases of fluorine-based organic compounds such as 02F4.03F6, and tetramethyl silane,
Monomer gases of silicon-based organic compounds such as octamethylcyclotetrasiloxane and hexamethyldisilazane are preferably used. Radicals of these organic compound monomer gases are generated by high frequency waves, and the generated radicals react and polymerize. It becomes a film. This radical is more likely to be generated when these organic compounds have a double bond or triple bond, are metal salt compounds with a fully bent element at the end, or have a functional group such as an O1l group. Therefore, those having these unsaturated bonds, totally bent elements, functional groups, etc. are more preferably used. In addition, when plasma polymerizing these 7-mer gases, argon gas,
When carrier gases such as helium gas and oxygen gas are present together, the monomer gas is deposited at a rate 3 to 5 times higher than when monomer gas is plasma-polymerized alone, so it is preferable to carry out the coexistence of these carrier gases. When coexisting with these carrier gases, the composition ratio is 1:20 in terms of volume ratio of the carrier gas to the 7-mer gas of the organic compound.
It is preferable that they coexist at a ratio of ~1:10; if the carrier gas is too small, the deposition rate will be reduced, and if it is too large, the monomer gas will be too small, which will impede the plasma integration reaction. Note that when using a monomer gas of a hydrocarbon compound, it is not preferable to use oxygen gas as a carrier gas because an oxidation reaction will occur if oxygen gas is used as a carrier gas.

プラズマ重合を行う場合のガス圧および高周波の電力は
、ガス圧が高くなるほどプラズマ重合保護膜層の被着速
度が速くなる反面モノマーガスが架橋密度低くプラズマ
重合されて硬いプラズマ重合保護膜層が得られず、また
ガス圧を低くして高周波電力を高くすると被着速度が遅
くなる反面架橋密度が比較的高くて硬いプラズマ重合保
護膜層が得られる。ところが、ガス圧を低くして高周波
電力を高くしすぎると、モノマーガスが粉末化してしま
いプラズマ重合保護’AtARが形成されないため、ガ
ス圧を0.005〜3トールの範囲内とし、高周波電力
を0.03〜3 W / cn!の範囲内とするのが好
ましく、ガス圧を0,01〜1トールとし、高周波電力
を0.05〜2 W / cotの範囲内とするのがよ
り好ましい。また、このようなプラズマ重合保護膜層の
形成は、高周波を印加した電極側で行うのがより好まし
い。このようにしてプラズマ重合によって被着形成され
る有機化合物のプラズマ重合保護膜層は、緻密で摩擦係
数が小さく、強磁性金属薄膜層上に形成したチタン酸化
物からなる第1の保護膜層上にあって、第1の保護膜層
が直接磁気ヘッド等に摺接することを防止するとともに
、耐摩耗性を充分に向上する。従って、この種のプラズ
マ重合保護膜層が、前記のチタン酸化物からなる第1の
保護膜層上に形成されると、摩擦係数が充分に低減され
て耐摩耗性が充分に向上され、同時に第1の保護膜層の
優れた耐食性も充分に発揮されて、耐久性および耐食性
が充分に向上される。
When performing plasma polymerization, the higher the gas pressure and the higher frequency power, the faster the deposition rate of the plasma-polymerized protective film layer, but the monomer gas has a lower crosslinking density and is plasma-polymerized, resulting in a harder plasma-polymerized protective film layer. Moreover, when the gas pressure is lowered and the radio frequency power is increased, the deposition rate becomes slower, but a hard plasma polymerized protective film layer with a relatively high crosslinking density is obtained. However, if the gas pressure is low and the high frequency power is too high, the monomer gas will turn into powder and the plasma polymerization protection 'AtAR will not be formed. 0.03~3 W/cn! The gas pressure is preferably in the range of 0.01 to 1 torr, and the high frequency power is more preferably in the range of 0.05 to 2 W/cot. Moreover, it is more preferable to form such a plasma polymerized protective film layer on the electrode side to which high frequency waves are applied. The plasma-polymerized protective film layer of an organic compound deposited by plasma polymerization in this way is dense and has a small coefficient of friction, and is formed on the first protective film layer made of titanium oxide formed on the ferromagnetic metal thin film layer. In this way, the first protective film layer is prevented from coming into direct sliding contact with the magnetic head, etc., and the wear resistance is sufficiently improved. Therefore, when this kind of plasma-polymerized protective film layer is formed on the first protective film layer made of titanium oxide, the coefficient of friction is sufficiently reduced and the wear resistance is sufficiently improved, and at the same time The excellent corrosion resistance of the first protective film layer is also fully exhibited, and the durability and corrosion resistance are sufficiently improved.

