JPS6079715A - 拡散炉 - Google Patents
拡散炉Info
- Publication number
- JPS6079715A JPS6079715A JP18906683A JP18906683A JPS6079715A JP S6079715 A JPS6079715 A JP S6079715A JP 18906683 A JP18906683 A JP 18906683A JP 18906683 A JP18906683 A JP 18906683A JP S6079715 A JPS6079715 A JP S6079715A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- furnace
- mouth
- cap
- core tube
- diffusion
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67098—Apparatus for thermal treatment
- H01L21/67115—Apparatus for thermal treatment mainly by radiation
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、シリコン等からなるウェファに酸化膜を形
成し、あるいは不純物拡散、アニール処理等を施すため
に使用される拡散炉に係り、該拡散炉の炉心管へのウェ
ファの出し入れ操作が容易に行なえるように工夫したも
のである。
成し、あるいは不純物拡散、アニール処理等を施すため
に使用される拡散炉に係り、該拡散炉の炉心管へのウェ
ファの出し入れ操作が容易に行なえるように工夫したも
のである。
一般に、この種の拡散炉は炉体内に配備されたヒータに
より所定の温度に加熱されている炉心管にウェファを載
せた拡散ボートを操作棒によって挿入したのち、炉心管
の炉口をキャップで閉塞し、前記炉心管内のウェファを
所定の温度の状態に保ち、該管内に供給された不純物を
含有するガスを所定温度に加熱されたウェファの表面に
付着させることにより、所要の拡散を行なうものとなっ
ている。
より所定の温度に加熱されている炉心管にウェファを載
せた拡散ボートを操作棒によって挿入したのち、炉心管
の炉口をキャップで閉塞し、前記炉心管内のウェファを
所定の温度の状態に保ち、該管内に供給された不純物を
含有するガスを所定温度に加熱されたウェファの表面に
付着させることにより、所要の拡散を行なうものとなっ
ている。
しかるに、従来においてはウェファの出し入れの際、拡
散ボートを操作棒によって炉心管内の所定位置に挿入し
たのち、操作棒を炉心管外へ引き出し、次いで該炉心管
の炉口を第１図に示す如きキャップ１５によって閉塞し
ていた。このため、少なくともウェファの出し入れ操作
は操作棒の出し入れ操作とキャップ１５の炉口６への着
脱操作との２段階の操作を要し、また、これら各操作を
全てマニュアル操作で行なわなければならないという欠
点があった。
散ボートを操作棒によって炉心管内の所定位置に挿入し
たのち、操作棒を炉心管外へ引き出し、次いで該炉心管
の炉口を第１図に示す如きキャップ１５によって閉塞し
ていた。このため、少なくともウェファの出し入れ操作
は操作棒の出し入れ操作とキャップ１５の炉口６への着
脱操作との２段階の操作を要し、また、これら各操作を
全てマニュアル操作で行なわなければならないという欠
点があった。
また、上記の如きキャップ１５の場合、炉心管２の炉ロ
６外周面に密に嵌着される筒部１５ａとこれに連設され
た蓋壁１６とからなるが故に、炉口６への取付シ取外し
に手間を要し、とく、に取外し時においては筒部１５ａ
がチロ６外 して容易に取外せないというトラブルを生じることが少
なくなかった。
６外周面に密に嵌着される筒部１５ａとこれに連設され
た蓋壁１６とからなるが故に、炉口６への取付シ取外し
に手間を要し、とく、に取外し時においては筒部１５ａ
がチロ６外 して容易に取外せないというトラブルを生じることが少
なくなかった。
この発明は、上記の如き欠点を解消すべくなされたもの
で、操作棒とキャップとを不離一体に固着することによ
り、拡散ボートの出し入れ操作を一挙に済ませることが
できるようにすると共に、□ーキャップの蓋壁の炉口閉
塞面側に炉心管内に挿入される筒体を付設することによ
り、不純物等の拡散時に炉口付近の汚れを可及的に低減
することを目的とする。
で、操作棒とキャップとを不離一体に固着することによ
り、拡散ボートの出し入れ操作を一挙に済ませることが
できるようにすると共に、□ーキャップの蓋壁の炉口閉
塞面側に炉心管内に挿入される筒体を付設することによ
り、不純物等の拡散時に炉口付近の汚れを可及的に低減
することを目的とする。
以下、その詳細を図面に基づき説明する。
第２図及び第３図において、１は拡散炉の炉体、２は炉
心管であって炉体１を貫通している。３は炉心管２の外
周近傍に配備されたヒータ、４はスカベンジャーボック
ス、５はクリーンベンチである。
心管であって炉体１を貫通している。３は炉心管２の外
周近傍に配備されたヒータ、４はスカベンジャーボック
ス、５はクリーンベンチである。
炉心管２は石英からなり、一端に炉口６を有し、他端が
