JPS6079789A - Semiconductor laser-array device - Google Patents

Semiconductor laser-array device

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JPS6079789A
JPS6079789A JP18731583A JP18731583A JPS6079789A JP S6079789 A JPS6079789 A JP S6079789A JP 18731583 A JP18731583 A JP 18731583A JP 18731583 A JP18731583 A JP 18731583A JP S6079789 A JPS6079789 A JP S6079789A
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JP
Japan
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semiconductor laser
array
mount
laser array
semiconductor
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JP18731583A
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Japanese (ja)
Inventor
Yuichi Odagiri
小田切 雄一
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NEC Corp
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NEC Corp
Nippon Electric Co Ltd
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S5/00Semiconductor lasers
    • H01S5/40Arrangement of two or more semiconductor lasers, not provided for in groups H01S5/02 - H01S5/30
    • H01S5/4025Array arrangements, e.g. constituted by discrete laser diodes or laser bar

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Semiconductor Lasers (AREA)

Abstract

PURPOSE:To connect each element in a semiconductor laser-array electrically and severally, and to improve heat dissipating characteristics by fast sticking and fixing the upper section of the semiconductor laser-array by a mount formed from a material, which has high thermal conductivity and insulating properties. CONSTITUTION:A semiconductor laser-array 10 is constituted by four semiconductor lasers 11, and first electrodes 50 in the vicinity of active layers 12 are etched and grooves 13 reaching up to the depth of the active layers 12 are formed in the direction parallel with resonator axes 51 in the semiconductor lasers 11 so that each laser has electrical insulating properties. The second electrode 52 sides far from the active layers 12 are fusion-bonded on a heat sink 14 in the semiconductor laser-array 10. A mount 15 consisting of a high-resistance silicon wafer having high insulating properties is fitted on the semiconductor laser-array 11.

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は半導体レーザ・アレイの各素子が独立に動作
する半導体レーザ・プレイ装置に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a semiconductor laser play device in which each element of a semiconductor laser array operates independently.

近年、半導体レーザを光源とし、光ファイバを伝送線路
とする光通信方式は、長距離大容量伝送の可能な方式と
して従来の通信方式よシ優れたものとなる可能があシ、
加入者系伝送をはじめ海底中継伝送Kまでその実用化が
進められている。また、情報処理や交換等能の分野にお
いても、電磁誘導雑音や相互誘導雑音を小さくする必要
から光波術の適用が検討されている。例えば、情報処理
の分野ではオフィス・オートメーシ言ン機器等の普及に
伴って分散設置された各種、多数の機器間結んでデータ
伝送を行なう場合、多数個の光ファイバを並列にならべ
る方式が考えられる。このよな光通信方式を、経済的で
信頼性の高いシステムにするためには、高密度に発光素
子や受光素子を多数個平面的に配列してこれらを光ファ
イバに接続することが必要である。
In recent years, optical communication systems that use semiconductor lasers as light sources and optical fibers as transmission lines have the potential to become superior to conventional communication systems as capable of long-distance, large-capacity transmission.
Its practical application is progressing from subscriber transmission to submarine relay transmission. Furthermore, in the fields of information processing and exchange, the application of light wave technology is being considered due to the need to reduce electromagnetic induction noise and mutual induction noise. For example, in the field of information processing, with the spread of office automation equipment, etc., when data transmission is to be performed between various and numerous devices installed in a distributed manner, a method of arranging many optical fibers in parallel has been considered. . In order to make this type of optical communication system economical and highly reliable, it is necessary to arrange a large number of light-emitting elements and light-receiving elements in a plane with high density and connect them to optical fibers. be.

このうち特性的忙均質性の要求される発光素子、例えば
半導体レーザ、の高密度化に関しては、山腰氏等による
昭和58年度電子通信学会総合全国大会講演論文集分冊
4、第949番、35頁に記載されたA I Qa A
 s/Ga A 8多重量子井戸構造のレーザ・プレイ
がある。このレーザ・アレイでは各素子が単独で動作で
きるように活性層に相当する多量子井戸層にまで達する
溝で電気的に分離されている。
Among these, regarding the densification of light-emitting elements that require characteristic homogeneity, such as semiconductor lasers, Mr. Yamakoshi et al., Proceedings of the 1985 IEICE General Conference National Conference, Vol. 4, No. 949, p. 35 A I Qa A described in
There is a laser play with s/Ga A 8 multiple quantum well structure. In this laser array, each element is electrically isolated by a groove that reaches down to the multi-quantum well layer corresponding to the active layer so that each element can operate independently.

