JPS6088441A - 測定点の信号経過測定方法 - Google Patents
測定点の信号経過測定方法Info
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- JPS6088441A JPS6088441A JP59197733A JP19773384A JPS6088441A JP S6088441 A JPS6088441 A JP S6088441A JP 59197733 A JP59197733 A JP 59197733A JP 19773384 A JP19773384 A JP 19773384A JP S6088441 A JPS6088441 A JP S6088441A
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R31/00—Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
- G01R31/28—Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
- G01R31/302—Contactless testing
- G01R31/305—Contactless testing using electron beams
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、電子ゾンデにより集積回路の内部の低周波の
信号経過を；１１１定するだめの方法に関する。
信号経過を；１１１定するだめの方法に関する。
集積回路の内部の低周波の信号経過の実時間…ＩＩ定は
これまでパルスイトさｉｃでいない電子ゾンデによる実
時間測定法で行なわれた（Ｉ−１，Ｐ、Ｆｅ区ｅ１・ｂ
ａ−ｕｍ他、” Ｂｅｉｔｒ５ｇｅ ｚｕｒ ｅｌｃｋ
ｌｒｏｎｅｎｍｉｋｒｏ −５ｋｏｐｉｓｃｂｅｎ Ｄ
ｉｒｃｋｔａｌ〕ｂｉ Ｉｄｕｎｇ ｖｏｎ ０ｂｃｒ
［ＩＦ −ｃ ｈｅ ｎ″１９７５．第８巻、第４６９
’−４８０頁）。
これまでパルスイトさｉｃでいない電子ゾンデによる実
時間測定法で行なわれた（Ｉ−１，Ｐ、Ｆｅ区ｅ１・ｂ
ａ−ｕｍ他、” Ｂｅｉｔｒ５ｇｅ ｚｕｒ ｅｌｃｋ
ｌｒｏｎｅｎｍｉｋｒｏ −５ｋｏｐｉｓｃｂｅｎ Ｄ
ｉｒｃｋｔａｌ〕ｂｉ Ｉｄｕｎｇ ｖｏｎ ０ｂｃｒ
［ＩＦ −ｃ ｈｅ ｎ″１９７５．第８巻、第４６９
’−４８０頁）。
その際、祷られた測定曲線はオシロスコープに表示され
た。この公知の方法の欠点は、測定個所探索の間の？−
積回路の過度の負荷であり、そり、が試、験すべき回路
の強い充１１ｔに通じ、さらにそれが測定結果の良Ｉす
゛を１Ｄなうことである。
た。この公知の方法の欠点は、測定個所探索の間の？−
積回路の過度の負荷であり、そり、が試、験すべき回路
の強い充１１ｔに通じ、さらにそれが測定結果の良Ｉす
゛を１Ｄなうことである。
本発明が解決しようとする問題点は、冒頭に記載した種
類の方法であって、回路の負荷ができるかぎりわずかに
保たれ得る方法を提供することである。
類の方法であって、回路の負荷ができるかぎりわずかに
保たれ得る方法を提供することである。
と述の問題点は本発明によれば、特許請求の範囲第１項
に記載の方法により達成される。
に記載の方法により達成される。
本発明の実施態様および利点は特許請求の範囲第２項以
下の各項、以下の説明および図面に示されている。
下の各項、以下の説明および図面に示されている。
以下、図面により本発明を一層詳細に説明する。
図面には、本発明による方法を実施するだめの装置の一
列が示されている。
列が示されている。
回路ＰＲの負荷をできるかぎり小さく保つため、測定個
所探索の間および測定の間、パルス化された電子ゾンデ
１） Ｅが用いられる。電子ゾンデＰＥのキーイング周
波数は回路ＰＲの作動周波数と無関係である。電子線測
定装置の信号処理縦続回路にゲート回路１３Ｔ、たとえ
ばボックスカー積分器、を使用する際には電子線パルス
１１ Ｅのノζルス列（二対して大きなパルス・デユー
ティ比が選定され得る。ここでパルス・デユーティ比と
は、周期的に繰返す個々の方形パルスの列の特性用であ