また、有機高分子化合物からなる保護膜層をスパッタリ
ングによって形成する場合は、処理槽内で、耐熱性の良
好な樹脂をアルゴンガス等の存在下で高周波によりスパ
ッタリングさせて、磁性層上に析出させることによって
形成される。このようなスパッタリングによって保護膜
層を形成するのに使用される樹脂としては、200℃以
上の温度で軟化したり分解することのない耐熱性に優れ
た樹脂が好ましく使用され、たとえば、イミド系樹脂、
シリコーン系樹脂、フェノール系樹脂、メラミン系樹脂
、ホルマリン系樹脂、尿素系樹脂、フラン系樹脂、エポ
キシ系樹脂等が好適なものとして使用される。
In addition, when forming a protective film layer made of an organic polymer compound by sputtering, a resin with good heat resistance is sputtered with high frequency in the presence of argon gas etc. in a processing bath to deposit it on the magnetic layer. formed by As the resin used to form the protective film layer by such sputtering, resins with excellent heat resistance that do not soften or decompose at temperatures of 200°C or higher are preferably used, such as imide resins. ,
Silicone resins, phenolic resins, melamine resins, formalin resins, urea resins, furan resins, epoxy resins, and the like are preferably used.

スパッタリングを行う場合のアルゴンガス等のガス圧お
よび高周波の電力は、析出速度を良好にしかつ高分子の
分解を防止するため、ガス圧を、0.001〜0.1ト
ールとし、平方センチあたりの高周波電力を0.1〜2
 W / cAの範囲内とするのが好ましい。このよう
にしてスパッタリングによって析出形成される耐熱性樹
脂からなる保護膜層は、緻密で摩擦係数も小さく、強磁
性金属薄膜層上に形成したチタン酸化物からなる第1の
保護膜層上にあって、第1の保護膜層が直接磁気ヘッド
等に摺接することを防止するとともに、耐摩耗性を充分
に向上する。従って、この種の耐熱性樹脂からなる保護
膜層が、前記のチタン酸化物からなる第1の保護膜層上
に形成されると、摩擦係数が充分に低減されて耐摩耗性
が充分に向上され、同時に第1の保護膜層の優れた耐食
性も充分に発揮されて、耐久性および耐食性が充分に向
上される。
When performing sputtering, gas pressure such as argon gas and high frequency power are set at 0.001 to 0.1 torr per square centimeter in order to improve the deposition rate and prevent decomposition of the polymer. High frequency power 0.1~2
It is preferably within the range of W/cA. The protective film layer made of a heat-resistant resin deposited by sputtering in this manner is dense and has a small coefficient of friction, and is placed on the first protective film layer made of titanium oxide formed on the ferromagnetic metal thin film layer. This prevents the first protective film layer from coming into direct sliding contact with the magnetic head, etc., and sufficiently improves wear resistance. Therefore, when a protective film layer made of this kind of heat-resistant resin is formed on the first protective film layer made of titanium oxide, the coefficient of friction is sufficiently reduced and wear resistance is sufficiently improved. At the same time, the excellent corrosion resistance of the first protective film layer is fully exhibited, and the durability and corrosion resistance are sufficiently improved.