従来、半導体レーザを電気、的に接続する方法は、通常
外径30μm程度のアルミ線や金線を用いた超音波ボン
ディングや熱圧着が利用されている。
Conventionally, as a method for electrically connecting semiconductor lasers, ultrasonic bonding or thermocompression bonding using aluminum wire or gold wire with an outer diameter of about 30 μm has been used.

しかしながら、レーザ・アレイの出射端面の両側にアレ
イ状に並んだ光ファイバを配置して、一方の光ファイバ
から光信号を注入し、他方の光ファイバへ信号処理され
た光信号を伝送する場合には、超音波ボンディング等に
よυアルミ線や金線で半導体レーザとマウント間を接続
することが空間的に難しくなるという欠点があった。こ
の超音波ボンディング等によるレーザ・アレイの電気的
接続はせいぜい2個程歴が限界と思われる。また、レー
ザ・アレイを同時に動作させる場合でも、発熱が大きな
問題となる。特にP−8ide−up (ピー・サイド
・アップ;活性層側をヒートシンクから離して半導体レ
ーザの融着固定する方法)では熱抵抗が大幅に増加する
ため、各素子の発振閾値が低い場合でも、全体での消費
電力が大きくなる理由からCW動作が困難になるという
欠点があった。
However, when optical fibers are arranged in an array on both sides of the output end face of a laser array, an optical signal is injected from one optical fiber, and the processed optical signal is transmitted to the other optical fiber. had the disadvantage that it became spatially difficult to connect the semiconductor laser and the mount using υ aluminum wire or gold wire using ultrasonic bonding or the like. It seems that the electrical connection of the laser array by ultrasonic bonding or the like is limited to at most two connections. Furthermore, even when laser arrays are operated simultaneously, heat generation becomes a major problem. In particular, in P-8ide-up (a method in which the semiconductor laser is fused and fixed with the active layer side separated from the heat sink), the thermal resistance increases significantly, so even if the oscillation threshold of each element is low, There is a drawback that CW operation becomes difficult because the overall power consumption becomes large.

この発明の目的は、このような欠点を除去し、半導体レ
ーザ・アレイの各素子を個別に電気的接続で<、シかも
放熱特性を改善してP−8ide−TJpでもCW動作
できるような半導体レーザ・アレイ装置を提供すること
にある。
The object of the present invention is to eliminate such drawbacks, to improve heat dissipation characteristics by electrically connecting each element of a semiconductor laser array individually, and to provide a semiconductor that can perform CW operation even in P-8ide-TJp. An object of the present invention is to provide a laser array device.

本発明の構成は、ヒートシンク上に融着固定され電気的
に分離された複数の半導体レーザかうなる半導体レーザ
・アレイ装置において、前記半導体レーザ・アレイの各
素子の電極が接縁される専用の電流線路を有し熱伝導性
が高くかつ絶縁性のある材料によシ形成されたマウント
によって、半導体レーザ・アレイの上部が密着固定され
ていることを特徴とする。
The configuration of the present invention is such that in a semiconductor laser array device comprising a plurality of semiconductor lasers fused and fixed on a heat sink and electrically isolated, a dedicated current is applied to connect the electrodes of each element of the semiconductor laser array. The semiconductor laser array is characterized in that the upper part of the semiconductor laser array is closely fixed by a mount formed of a material having high thermal conductivity and insulating properties and having a line.

この発明においては、熱伝導性が高くしかも絶縁性の高
い材料からなるマウントにより、ヒートシンク上の半導
体レーザ・アレイを上から覆った構成となっておシ、半
導体レーザ・アレイは活性層にまで達する溝によって各
素子間の電気的絶縁をとっている。この半導体レーザ・
アレイを各素子毎に動作させるだめに、マウント上には
パターン化した電流線路が設けられておシ、この半導体
レーザ・アレイをこのマウントをヒートシンクとでサン
ドイッチ状に押さえつければ、パターン化した電流線w
jをとおして各素子に所望の電流を注入することが可能
である。また、熱伝導性のよいマウントで押えられてい
るので、放熱面積が拡くなり放熱特性が改善される。
In this invention, the semiconductor laser array on the heat sink is covered from above by a mount made of a material with high thermal conductivity and high insulation properties, and the semiconductor laser array reaches all the way to the active layer. The grooves provide electrical insulation between each element. This semiconductor laser
In order to operate the array for each element, a patterned current line is provided on the mount.If this semiconductor laser array is sandwiched between the mount and a heat sink, the patterned current line is provided on the mount. line w
It is possible to inject the desired current into each element through j. Furthermore, since it is held down by a mount with good thermal conductivity, the heat dissipation area is expanded and the heat dissipation characteristics are improved.