り、周期とパルス継続時間との比で定義されている。
所探索の間および測定の間、パルス化された電子ゾンデ
１） Ｅが用いられる。電子ゾンデＰＥのキーイング周
波数は回路ＰＲの作動周波数と無関係である。電子線測
定装置の信号処理縦続回路にゲート回路１３Ｔ、たとえ
ばボックスカー積分器、を使用する際には電子線パルス
１１ Ｅのノζルス列（二対して大きなパルス・デユー
ティ比が選定され得る。ここでパルス・デユーティ比と
は、周期的に繰返す個々の方形パルスの列の特性用であ
り、周期とパルス継続時間との比で定義されている。
試験対象回路ＰＲの１つの測＞３１点における信号経過
が測定されるとき、特定のパルス・デユーティ比を有す
る一次７１４’ −ｉ’−Ｐ １４が試験対架回路Ｉ＞
、Ｒの測定点に衝突し、そこで低周波信号経過の特定の
位相において二次電子Ｓ Ｅを放出さぜる。低１ｎ波信
号経過に相応する判定点における電位の変化が二次電子
ＳＥのエネルギー分布のシフトを生じさせる。二次電子
ＳＥのこのエイ・ルギー・シフトが＋ｌｌｊ常の仕方で
減速７１ｆｆｉ界スペクトロメータＳＰにより検知され
る。検出器Ｄ′［１に到達する二次電子ＳＥの流れは減
速電界スペクトロメータＳ Ｐの減速電極ＧＲにおける
減速電界の関数である。
が測定されるとき、特定のパルス・デユーティ比を有す
る一次７１４’ −ｉ’−Ｐ １４が試験対架回路Ｉ＞
、Ｒの測定点に衝突し、そこで低周波信号経過の特定の
位相において二次電子Ｓ Ｅを放出さぜる。低１ｎ波信
号経過に相応する判定点における電位の変化が二次電子
ＳＥのエネルギー分布のシフトを生じさせる。二次電子
ＳＥのこのエイ・ルギー・シフトが＋ｌｌｊ常の仕方で
減速７１ｆｆｉ界スペクトロメータＳＰにより検知され
る。検出器Ｄ′［１に到達する二次電子ＳＥの流れは減
速電界スペクトロメータＳ Ｐの減速電極ＧＲにおける
減速電界の関数である。
二次電子ＳＥにより検出器１）Ｔ内；二生ずる測定信号
はゲート回路ＢＩ、たとえばボックスカー積分器の入力
ゲートに到達する。その際にＩ’ｒｉｎｃｅ−Ｌｏｎ
Ａｐｐｌｉｅｄ Ｒｅ５ｅａｒｃｈ社のボックスカー積
分器ＰＡＲモデル１６２が用いられ得る。ボックスカー
積分器は主として積分性ゲート回路たとえばサンプル・
アンド・ホールド回路を有し、ノイズを含んでいる周期
的な信号の測定を、１つの信号経過ヲその特定の位相に
おいて次々と複数回サンプリングしその信号経過の同一
位相に属する相応の測定信号の平均をめることにより行
なう。これにより電子線測定装置の出力信号ＵのＳＮ比
が顕著に改善される。
はゲート回路ＢＩ、たとえばボックスカー積分器の入力
ゲートに到達する。その際にＩ’ｒｉｎｃｅ−Ｌｏｎ
Ａｐｐｌｉｅｄ Ｒｅ５ｅａｒｃｈ社のボックスカー積
分器ＰＡＲモデル１６２が用いられ得る。ボックスカー
積分器は主として積分性ゲート回路たとえばサンプル・
アンド・ホールド回路を有し、ノイズを含んでいる周期
的な信号の測定を、１つの信号経過ヲその特定の位相に
おいて次々と複数回サンプリングしその信号経過の同一
位相に属する相応の測定信号の平均をめることにより行
なう。これにより電子線測定装置の出力信号ＵのＳＮ比
が顕著に改善される。
ゲート回路Ｂ■の出力信号は制御増幅器ＡＭそ増幅され
て、電子線測定装置の出力信号Ｕとなる。
て、電子線測定装置の出力信号Ｕとなる。
検出器１）Ｔ、ゲート回路Ｂ■および制御増幅器ＡＭか
ら成る信号処理縦続回路は、減速電界スペクトロメータ
Ｓ Ｐの減速電極ＧＲにおける電圧を制御する１つの閉
じた制御ループＰＬを形成している。
ら成る信号処理縦続回路は、減速電界スペクトロメータ
Ｓ Ｐの減速電極ＧＲにおける電圧を制御する１つの閉
じた制御ループＰＬを形成している。
このような制御ループＰＬが電子線測定装置においてど
のように機能するかは米国特許ｍ４２２０８５４号オヨ
ヒ第４２７７６７９ 号明ａ’ｉＦニＨ明されている。
のように機能するかは米国特許ｍ４２２０８５４号オヨ
ヒ第４２７７６７９ 号明ａ’ｉＦニＨ明されている。
クロック回路ＣＬは一次゛電子１） Ｅのキーイングの
だめの装置１−３１）を制御１、丑た遅延回路ＤＥを介
してゲート回路ＢＩのトリガ入力端ＴＲをトリガする。