このようなカーボン、もしくはプラズマ重合保護膜層お
よび耐熱性樹脂からなる保護膜層等の有機高分子化合物
からなる保護膜層の層厚は、耐摩耗性を充分に向上させ
るため50Å以上にするのが好ましく、前記のチタン酸
化物からなる第1の保護膜層との合計厚が500人より
厚くなると、スペーシングロスが大きくなって、電磁変
換特性が劣化するおそれがあるため、第1の保護膜層と
の合計厚が500Å以下となるようにするのが好ましい
The thickness of the protective film layer made of carbon or an organic polymer compound such as the plasma polymerized protective film layer and the heat-resistant resin protective film layer should be 50 Å or more in order to sufficiently improve wear resistance. is preferable, and if the total thickness with the first protective film layer made of titanium oxide is greater than 500, the spacing loss may increase and the electromagnetic conversion characteristics may deteriorate. It is preferable that the total thickness with the film layer is 500 Å or less.

強磁性金属薄膜層の形成材料としては、Co。The material for forming the ferromagnetic metal thin film layer is Co.

−Fe、Ni等の金属、Co−Ni、 Co−Cr。- Metals such as Fe and Ni, Co-Ni, Co-Cr.

Fe−Co、  Fe−Co−Cr、  Co’−Pt
、  Co−Ti等の合金、あるいはこれらの金属およ
び合金の酸化物、およびCo−P、 Co−Ni −P
などの強磁性材が使用され、これらの強磁性材からなる
強磁性金属薄膜層は、真空蒸着、イオンブレーティング
、スパッタリング、メッキ等の手段によって基体上に被
着形成される。
Fe-Co, Fe-Co-Cr, Co'-Pt
, alloys such as Co-Ti, or oxides of these metals and alloys, and Co-P, Co-Ni -P
A ferromagnetic metal thin film layer made of these ferromagnetic materials is deposited on a substrate by means such as vacuum evaporation, ion blasting, sputtering, and plating.

また、基体としては、ポリエステル、ポリイミド、ポリ
アミド、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネートなどのプラ
スチックフィルム、またこれらのプラスチ・ツクフィル
ム中に炭素繊維、Cuなどを混入した複合フィルム、C
u、Znなどの非磁性全屈フィルム、アルミニウム板お
よびガラス板等、従来から使用されているものがいずれ
も好適なものとして使用され、磁気記録媒体としては、
これらのプラスチックフィルム等を基体として用いた磁
気テープ、プラスチックフィルム、アルミニウム板およ
びガラス板などからなる円盤を基体として用いた磁気デ
ィスクや磁気ドラムなど、磁気へ・7ドと摺接する構造
の種々の形態を包含する。
In addition, as a substrate, plastic films such as polyester, polyimide, polyamide, polyvinyl chloride, and polycarbonate, as well as composite films in which carbon fiber, Cu, etc. are mixed into these plastic films, and C
All conventionally used materials such as non-magnetic totally refractive films such as U and Zn, aluminum plates and glass plates are preferably used, and as magnetic recording media,
Various forms of structures that come into sliding contact with magnetism include magnetic tapes using these plastic films as bases, magnetic disks and magnetic drums using discs made of plastic films, aluminum plates, glass plates, etc. as bases. includes.

〔実施例〕〔Example〕

次に、この発明の実施例について説明する。 Next, embodiments of the invention will be described.