次に図面を用いてこの発明の詳細な説明する。Next, the present invention will be explained in detail using the drawings.

第1図は本発明の@1の実施例の平面図、第2図は第1
の正面図、幀3図は!!41図に用いるマウントの斜視
図である。この実施例の半導体レーザ・アレイ10は、
4個の半導体レーザ11から構成され、活性層12に近
い第1の電極50側をエツチングして各レーザが電気的
に絶縁性を有するように、活性層12の深さKまで達す
るような溝13が多生導体レーザ11の共Wx 螺軸5
1に平行な方向に形蜘されている。この半導体レーザ・
アレイ10は、活性層12から遠い哨2の電極52側が
ヒートシンク14上に融着されている。
FIG. 1 is a plan view of the embodiment @1 of the present invention, and FIG.
The front view and 3rd floor view are! ! FIG. 42 is a perspective view of the mount used in FIG. 41; The semiconductor laser array 10 of this example is:
Consisting of four semiconductor lasers 11, the first electrode 50 side near the active layer 12 is etched to form a groove that reaches the depth K of the active layer 12 so that each laser has electrical insulation properties. 13 is the common Wx screw shaft 5 of the multi-conductor laser 11
It is shaped in a direction parallel to 1. This semiconductor laser
In the array 10, the side of the electrode 52 of the sentry 2 that is far from the active layer 12 is fused onto the heat sink 14.

この半導体レーザ・アレイ11上に設けられたマウント
15は、絶縁性の高い高抵抗シリコンウェハを使用して
いる。このシリコンウメハは他の絶縁材料に比べると比
較的熱伝導率が高(InP(インジウム・リン)やGa
As (ガリウム・ヒ素)に比べると谷々18倍、22
倍と高い。そのためマウント15が半導体レーザ・アレ
イ10の第1の゛成極50に密着固定されていれば、P
−3ide upの構造であっても放熱特性が悪くなる
ことはない。
The mount 15 provided on this semiconductor laser array 11 uses a highly insulating, high-resistance silicon wafer. This silicon material has a relatively high thermal conductivity compared to other insulating materials (InP (indium phosphide) and Ga
Compared to As (gallium arsenide), it is 18 times higher and 22
twice as high. Therefore, if the mount 15 is closely fixed to the first polarization 50 of the semiconductor laser array 10, P
Even with the -3ide up structure, the heat dissipation characteristics will not deteriorate.

第1の電極50と対向するマウント15の面上にに接触
する面積が大きくなるように1ウント15には凹部17
と凸部18とが形成され、凸部18は個々の半導体レー
ザ11の第1の電極50と接触17の放熱を良くし電気
的接続をもつためのもであシ、凹部7は、電流線路16
を平面上に配列させるためのものである。
A recess 17 is formed in the mount 15 so as to increase the contact area on the surface of the mount 15 facing the first electrode 50.
and a convex portion 18 are formed, the convex portion 18 is for improving heat dissipation and electrical connection between the first electrode 50 of each semiconductor laser 11 and the contact 17, and the concave portion 7 is for a current line. 16
This is for arranging them on a plane.

この凹凸部は、本実施例では(001)面のシリコンウ
ェハを化学エツチングで形成させ、この凹凸部の段差は
15μm程度とした。次に凹凸部の形成された面に1ク
ロム・金を順次蒸着させる。
In this embodiment, the uneven portion was formed by chemically etching a silicon wafer with a (001) plane, and the height difference of the uneven portion was about 15 μm. Next, 1 chromium and gold are sequentially deposited on the surface where the uneven portions are formed.

クロムは絶縁体であるシリコンと金との密着を良くする
ためのものである。次いで、全面にフォト%Aイック技
術によって、FJjr望する長さの電流線路16と凸部
18とが電気的に接、読されるように、不要なりロム・
金を除去しでしまえばよい。
Chromium is used to improve the adhesion between silicon, which is an insulator, and gold. Next, by using photonic technology on the entire surface, unnecessary ROMs are installed so that the current line 16 of the desired length and the convex portion 18 can be electrically connected and read.
All you have to do is remove the gold.

儒3図斜線部)。Confucian diagram 3 (shaded area).