だめの装置１−３１）を制御１、丑た遅延回路ＤＥを介
してゲート回路ＢＩのトリガ入力端ＴＲをトリガする。
遅延［ｒｉ１路ＤＥは、キーイングのだめの装置Ｂ ｌ
）から試験対象回路ＰＲ上の測定点までの一次冨子の走
行時間と試験対象回路Ｐ Ｒ上の測定点から検出器１）
Ｔまでの二次電子の走行時間とを補償してゲート回路Ｂ
Ｉのゲートが二次電子測定信号の到来と同時に開かルる
ようにするために必要である。遅延回路ＤＥは約２００
ｎ ｓの遅延を生じさせなければならない。このよう
な遅延回路を当業者は容易に入手し得る。
）から試験対象回路ＰＲ上の測定点までの一次冨子の走
行時間と試験対象回路Ｐ Ｒ上の測定点から検出器１）
Ｔまでの二次電子の走行時間とを補償してゲート回路Ｂ
Ｉのゲートが二次電子測定信号の到来と同時に開かルる
ようにするために必要である。遅延回路ＤＥは約２００
ｎ ｓの遅延を生じさせなければならない。このよう
な遅延回路を当業者は容易に入手し得る。
ゲート回路Ｂ Ｉを使用する場合、測定信号Ｕの内容は
一次電子パルスＰ Ｅのパルス−デユーティ比に無関係
である。従って、ゲート回路ＢＩを使用する場合、検出
ｉＤＴ内に使用されている光笛子増倍管が飽和範１１ｆ
ｆＪ内に入るおそれなしに一次電子パルスＰＩ号のパル
ス拳デユーティ比を大きく選定することができる。さら
にゲート回路ＢＩは、なかんず（−次電子パルスＰＥの
パルス−デユーティ比が大きいときに測定信号Ｕが漏れ
電流に対して敏感でないようにすることができる。
一次電子パルスＰ Ｅのパルス−デユーティ比に無関係
である。従って、ゲート回路ＢＩを使用する場合、検出
ｉＤＴ内に使用されている光笛子増倍管が飽和範１１ｆ
ｆＪ内に入るおそれなしに一次電子パルスＰＩ号のパル
ス拳デユーティ比を大きく選定することができる。さら
にゲート回路ＢＩは、なかんず（−次電子パルスＰＥの
パルス−デユーティ比が大きいときに測定信号Ｕが漏れ
電流に対して敏感でないようにすることができる。
１つの試験対象回路Ｐ ｉ＜の１つの測定点における低
周波信号経過の実時間測定の際、電子ゾンデＰＥは、回
路の作動周波数と無関係でありクロック回路ＣＬにより
予め定められる周波数でキーイングされる。−次電子パ
ルスＰＥの周波数と同期してゲート回路ＨＩのゲートが
トリガされる。測定すべき低周波信号経過が繰返えされ
ない１つの低ｊ、ｌｄ波イＲ号針過の実時間測定の際に
は、−次電子ゾンデはたとえばＭＨ２範囲内の１つのパ
ルス周波数を存亡、他方低周波信号経過は１００ｋＨｚ
よりも低い１つの周波数を有する。すなわち、−次厄子
パルスＩ） Ｅの周波数は低周波信号経過の周波数より
も少なくとも１けた高い。たとえば低周波信号経過の周
波数が１ｆｌｚでありまた一次電子ゾンデＰＥのパルス
周波数が約１０ ＭＬｌｚであれば、たとえば低周波信
号経過の１周期の間に１０７個の一次電子パルスが次々
と測定点りに衝突する。
周波信号経過の実時間測定の際、電子ゾンデＰＥは、回
路の作動周波数と無関係でありクロック回路ＣＬにより
予め定められる周波数でキーイングされる。−次電子パ
ルスＰＥの周波数と同期してゲート回路ＨＩのゲートが
トリガされる。測定すべき低周波信号経過が繰返えされ
ない１つの低ｊ、ｌｄ波イＲ号針過の実時間測定の際に
は、−次電子ゾンデはたとえばＭＨ２範囲内の１つのパ
ルス周波数を存亡、他方低周波信号経過は１００ｋＨｚ
よりも低い１つの周波数を有する。すなわち、−次厄子
パルスＩ） Ｅの周波数は低周波信号経過の周波数より
も少なくとも１けた高い。たとえば低周波信号経過の周
波数が１ｆｌｚでありまた一次電子ゾンデＰＥのパルス
周波数が約１０ ＭＬｌｚであれば、たとえば低周波信
号経過の１周期の間に１０７個の一次電子パルスが次々
と測定点りに衝突する。
低周波信号経過の周波数と一次電子ゾンデｌ’Ｅのパル
ス周波数とかけた涛いであるので、この低周波信号経過
の実時間ＩＨ１１定の際に低周波信号経過に対する一次
電子パルスＰ Ｅの位相シフトは必要でない。このこと
は、たとえばゲート回路ＢＩとして使用されるボックス
が「８分器がこのような本発明による使用の際にサンプ
ル・アンド・ボールド入力を有する増幅器として作動す
ることを意味する。１つの測定点における１つの信号経
