JPH01192185A - Wiring structure of integrated bistable semiconductor laser - Google Patents
Wiring structure of integrated bistable semiconductor laserInfo
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 44
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 14
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 abstract description 19
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000006870 function Effects 0.000 description 2
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 2
- 229910001020 Au alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 240000007594 Oryza sativa Species 0.000 description 1
- 235000007164 Oryza sativa Nutrition 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000003353 gold alloy Substances 0.000 description 1
- 230000010365 information processing Effects 0.000 description 1
- 230000006386 memory function Effects 0.000 description 1
- 238000005457 optimization Methods 0.000 description 1
- 235000009566 rice Nutrition 0.000 description 1
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
集積化双安定半導体レーザの配線構造に関し、個々の双
安定半導体レーザ閤のりOストークの低減及び装置の小
型化を目的とし、
複数の双安定半導体レーザを、その電極が同一面上に位
置するように一体化し、上記電極に対応した位置に配1
111!極を有する基板を、上記双安歪半導体レーザに
対向させ、上記電極と上記配線電極とを、フリップチッ
プボンディングにより電気的及び機械的に接続して構成
する。[Detailed Description of the Invention] Regarding the wiring structure of an integrated bistable semiconductor laser, for the purpose of reducing the O-stalk of each bistable semiconductor laser and downsizing the device, a plurality of bistable semiconductor lasers are interconnected with their electrodes. They are integrated so that they are located on the same plane, and placed at positions corresponding to the above electrodes.
111! A substrate having a pole is opposed to the bi-bun strained semiconductor laser, and the electrode and the wiring electrode are electrically and mechanically connected by flip-chip bonding.
産業上の利用分野。Industrial applications.
本発明は集積化双安定半導体レーザの配線構造に関する
。The present invention relates to a wiring structure for an integrated bistable semiconductor laser.
近年、通信、情報処理等の分野においては、処理速度の
高速化等の要請から、光信号を電気信号に変換すること
なく直接処理するようにした光交換方式、光信号処理方
式の研究が活発化している。In recent years, in fields such as communications and information processing, research has been active in optical switching systems and optical signal processing systems that directly process optical signals without converting them into electrical signals due to demands for faster processing speeds. It has become
これらの方式を実現するために必要なデバイスの1つに
光信号を記憶するための光メモリがある。One of the devices required to implement these methods is an optical memory for storing optical signals.
双安定半導体レーザは光メモリとして使用することので
きる光デバイスであり、その実用化に向けて配線構造の
最適化が模索されているものである。A bistable semiconductor laser is an optical device that can be used as an optical memory, and optimization of the wiring structure is being sought for its practical use.
m迷10え薫
第5図は従来の双安定半導体レーザの説明図で′
ある。この双安定半導体レーザ41は、活性層4’丁
、2の長手方向に分割された電極43.44を有してお
り、これらの背面側には共通の接地電極45を有してい
る。分割された電極43.44へ供給する電流値を制御
することによって、電気信号又は光信号についての双安
定性が生じるものである。Figure 5 is an explanatory diagram of a conventional bistable semiconductor laser.
be. This bistable semiconductor laser 41 has an active layer 4'
, 2 longitudinally divided electrodes 43, 44, and a common ground electrode 45 is provided on the back side thereof. By controlling the current value supplied to the divided electrodes 43, 44, bistability of the electrical or optical signal is created.
第6図は、上記双安定半導体レーザにおいて、出力光強
度P と、電極43に流入する電流UT
11が適当値で一定のときの電極44に流入する電流値
I 又は1.12が適当値で一定のときの入力光強度P
INとの関係を示すグラフである。FIG. 6 shows that in the above-mentioned bistable semiconductor laser, the output light intensity P and the current value I flowing into the electrode 44 when the current UT 11 flowing into the electrode 43 are constant at appropriate values, or 1.12, are appropriate values. Input light intensity P when constant
It is a graph showing the relationship with IN.
このように、■ 又はPINの適当範囲での増加又は減
少に伴って出力光強度P。、1の変化にヒステリシスが
生じるから、入力電気信号又は入力光信号についてこれ
を記憶することができるものである。In this way, (i) the output light intensity P increases or decreases as PIN increases or decreases within an appropriate range; Since hysteresis occurs in changes of , 1, this can be stored for the input electrical signal or input optical signal.