さらに、第2図に示すように、マウント15が半導体レ
ーザ・アレイ10にしつかシ固定されるように、マウン
ト15の両端にはバツクージ19に固定された支持台2
0で保持されている。電気的にはマウント15の電流線
路1Gと支持台20の金属蒸着部21とが半田等によっ
て固定されて等電位となっている。したがって、支持台
20の金属蒸着部2】を通じてドライブ電気回路と接続
すればよいので、4(β1の半導体レーザ11は個別に
動作することができる。
Further, as shown in FIG. 2, support stands 2 fixed to the bag cage 19 are provided at both ends of the mount 15 so that the mount 15 is fixed only to the semiconductor laser array 10.
It is held at 0. Electrically, the current line 1G of the mount 15 and the metal vapor deposited portion 21 of the support base 20 are fixed with solder or the like and have an equal potential. Therefore, the semiconductor lasers 11 of 4 (β1) can be operated individually because they can be connected to the drive electric circuit through the metal vapor deposited portion 2 of the support base 20.

この実施例において、個々の半導体レーザ11のCW動
作での発振−7値は室温で39mAであシ、また同時に
動作させる場合でも半導体レーザ・アレイ10がヒート
シンク14とマウント15によってサンドイッチ状には
さ咬っているので、P−8ide upで固定している
にもかかわらす岡々の半導体レーザ11の発振間値は室
温で35 m Aと小さく抑えることができた。
In this embodiment, the oscillation -7 value of each semiconductor laser 11 in CW operation is 39 mA at room temperature, and even when operated simultaneously, the semiconductor laser array 10 is sandwiched between the heat sink 14 and the mount 15. Because of this, the inter-oscillation value of Okaka's semiconductor laser 11 could be kept as small as 35 mA at room temperature even though it was fixed with P-8ide up.

第4図は本発明の第2の実施例の斜視図をである。この
実施例は、半導体レーザ・アレイ10が接触するマウン
ト15に凹凸部を設ける代りに、電流線路16をtル1
の電極50が接触する側とは反対側のマーラント15表
面にフォトリング2フイツク技術で直線状に形成したも
のである。この半導体レーザ11と電気的に接続するに
は、マウント15上に設けた多数個の空洞部30に半田
やIn等の金属31を埋め込めばよい。このマウ7 ト
15の空洞部30は、化学エツチングでもあるいは機械
加工でも形成できるが、この実施例は後者の方法を利用
して、+!1440μmの電流線路上に20Ii1n外
径の空洞部30を製作した。
FIG. 4 is a perspective view of a second embodiment of the invention. In this embodiment, instead of providing an uneven portion on the mount 15 with which the semiconductor laser array 10 comes into contact, the current line 16 is
The photo ring is formed in a straight line on the surface of the marlant 15 on the opposite side to the side with which the electrode 50 contacts, using the photo ring two-flick technique. In order to electrically connect to the semiconductor laser 11, a large number of cavities 30 provided on the mount 15 may be filled with solder or a metal 31 such as In. The cavity 30 of the mount 15 can be formed by chemical etching or mechanical processing, and in this embodiment, the latter method is used. A cavity 30 with an outer diameter of 20Ii1n was fabricated on a current line of 1440 μm.

また、マウント15と支持台20との接続は便宜上接着
剤を使用したが、特に限定されるものではない。まプζ
、電流線1!S16と支持台20上の金属蒸着部21と
の接続は半田32を用いて固定したが、これも限定され
るものではない。との実施例においは、マウント15と
半導体レーザ・アレイ10とが密着固定されているため
、放熱特性もよく、者温でこの半導体レーデの発振閾値
はCW動作で35mAを低く抑えることができだ。
Further, although adhesive is used for convenience in connecting the mount 15 and the support base 20, the connection is not particularly limited. map ζ
, Current line 1! Although the connection between S16 and the metal vapor deposited portion 21 on the support stand 20 was fixed using solder 32, this is not limited thereto either. In this embodiment, since the mount 15 and the semiconductor laser array 10 are closely fixed, the heat dissipation characteristics are good, and the oscillation threshold of this semiconductor laser at room temperature can be kept to a low 35 mA in CW operation. .

なお、これらの実施例において、マウント15として高
抵抗シリコンウェハを用いたが、Be0(酸化ベリリウ
ム)や5iC(炭化ケイ素)セラミック等の熱伝畔率の
高い絶縁材料を用いてもよい。
In these embodiments, a high-resistance silicon wafer is used as the mount 15, but an insulating material with high thermal conductivity such as Be0 (beryllium oxide) or 5iC (silicon carbide) ceramic may also be used.

また半導体レーザ・アレイ10として4個の半導体レー
ザ11の組合せとしたが、この構成によれば、10個以
上の半導体レーザ11のアレイの場合にも十分対処す′
ることかできる。
Furthermore, although the semiconductor laser array 10 is a combination of four semiconductor lasers 11, this configuration can also adequately cope with the case of an array of ten or more semiconductor lasers 11.
I can do that.