過に対する一次電子パルスの位相シフトはたとえば、米
国特許１４４２２０８５４号明１ＩＪＩＩ書に記載され
ているような公知の技術によるいわゆるサンプリング法
の際にこの測定点における高周波の信号経過の際に行な
われる。
ス周波数とかけた涛いであるので、この低周波信号経過
の実時間ＩＨ１１定の際に低周波信号経過に対する一次
電子パルスＰ Ｅの位相シフトは必要でない。このこと
は、たとえばゲート回路ＢＩとして使用されるボックス
が「８分器がこのような本発明による使用の際にサンプ
ル・アンド・ボールド入力を有する増幅器として作動す
ることを意味する。１つの測定点における１つの信号経
過に対する一次電子パルスの位相シフトはたとえば、米
国特許１４４２２０８５４号明１ＩＪＩＩ書に記載され
ているような公知の技術によるいわゆるサンプリング法
の際にこの測定点における高周波の信号経過の際に行な
われる。
低周波信号経過Ｕは時間ｔの関数として走査電子顕微鏡
のオシログラフに表示される。測定結果の記録はＩＨｚ
よりも高い周波数の際には蓄積形オシロスコープＯ８、
過渡現象レコーダＴＲ−１だは計１［ＰＵにより行なわ
れる。低周波信号経過のｌ Ｉ−Ｉ ｚ以下の周波数の
際には、上記の装置とならんでＸＹレコーダＸＹも使用
することができる。
のオシログラフに表示される。測定結果の記録はＩＨｚ
よりも高い周波数の際には蓄積形オシロスコープＯ８、
過渡現象レコーダＴＲ−１だは計１［ＰＵにより行なわ
れる。低周波信号経過のｌ Ｉ−Ｉ ｚ以下の周波数の
際には、上記の装置とならんでＸＹレコーダＸＹも使用
することができる。
低周波信号経過のロジックアオリシスのためには、ロジ
ックアナライｆＬＡが測定４８号Ｕを直接に受入れ得る
。
ックアナライｆＬＡが測定４８号Ｕを直接に受入れ得る
。
図は本発明による方法を実施するだめの装置の一例の接
続図である。 ＡＭ・・制御増幅器、 Ｂ Ｌ・・・ゲート回路、ＣＬ
・・クロック回路、 ＤＥ・・遅延回路、 Ｉ）Ｔ・・
検出器、 Ｐ Ｌ 制御ループ、 ＬＡ・・ロジックア
ナライザ、 Ｏ８・・蓄積形オシロスコープ、ＰＥ−次
電子パルス（ゾンデ）、 Ｐ Ｒ・・試験対象回路、
Ｐ Ｕ・・計算機、 ＳＥ・・二次電子、ＴＲ・過渡現
象レコーダ、 （Ｊ 測定信号、 Ｘ’Ｙ・・ｘｙレコ
ーダ。
続図である。 ＡＭ・・制御増幅器、 Ｂ Ｌ・・・ゲート回路、ＣＬ
・・クロック回路、 ＤＥ・・遅延回路、 Ｉ）Ｔ・・
検出器、 Ｐ Ｌ 制御ループ、 ＬＡ・・ロジックア
ナライザ、 Ｏ８・・蓄積形オシロスコープ、ＰＥ−次
電子パルス（ゾンデ）、 Ｐ Ｒ・・試験対象回路、
Ｐ Ｕ・・計算機、 ＳＥ・・二次電子、ＴＲ・過渡現
象レコーダ、 （Ｊ 測定信号、 Ｘ’Ｙ・・ｘｙレコ
ーダ。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １）電子ゾンデ（Ｐ Ｅ）により試験対象回路（Ｐ Ｒ
）の測定点における低周波の信号経ｊノを測定するだめ
の方法において、測定個所探索の間、パルス化された電
子ゾンデ（Ｐ、Ｅ）が用いられることを特徴とする測定
点の信号経過測定力法。 ２）測定の間、パルス化されブこ電子ゾンデ（Ｐ Ｅ
）が用いられることを特徴とする特許請求の範囲第１項
記載の方法。 ３）電子ゾンデ（Ｐ Ｅ ）のパルス周波数が試験対象
回路ｉ Ｐ Ｒ）の作動周波数と無関係であることを特
徴とする特許請求の範１７１Ｊ第１項または第２項記載
の方法。 ４）信号処理のだめに、遅延回路ｕ）Ｅ）を介して電子
ゾンデ（Ｐ Ｅ ）と同期し７てトリがさね、るゲート
回路（ＢＩ）が用いられることを特徴とする特許請求の
範囲第１項ないし第３項のいずれかに記載の方法。 ５）測定結果（Ｕ）の記録が蓄積形オンロスコープ（Ｏ
８）により行な））れることを特徴とする特許請求の範
囲第１項ないし第４項のいずれかに記載の方法。 ６）測定結果（Ｕ）の記録が過渡現象レコーダ（ＴＲ）
により行なわれることを特徴とする特許請求の範「１４
第１項ない１７第４項のいずれかに記載の方法。 ７）測定結果ｆＵ）の記録が計算機（ＰＵ）により行な
わね、ることを特徴とする特許請求のｆ１牲四第１項な
いし第４項のいずれかに記載の方法。 ８）測定結果（Ｕ）の記録がロジックアナライザ＋ＬＡ