実施例1 厚さ10μmのポリエステルフィルムを真空蒸着装置に
装填し、5X10−’)−ルの真空下でコバルトを加熱
蒸発させ、50人/secの析出速度で斜め入射蒸着し
てポリエステルフィルム上に厚さ1000人のコバルト
からなる強磁性金属薄膜層を形成した。その後、真空槽
内を再び5X10−6トールに排気し、アルゴンガスを
導入して、5X10−1−ルのアルゴンガス雰囲気下で
300Wの電圧を加えて、TiO2を5人/secの析
出速度でスパッタリングし、TiO2からなる厚さ10
0人の第1の保護膜層を形成した。引き続いて、この第
1の保護膜層上に、5×IO弓トールのアルゴンガス雰
囲気下で300Wの電圧を加えて、カーボンを5人/s
ecの析出速度でスパッタリングし、カーボンからなる
厚さ100人の第2の保護膜層を形成した。しかる後、
所定の巾に裁断して第1図に示すようなポリエステルフ
ィルム1上に強磁性金属薄膜層2、第1の保護膜層3、
第2の保護膜層4を順次に積層形成した磁気テープAを
つくった。
Example 1 A polyester film with a thickness of 10 μm was loaded into a vacuum evaporation apparatus, and cobalt was heated and evaporated under a vacuum of 5×10 −′) and deposited on the polyester film by oblique incidence deposition at a deposition rate of 50 people/sec. A ferromagnetic metal thin film layer of cobalt with a thickness of 1000 nm was formed. After that, the inside of the vacuum chamber was evacuated to 5X10-6 Torr again, argon gas was introduced, and a voltage of 300W was applied in an argon gas atmosphere of 5X10-1-Torr to deposit TiO2 at a rate of 5 persons/sec. sputtered and made of TiO2 with a thickness of 10
A first protective film layer was formed. Subsequently, on this first protective film layer, a voltage of 300 W was applied in an argon gas atmosphere of 5×IO bow, and carbon was applied at 5 people/s.
Sputtering was performed at a deposition rate of EC to form a second protective film layer of carbon having a thickness of 100 mm. After that,
A ferromagnetic metal thin film layer 2, a first protective film layer 3,
A magnetic tape A was prepared in which the second protective film layer 4 was sequentially laminated.

実施例2 実施例1における第2の保護膜層の形成において、カー
ボンからなる第2の保護膜層を形成する代わりに、再度
真空槽内を5X10−’トールに真空排気し、真空槽内
にC2F4のモノマーガスを10ml/flIinの割
合で導入するとともにアルゴンガスを40m1/min
の割合で導入し、ガス圧2×1O−2)−ルで高周波を
500W印加して1分間プラズマ重合を行い、T i 
02からなる第1の保護膜層上に、100人のプラズマ
重合保護膜層からなる第2の保護膜層を形成した以外は
、実施例1と同様にして、磁気テープAをつくった。
Example 2 In forming the second protective film layer in Example 1, instead of forming the second protective film layer made of carbon, the inside of the vacuum chamber was again evacuated to 5×10-' Torr, and the inside of the vacuum chamber was C2F4 monomer gas was introduced at a rate of 10ml/flIin, and argon gas was introduced at a rate of 40ml/min.
was introduced at a ratio of Ti
Magnetic tape A was produced in the same manner as in Example 1, except that a second protective film layer made of a plasma polymerized protective film layer of 100 people was formed on the first protective film layer made of 02.

比較例1 実施例1において、第1の保護膜層の形成を省いた以外
は実施例1と同様にして磁気テープをつく った。
Comparative Example 1 A magnetic tape was produced in the same manner as in Example 1 except that the formation of the first protective film layer was omitted.

比較例2 実施例1において、第2の保護膜層の形成を省いた以外
は実施例1と同様にして磁気テープをつく った。
Comparative Example 2 A magnetic tape was produced in the same manner as in Example 1 except that the formation of the second protective film layer was omitted.

比較例3 実施例2において、第1の保護膜Jiの形成を省いた以
外は実施例2と同様にして磁気テープをつく った。
Comparative Example 3 A magnetic tape was produced in the same manner as in Example 2 except that the formation of the first protective film Ji was omitted.

比較例4 実施例1において、第1の保護膜層および第2の保護膜
層の形成を省いた以外は実施例1と同様にして磁気テー
プをつくった。
Comparative Example 4 A magnetic tape was produced in the same manner as in Example 1 except that the formation of the first protective film layer and the second protective film layer was omitted.