また、以−ヒの実施例で線素子間を電気的に分離する方
法として溝を用いて実現したが、例えばプロトン照射に
より2子間を分離させてもよく特に限定されない。また
、電流線路16の蒸着金属としてクロム・金を便宜上使
用したが、密着強度の優れたチタン・白金・金の組合せ
でもよい。さらに、電流線路16と第1の電極50の電
気的接続をさらによくするために、第1の実施例の場合
には凸部18に金と反応上やすい金属、例えば8n(ス
ズ)、In(インジウム)等を部分蒸着して両者を融着
固定をさせてもよい。なお、第2の実施例においては、
例えばInを空洞部30の一つに挿入して加温すること
によプて半導体レーザ・アレイ10とマウント15を融
着固定させてもよい。また、第2の実施例ではマウント
15と支持台20を接着材で固定させたが、マウント1
5の裏側に金属をつけて支持台20との融着によシ放熱
特性をさらに良くしてもよい。
In addition, in the following embodiments, grooves are used to electrically isolate the line elements, but the method is not particularly limited, and two elements may be separated by, for example, proton irradiation. Further, although chromium and gold are used as the vapor-deposited metals for the current line 16 for convenience, a combination of titanium, platinum, and gold, which has excellent adhesion strength, may be used. Furthermore, in order to further improve the electrical connection between the current line 16 and the first electrode 50, in the case of the first embodiment, the convex portion 18 is made of a metal that easily reacts with gold, such as 8n (tin), In( The two may be fused and fixed by partial vapor deposition of indium (indium) or the like. Note that in the second embodiment,
For example, the semiconductor laser array 10 and the mount 15 may be fused and fixed by inserting In into one of the cavities 30 and heating it. Further, in the second embodiment, the mount 15 and the support base 20 are fixed with adhesive, but the mount 1
The heat dissipation characteristics may be further improved by attaching metal to the back side of the support base 20 and fusing it with the support base 20.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明の第1の実施例の平面図、第2図は第1
図の正面図、第3図は第1図に用いるマウントの斜視図
、第4図は本発明の第2の実施例の斜視図である。図に
おいて、 10・・・・・・半導体レーザ・アレイ、11・・・・
・・半導体レーザ、12・・・・・・活性層、13・・
・・・・溝、14・・・・・・ヒートシンク、15・・
・・・・マウント、16・旧・・電流線路、17・・・
・・・凹部、18・・・・・・凸部、19・・・用パッ
ケージ、20・・山・支持台、21・・・・・・金属蒸
着部、30・・・・・・空洞部、31・・・・・・金属
、32・・曲半田、50・・・・・・第1の電極、51
・・・・・・共振器軸、52・・・・・・第2の電極、
である。
FIG. 1 is a plan view of the first embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a plan view of the first embodiment of the present invention.
3 is a front view of the figure, FIG. 3 is a perspective view of the mount used in FIG. 1, and FIG. 4 is a perspective view of a second embodiment of the present invention. In the figure, 10... semiconductor laser array, 11...
... Semiconductor laser, 12... Active layer, 13...
...Groove, 14...Heat sink, 15...
...Mount, 16.Old...Current line, 17...
...Concave part, 18...Convex part, 19...Package for, 20...Mountain/support stand, 21...Metal deposition part, 30...Cavity part , 31...Metal, 32...Curved solder, 50...First electrode, 51
...Resonator axis, 52 ... Second electrode,
It is.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] ヒートシンク上に融着固定され電気的に分離された複数
の半導体レーザ素子からなる半導体レーザ・プレイ装置
において、前記半導体レーザ・アレイの各レーザ素子の
電極が接続される専用の電流線路をそれぞれ有し熱伝導
性が高くかつ絶縁性のある材料から形成されたマウント
によつて、前記半導体レーザ・アレイの上部が密着固定
されていると七を特徴とする半導体レーザ・アレイ装置
A semiconductor laser play device comprising a plurality of semiconductor laser elements fused and fixed on a heat sink and electrically isolated, each having a dedicated current line to which an electrode of each laser element of the semiconductor laser array is connected. 7. A semiconductor laser array device according to claim 7, wherein an upper portion of the semiconductor laser array is tightly fixed by a mount made of a material having high thermal conductivity and insulating properties.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01192185A (en) * 1988-01-28 1989-08-02 Fujitsu Ltd Wiring structure of integrated bistable semiconductor laser
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