）により行なわルることを特徴とする特許請求の範囲第
１項ないし第４項のいずれかに記載の方法。 ９）測定結果（Ｕ）の記録カＸＹｖコー３’（ＸＹ）に
より行なわれることを特徴とする特許請求の範囲第１項
ないし第４項のいずれかに記１１１シの方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE3334494.9 | 1983-09-23 | ||
| DE19833334494 DE3334494A1 (de) | 1983-09-23 | 1983-09-23 | Verfahren zum messen niederfrequenter signalverlaeufe innerhalb integrierter schaltungen mit der elektronensonde |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6088441A true JPS6088441A (ja) | 1985-05-18 |
Family
ID=6209897
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59197733A Pending JPS6088441A (ja) | 1983-09-23 | 1984-09-20 | 測定点の信号経過測定方法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4634972A (ja) |
| EP (1) | EP0136591B1 (ja) |
| JP (1) | JPS6088441A (ja) |
| AT (1) | ATE32790T1 (ja) |
| DE (2) | DE3334494A1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2022064798A1 (ja) * | 2020-09-23 | 2022-03-31 | 浜松ホトニクス株式会社 | 検査装置 |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4721910A (en) * | 1986-09-12 | 1988-01-26 | American Telephone And Telegraph Company, At&T Bell Laboratories | High speed circuit measurements using photoemission sampling |
| US4843330A (en) * | 1986-10-30 | 1989-06-27 | International Business Machines Corporation | Electron beam contactless testing system with grid bias switching |
| JPH065691B2 (ja) * | 1987-09-26 | 1994-01-19 | 株式会社東芝 | 半導体素子の試験方法および試験装置 |
| DE3829770A1 (de) * | 1988-09-01 | 1990-04-19 | Brust Hans Detlef | Verfahren und anordnung zur asynchronen messung von signalverlaeufen |
| DE19742055C2 (de) * | 1997-09-24 | 2000-02-24 | Ita Ingb Testaufgaben Gmbh | Vorrichtung zum Testen von Schaltungsplatinen |
