JPS6082459U - マグネトロンスパツタリング装置のタ−ゲツト - Google Patents
マグネトロンスパツタリング装置のタ−ゲツトInfo
- Publication number
- JPS6082459U JPS6082459U JP17548783U JP17548783U JPS6082459U JP S6082459 U JPS6082459 U JP S6082459U JP 17548783 U JP17548783 U JP 17548783U JP 17548783 U JP17548783 U JP 17548783U JP S6082459 U JPS6082459 U JP S6082459U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- target
- permanent magnet
- annular
- target plate
- center
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
第1図Aはマグネトロンスパッタリング装置の代表的な
構成図、第1図Bはそのターゲット部分の従来の構造側
断面図、第1図Cは第1図Bのターゲットの消耗状況図
、第2図は本考案によるターゲット部に関するもので、
Aはターゲット部の平面図、Bはターゲットの消耗状況
図、Cはターゲット部のA−A断面構造側図、Dは磁石
部の構成側平面図である。 1・・・真空容器、2・・・排気系、3・・・ガス導入
系、4・・・ターゲット、4a、4b・・・汐−ゲット
の表面と背面、4c・・・ターゲットの消耗部分、5・
・・基板ホルダ、6・・・電源、7・・・基板(ウェハ
)、8・・・ターゲット、8a、8b・・・ターゲット
の表面と背面、8c、8c’・・・ターゲットの最大消
耗部分、8d・・・ターゲット表面の中心部、9・・・
環状永久磁石部、10・・・磁石保持板、11・・・回
転軸、11c・・・磁石部9の中心点、9a・・・磁石
部の周辺、9c。 9d・・・磁石、lla・・・11の回転中心、llb
・・・11cの回転軌跡、41・・・絶縁板、42,4
2a、42b、42c・・・磁石、44−・・磁力線、
45・・・磁石ケース、L・・・磁石部9の偏心距離。
構成図、第1図Bはそのターゲット部分の従来の構造側
断面図、第1図Cは第1図Bのターゲットの消耗状況図
、第2図は本考案によるターゲット部に関するもので、
Aはターゲット部の平面図、Bはターゲットの消耗状況
図、Cはターゲット部のA−A断面構造側図、Dは磁石
部の構成側平面図である。 1・・・真空容器、2・・・排気系、3・・・ガス導入
系、4・・・ターゲット、4a、4b・・・汐−ゲット
の表面と背面、4c・・・ターゲットの消耗部分、5・
・・基板ホルダ、6・・・電源、7・・・基板(ウェハ
)、8・・・ターゲット、8a、8b・・・ターゲット
の表面と背面、8c、8c’・・・ターゲットの最大消
耗部分、8d・・・ターゲット表面の中心部、9・・・
環状永久磁石部、10・・・磁石保持板、11・・・回
転軸、11c・・・磁石部9の中心点、9a・・・磁石
部の周辺、9c。 9d・・・磁石、lla・・・11の回転中心、llb
・・・11cの回転軌跡、41・・・絶縁板、42,4
2a、42b、42c・・・磁石、44−・・磁力線、
45・・・磁石ケース、L・・・磁石部9の偏心距離。
Claims (1)
- 減圧ガス雰囲気中で電界と磁界が直交する領域にプラズ
マ放電させるスパッタリング装置のターゲットとして、
ターゲツト材の平板ターゲットと、該ターゲツト板の背
面に近接してその中心点が上記ターゲツト板の中心と一
定距離したけ偏心して配設された外周と内周とが反極性
となるように相接する小永久磁石片の極性を合わせて環
状楕円形状または円環状に配設した合成環状(リング状
)永久磁石部と、上記ターゲツト板の中心とその中心点
が偏心せる上記環状永久磁石部を、該ターゲツト板の中
心に合せた回転軸によりターゲツト板の背面を一定速度
にて回転させる永久磁石部回転機構とを具備したことを
特徴とするマグネトロンスパッタリング装置のターゲッ
ト。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17548783U JPS6082459U (ja) | 1983-11-15 | 1983-11-15 | マグネトロンスパツタリング装置のタ−ゲツト |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17548783U JPS6082459U (ja) | 1983-11-15 | 1983-11-15 | マグネトロンスパツタリング装置のタ−ゲツト |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6082459U true JPS6082459U (ja) | 1985-06-07 |
Family
ID=30381786
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP17548783U Pending JPS6082459U (ja) | 1983-11-15 | 1983-11-15 | マグネトロンスパツタリング装置のタ−ゲツト |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6082459U (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0688220A (ja) * | 1992-08-18 | 1994-03-29 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 粒度が大きい金属膜及びその被着方法 |
-
1983
- 1983-11-15 JP JP17548783U patent/JPS6082459U/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0688220A (ja) * | 1992-08-18 | 1994-03-29 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 粒度が大きい金属膜及びその被着方法 |
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