各実施例および比較例で得られた磁気テープについて、
耐久性および耐食性を試験した。耐久性試験は、市販の
VTRテープデツキを用いて、2Q ’C150%RH
の条件下で得られた磁気テープのスチル試験を行い、ス
チル再生寿命を測定して行った。また耐食性試験は得ら
れた磁気テープを60℃、90%RHの条件下に7日間
放置して最大磁束密度を測定し、放置前の磁気テープの
最大磁束密度を100%とし、これと比較した値でその
劣化率を調べて行った。
Regarding the magnetic tapes obtained in each example and comparative example,
Tested for durability and corrosion resistance. The durability test was conducted using a commercially available VTR tape deck at 2Q'C150%RH.
A still test was conducted on the magnetic tape obtained under the following conditions, and the still playback life was measured. In addition, in the corrosion resistance test, the obtained magnetic tape was left under conditions of 60°C and 90% RH for 7 days, the maximum magnetic flux density was measured, and the maximum magnetic flux density of the magnetic tape before being left was taken as 100%, and compared with this. The deterioration rate was investigated based on the value.

下表はその結果である。The table below shows the results.

表 〔発明の効果〕 上表から明らかなように、実施例1および2で得られた
磁気テープは、比較例1ないし4で得られた磁気テープ
に比し、いずれもスチル再生寿命が長くて、劣化率が小
さく、このことからこの発明によって得られる磁気記録
媒体は、耐久性および耐食性が一段と向上されているこ
とがわかる。
Table [Effects of the Invention] As is clear from the above table, the magnetic tapes obtained in Examples 1 and 2 both had longer still playback lives than the magnetic tapes obtained in Comparative Examples 1 to 4. , the deterioration rate is small, and this shows that the magnetic recording medium obtained by the present invention has further improved durability and corrosion resistance.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図はこの発明によって得られた磁気テープの部分拡
大断面図である。 1・・・ポリエステルフィルム(基体)、2・・・強磁
性全屈薄膜層、3・・・第1の保護膜層、4・・・第2
の保護膜層、A・・・磁気テープ(磁気記録媒体)第1
FIG. 1 is a partially enlarged sectional view of a magnetic tape obtained by the present invention. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... Polyester film (substrate), 2... Ferromagnetic total refraction thin film layer, 3... First protective film layer, 4... Second
protective film layer, A...magnetic tape (magnetic recording medium) first
figure

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、基体上に金属もしくはそれらの合金からなる強磁性
金属薄膜層を形成し、この強磁性金属薄膜層の表面にチ
タン酸化物からなる第1の保護膜層を設け、さらにこの
上にカーボンもしくは少なくとも炭素原子を含む有機高
分子化合物からなる第2の保護膜層を設けたことを特徴
とする磁気記録媒体 2、チタン酸化物からなる第1の保護膜層上に設けた有
機高分子化合物からなる第2の保護膜層中にさらに水素
原子を含む特許請求の範囲第1項記載の磁気記録媒体 3、チタン酸化物からなる第1の保護膜層上に設けた有
機高分子化合物からなる第2の保護膜層中にさらに水素
原子およびケイ素原子を含む特許請求の範囲第1項記載
の磁気記録媒体 4、チタン酸化物からなる第1の保護膜層上に設けた有
機高分子化合物からなる第2の保護膜層中にさらにフッ
素原子を含む特許請求の範囲第1項記載の磁気記録媒体
[Claims] 1. A ferromagnetic metal thin film layer made of a metal or an alloy thereof is formed on a substrate, and a first protective film layer made of titanium oxide is provided on the surface of this ferromagnetic metal thin film layer, A magnetic recording medium 2 characterized in that a second protective film layer made of carbon or an organic polymer compound containing at least carbon atoms is further provided on the first protective film layer made of titanium oxide. The magnetic recording medium 3 according to claim 1, further comprising a hydrogen atom in the second protective film layer made of an organic polymer compound formed on the organic polymer compound provided on the first protective film layer made of titanium oxide. A magnetic recording medium 4 according to claim 1, wherein the second protective film layer made of a polymer compound further contains hydrogen atoms and silicon atoms, and the magnetic recording medium 4 is provided on the first protective film layer made of titanium oxide. The magnetic recording medium according to claim 1, further comprising a fluorine atom in the second protective film layer made of an organic polymer compound.
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