| DE19758348A1 (de) * | 1997-12-22 | 1999-06-24 | Inst Halbleiterphysik Gmbh | Verfahren zur Aufnahme von Tiefenprofilen zum Nachweis von Verunreinigungen in Halbleitern |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2813947C2 (de) * | 1978-03-31 | 1986-09-04 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Verfahren zur berührungslosen Messung des Potentialverlaufs in einem elektronischen Bauelement und Anordnung zur Durchführung des Verfahrens |
| DE2903077C2 (de) * | 1979-01-26 | 1986-07-17 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Verfahren zur berührungslosen Potentialmessung an einem elektronischen Bauelement und Anordnung zur Durchführung des Verfahrens |
| DE3110138A1 (de) * | 1981-03-16 | 1982-09-23 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Verfahren zur darstellung logischer zustandsaenderungen mehrerer benachbarter schaltungsknoten in integrierten schaltungen in einem logikbild mittels einer gepulsten elektronensonde |
| DE3138992A1 (de) * | 1981-09-30 | 1983-04-14 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Abtastverfahren zur schnellen potentialbestimmung inder elektronenstrahl-messtechnik |
-
1983
- 1983-09-23 DE DE19833334494 patent/DE3334494A1/de not_active Withdrawn
-
1984
- 1984-07-20 US US06/633,009 patent/US4634972A/en not_active Expired - Fee Related
- 1984-09-06 DE DE8484110628T patent/DE3469600D1/de not_active Expired
- 1984-09-06 EP EP84110628A patent/EP0136591B1/de not_active Expired
- 1984-09-06 AT AT84110628T patent/ATE32790T1/de not_active IP Right Cessation
- 1984-09-20 JP JP59197733A patent/JPS6088441A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2022064798A1 (ja) * | 2020-09-23 | 2022-03-31 | 浜松ホトニクス株式会社 | 検査装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE3469600D1 (en) | 1988-04-07 |
| EP0136591A1 (de) | 1985-04-10 |
| DE3334494A1 (de) | 1985-04-11 |
| ATE32790T1 (de) | 1988-03-15 |
| EP0136591B1 (de) | 1988-03-02 |
| US4634972A (en) | 1987-01-06 |
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