第5図に示される双安定半導体レーザの入力光信号につ
いてのメモリ機能の用途は、例えば時分割光交換システ
ムにおいて見出される。すなわち、IXN光スイッチと
NXI光スイッチとの間にN個の上記半導体レーザを並
列に配置し、これらをシーケンシャルに制御することに
よって、時分割多重されたいずれかのチャネルの信号を
別のチャネルへ時間軸上で移動することができ、光交換
機能が達成されるものである。このような用途において
は、複数の双安定半導体レーザを並列に配置する必要上
、例えば第、7図に示すように、各半導体レーザ41(
図では3個)をこれらの活性層が平行となるように一体
化して構成することが提案され得る。Applications of the memory function for the input optical signal of the bistable semiconductor laser shown in FIG. 5 can be found, for example, in time-division optical switching systems. That is, by placing N semiconductor lasers in parallel between the IXN optical switch and the NXI optical switch and controlling them sequentially, the time-division multiplexed signal of one channel can be transferred to another channel. It can move on the time axis and achieves a light exchange function. In such applications, it is necessary to arrange a plurality of bistable semiconductor lasers in parallel, so for example, as shown in FIG. 7, each semiconductor laser 41 (
It may be proposed to integrate two active layers (three in the figure) so that these active layers are parallel to each other.
発明が解決しようとする課題
しかしながら、第7図に示される一体化構造において通
常のワイヤボンディングによる配線構造を考えるときに
、集積度が増大すればするほど配線のためのボンディン
グワイヤ51が相互に接近し、素子間のクロストークが
増大するという問題が生じる。このクロストークはボン
ディングワイヤ51のインダクタンス成分による電磁的
な現象に起因しているから、信号処理速度が増大するほ
ど顕著なものとなり、光デバイスの高速性に逆行するも
のである。一方、このクロストークを回避するために、
ボンディングワイヤ51が相互に接近しないようにワイ
ヤ配線構造を工夫することも可能であろうが、こうする
と装置が大型化するという問題が生じる。Problem to be Solved by the Invention However, when considering a wiring structure using normal wire bonding in the integrated structure shown in FIG. However, a problem arises in that crosstalk between elements increases. Since this crosstalk is caused by an electromagnetic phenomenon caused by the inductance component of the bonding wire 51, it becomes more prominent as the signal processing speed increases, and goes against the high speed performance of optical devices. On the other hand, to avoid this crosstalk,
Although it would be possible to devise a wire wiring structure so that the bonding wires 51 do not come close to each other, this poses a problem of increasing the size of the device.
本発明はこのような技術的課題に鑑みて創作されたもの
で、個々の双安定半導体レーザ間のクロストークの低減
及び装置の小型化が可能な集積化双安定半導体レーザの
配線構造の提供を目的としている。The present invention was created in view of these technical problems, and aims to provide a wiring structure for integrated bistable semiconductor lasers that can reduce crosstalk between individual bistable semiconductor lasers and miniaturize the device. The purpose is
課題を解決するための手段 第1図は本発明の原理図である。Means to solve problems FIG. 1 is a diagram showing the principle of the present invention.
この集積化双安定半導体レーザの配線構造は、複数の双
安定半導体レーザ1を、その電極2が同一面上に位置す
るように一体化し、上記電極2に対応した位置に配線電
極3を有する基板4を、上記双安定半導体レーザ1に対
向させ、上記電極2と上記配線電極3とを、フリップチ
ップボンディングにより電気的及び機械的に接続して構
成されている。The wiring structure of this integrated bistable semiconductor laser is such that a plurality of bistable semiconductor lasers 1 are integrated so that their electrodes 2 are located on the same plane, and a substrate has wiring electrodes 3 at positions corresponding to the electrodes 2. 4 is opposed to the bistable semiconductor laser 1, and the electrode 2 and the wiring electrode 3 are electrically and mechanically connected by flip-chip bonding.
作 用
本発明で、双安定半導体レーザの電極を同一面上に位置
させているのは、光の入出力方向、すなわち活性層の方
向を平行とした状態での一体化構造を容易なものとする
ためである。これにより、例えば時分割光交換システム
における並列的な光信号の処理が可能となる。また、電
極を同一面上に位置させることにより、基板の配線電極
とのフリップチップボンディングを容易なものとするこ
とができる。Function: In the present invention, the electrodes of the bistable semiconductor laser are located on the same plane, which facilitates the integration of the structure with the light input/output direction, that is, the direction of the active layer, parallel to each other. This is to do so. This enables parallel processing of optical signals in, for example, a time-division optical switching system. Furthermore, by locating the electrodes on the same surface, flip-chip bonding with the wiring electrodes of the substrate can be facilitated.
このように本発明では従来のワイヤボンディングによる
配線が不要となるから、クロストークが防止され、装置
の小型化が可能となる。As described above, the present invention eliminates the need for conventional wiring using wire bonding, thereby preventing crosstalk and making it possible to downsize the device.
実 施 例 以下本発明の実施例を図面に基づいて説明スル。Example Examples of the present invention will be described below based on the drawings.
第2図は本発明の実施に使用することのできる集積化双
安定半導体レーザの斜視図である。11はその上面に電
極14.15を有し内部に活性層16を有する双安定半
導体レーザ、12はその上面に電極17.18を有し内
部に活性層19を有する双安定半導体レーザ、13はそ
の上面に電極20.21を有し内部に活性1122を有
する双安定半導体レーザであり、これら双安定半導体レ
ーザ11,12.13は一体的に接合されている。FIG. 2 is a perspective view of an integrated bistable semiconductor laser that may be used in the practice of the present invention. 11 is a bistable semiconductor laser having electrodes 14 and 15 on its upper surface and an active layer 16 inside; 12 is a bistable semiconductor laser having electrodes 17 and 18 on its upper surface and an active layer 19 inside; 13 is a bistable semiconductor laser having electrodes 17 and 18 on its upper surface and an active layer 19 inside; It is a bistable semiconductor laser having an electrode 20.21 on its upper surface and an active layer 1122 inside, and these bistable semiconductor lasers 11, 12.13 are integrally joined.
この一体化構造は通常の半導体集積技術によっても得る
ことができる。23は上記電極と反対の側に設けられた
共通の接地電極である。This integrated structure can also be obtained by conventional semiconductor integration technology. 23 is a common ground electrode provided on the opposite side to the above electrodes.
第3図は本発明の実施に使用することのできる基板の平
面図であり、この基板31は、第2図に示される集積化
双安定半導体レーザの上面側に対向させたときに、電極
15.18.2丁にそれぞれ対向する位置に配線電極3
3,34.35を有しており、また、電極14.17.
20に対向した位置に共通の配線電極32を有して、い
る。なお、第3図において点線で示される部分は、各配
線電極と集積化双安定半導体レーザの上面、の電極とめ
フリップチップボンディングによる接続予定位置である
。FIG. 3 is a plan view of a substrate that can be used to implement the present invention, and when this substrate 31 faces the top side of the integrated bistable semiconductor laser shown in FIG. .18. Wiring electrodes 3 at positions facing each of the two
3, 34.35, and electrodes 14.17.
A common wiring electrode 32 is provided at a position opposite to the wiring electrode 20. Note that the portions indicated by dotted lines in FIG. 3 are the planned connection positions between each wiring electrode and the upper surface of the integrated bistable semiconductor laser by electrode stopper flip-chip bonding.
第4図は、第2図に示される集積化双安定半導体レーザ
と第3図に示される基板31とを対向させて配線を行な
ったときの、第3図におけるrV−■に沿った断面構成
を、示している。41は例えばALI−Qe金合金らな
る半田バンプであり、レーザ側の電極20と基板側の配
線電極32とを電気的及び機械的に接続している。42
は同じく半田バンプであり、レーザ側の電極21と基板
側の配線電極35とを電気的及び機械的に接続している
。FIG. 4 shows a cross-sectional configuration along rV-■ in FIG. 3 when the integrated bistable semiconductor laser shown in FIG. 2 and the substrate 31 shown in FIG. 3 are wired facing each other. It shows. 41 is a solder bump made of ALI-Qe gold alloy, for example, and electrically and mechanically connects the electrode 20 on the laser side and the wiring electrode 32 on the substrate side. 42
Similarly, solder bumps electrically and mechanically connect the electrode 21 on the laser side and the wiring electrode 35 on the substrate side.
このように半田バンプによるブリップチップボンディン
グを行なった場合には、電気的接続部分の相互間の電磁
的な影響が少ないので、個々の双安定半導体レーザ11
,12.13間のクロストークが防止されるものである
。また、極めて微小部分において電気的な及び機械的な
接続が達成されるから装置の小型化が可能となる。When blip chip bonding is performed using solder bumps in this way, there is little electromagnetic influence between the electrically connected parts, so the individual bistable semiconductor lasers 11
, 12, 13 is prevented. Further, since electrical and mechanical connections are achieved in extremely small parts, it is possible to downsize the device.
及vg4oど1里
以上詳述したように、本発明によれば、個々の双安定半
導体レーザ間のりOストークが防止され、装置の小型化
が可能になるという効果を奏する。As described in detail above, the present invention has the effect of preventing O-stalk between individual bistable semiconductor lasers and making it possible to miniaturize the device.
このように本発明は、光信号処理に要求される高速性及
び光デバイスに一要求されるコンパクト性に大きく貢献
するものである・。また、フリップチップボンディング
を行なうことによる一般的な効果として、配線作業が容
易化されるという効果もある。In this way, the present invention greatly contributes to the high speed required for optical signal processing and the compactness required for optical devices. Furthermore, a general effect of performing flip chip bonding is that wiring work is facilitated.
第1図は本発明の原理図、
第2図は本発明の実施に使用することのできる集積化双
安定軍導体レーザの斜視図、
第3図は本発明の実施に使用することできる基板の平面
図、
第4図は第2図に示される集積化双安定半導体レーザと
第3図に示される基板とを対向させて配線したときの断
面構成図、
第5図は従来の双安定半導体レーザの一構成例を説明す
るための因、
第6図は第5図に示される双安定半導体レーザの動作特
性説明図、
第7図は従来の集積化双安定半導体レーザの配線構造の
説明図である。
1.11.12.13・・・双安定半導体レーザ、2.
14.15.17゜
18.20.21・・・電極、
3.32,33.34.35・・・配線電極、4.31
・・・基板、
41.42・・・半田バンプ。
本光明〃X環図
第1図
多(9才シイ列 図
第2図
31; 基極2
32、Q34.35 : 酉乙Uta聯(党 イ列
図
第3図
13: 元r9定〕ら替イ杏し−′す′31:、iオ反
、
41.42:半日IYン7゜
f更 来 イ列 図
第5図
It、l2fJnヒきのPIN
促米イ列図
第6図
f穴ミ 歌 イ列 図
第7図FIG. 1 is a diagram of the principle of the present invention, FIG. 2 is a perspective view of an integrated bistable military conductor laser that can be used to implement the present invention, and FIG. 3 is a diagram of a substrate that can be used to implement the present invention. A plan view, FIG. 4 is a cross-sectional configuration diagram when the integrated bistable semiconductor laser shown in FIG. 2 and the substrate shown in FIG. 3 are wired facing each other, and FIG. 5 is a conventional bistable semiconductor laser. In order to explain one configuration example, FIG. 6 is an explanatory diagram of the operating characteristics of the bistable semiconductor laser shown in FIG. 5, and FIG. 7 is an explanatory diagram of the wiring structure of a conventional integrated bistable semiconductor laser. be. 1.11.12.13... Bistable semiconductor laser, 2.
14.15.17゜18.20.21... Electrode, 3.32, 33.34.35... Wiring electrode, 4.31
... Board, 41.42 ... Solder bump. Honkomyo
Fig. 3 Fig. 13: Original r9 constant〕Rarai-'su' 31:, i o-reverse, 41.42: Half a day IY-7゜f change from A-column Fig. 5 It, l2fJn Hikino PIN Promotion rice A row Figure 6 f Anami Song A row Figure 7
Claims (1)
同一面上に位置するように一体化し、 上記電極(2)に対応した位置に配線電極(3)を有す
る基板(4)を、上記双安定半導体レーザ(1)に対向
させ、 上記電極(2)と上記配線電極(3)とを、フリップチ
ップボンディングにより電気的及び機械的に接続してな
ることを特徴とする集積化双安定半導体レーザの配線構
造。[Claims] A plurality of bistable semiconductor lasers (1) are integrated so that their electrodes (2) are located on the same plane, and a wiring electrode (3) is provided at a position corresponding to the electrode (2). A substrate (4) having a substrate (4) is placed opposite the bistable semiconductor laser (1), and the electrode (2) and the wiring electrode (3) are electrically and mechanically connected by flip-chip bonding. Features the wiring structure of an integrated bistable semiconductor laser.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1776388A JPH01192185A (en) | 1988-01-28 | 1988-01-28 | Wiring structure of integrated bistable semiconductor laser |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1776388A JPH01192185A (en) | 1988-01-28 | 1988-01-28 | Wiring structure of integrated bistable semiconductor laser |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01192185A true JPH01192185A (en) | 1989-08-02 |
Family
ID=11952748
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1776388A Pending JPH01192185A (en) | 1988-01-28 | 1988-01-28 | Wiring structure of integrated bistable semiconductor laser |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01192185A (en) |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6079789A (en) * | 1983-10-06 | 1985-05-07 | Nec Corp | Semiconductor laser-array device |
JPS623231A (en) * | 1985-06-28 | 1987-01-09 | Nec Corp | Light signal shifting system |
-
1988
- 1988-01-28 JP JP1776388A patent/JPH01192185A/en active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPS6079789A (en) * | 1983-10-06 | 1985-05-07 | Nec Corp | Semiconductor laser-array device |
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