奥側壁７によって閉蓋された円筒管であって、奥側壁７
に形成されたガス供給口８がら酸素ガス、窒素ガスある
いは不純物を含有するガスが管内に供給され、外周壁９
に設けられた排気ダクト１０力・ら管外に排気される。
奥側壁７によって閉蓋された円筒管であって、奥側壁７
に形成されたガス供給口８がら酸素ガス、窒素ガスある
いは不純物を含有するガスが管内に供給され、外周壁９
に設けられた排気ダクト１０力・ら管外に排気される。
この炉心管２内の所定位置に拡散ボート１１が配置され
る。丑た、前記炉口６の開口縁は十分な平面精度を有す
るように成形されている。拡散ボート１１は多数のウェ
ファ１２を等間隔おきに載置するウェファ収納部１３を
有し、後述する操作棒１４によって前述の炉心管２内の
所定位置と炉心管２外とに挿脱操作される。
る。丑た、前記炉口６の開口縁は十分な平面精度を有す
るように成形されている。拡散ボート１１は多数のウェ
ファ１２を等間隔おきに載置するウェファ収納部１３を
有し、後述する操作棒１４によって前述の炉心管２内の
所定位置と炉心管２外とに挿脱操作される。
操作棒１４は先端部１４ａが下方に屈曲されており、こ
の屈曲先端部を拡散ボート１１の一端に引掛けて、該ボ
ート１１を炉心管２の内外に挿脱するものとなっており
、該操作棒１４の中間部に炉口６を閉塞するキャップ１
５が不離一体に固着されている。
の屈曲先端部を拡散ボート１１の一端に引掛けて、該ボ
ート１１を炉心管２の内外に挿脱するものとなっており
、該操作棒１４の中間部に炉口６を閉塞するキャップ１
５が不離一体に固着されている。
第２図において、キャップ１５は正方形状または円形状
の蓋壁１６と、これの炉口閉塞面ｌｅａ側から突設した
筒体１７とからなる。蓋壁１６の炉口閉塞面１６ａは炉
口６の開口縁の平１ｊ精度に対応して高精度に成形され
、かつ炉口６の開口面を完全に連数できる寸法に設定さ
れている。また、筒体１７は開口先端を有する円筒状に
形成されていて、炉心管２内に進入したときに、この筒
体１７の外周面と炉心管２の内周部との間に所要の間隙
が生じるように外形寸法を設定されている。なお、この
筒体１７は炉心管２と同様に石英製であることが望まし
い。
の蓋壁１６と、これの炉口閉塞面ｌｅａ側から突設した
筒体１７とからなる。蓋壁１６の炉口閉塞面１６ａは炉
口６の開口縁の平１ｊ精度に対応して高精度に成形され
、かつ炉口６の開口面を完全に連数できる寸法に設定さ
れている。また、筒体１７は開口先端を有する円筒状に
形成されていて、炉心管２内に進入したときに、この筒
体１７の外周面と炉心管２の内周部との間に所要の間隙
が生じるように外形寸法を設定されている。なお、この
筒体１７は炉心管２と同様に石英製であることが望まし
い。
次に、上記構成の作用を説明すると、スカベンジャーボ
ックス４に設けられた図外の排気孔から矢符Ａ方向に向
かって排気作用が行なわれ、この排気作用によってクリ
ーンベンチ５から外気が矢符Ｂ 方向にスカベンジャー
ボックス４に進入する。
ックス４に設けられた図外の排気孔から矢符Ａ方向に向
かって排気作用が行なわれ、この排気作用によってクリ
ーンベンチ５から外気が矢符Ｂ 方向にスカベンジャー
ボックス４に進入する。
一方、ウェファ１２を収納載置した拡散ボート１１は操
作棒１４によって炉口６から炉心管２内の所定位置に挿
入される。これ表向時にキャンプ１５の蓋壁１６の炉口
閉塞面１６ａが炉口６の開口縁に隙間なく密接し、炉口
６を完全に閉塞する。
作棒１４によって炉口６から炉心管２内の所定位置に挿
入される。これ表向時にキャンプ１５の蓋壁１６の炉口
閉塞面１６ａが炉口６の開口縁に隙間なく密接し、炉口
６を完全に閉塞する。
そして、筒体１７は炉心管２内の炉口６近傍位置に入り
込むことになる。
込むことになる。
炉口６がこのような閉塞状態にあれば、外気が炉心管２
内に侵入することができず、しかも炉心管２内に供給さ
れたガスは肢管２の外周壁９がら取出された排気ダクト
１０から外部へ排気されるので、拡散ボート１１上のウ
ェファ１２が外気によって影響を受けることを防止でき
る。
内に侵入することができず、しかも炉心管２内に供給さ
れたガスは肢管２の外周壁９がら取出された排気ダクト
１０から外部へ排気されるので、拡散ボート１１上のウ
ェファ１２が外気によって影響を受けることを防止でき
る。
なお、このときキャップ１５の蓋壁１６を炉口６に押圧
接当する手段としては、たとえば操作棒１４の基端に連
結したボートローダ１８（第２図参照）によって行なう
など諸種の手段が考えられる。
接当する手段としては、たとえば操作棒１４の基端に連
結したボートローダ１８（第２図参照）によって行なう
など諸種の手段が考えられる。
以上説明したように、この発明によれば拡散ボート上の
ウエフ゛ｒを操作棒によって出し入れ操作する際、同時
にキャップによる炉１コの閉塞操作を行なうことができ
るのでキャップの取付け、取外し作業を省くことかで゛
きる。この際、従来より既存のボートローダと操作棒と
を連動させれば、ウェファの出し入れ操作を全自動化す
ることも可能となる。
ウエフ゛ｒを操作棒によって出し入れ操作する際、同時
にキャップによる炉１コの閉塞操作を行なうことができ
るのでキャップの取付け、取外し作業を省くことかで゛
きる。この際、従来より既存のボートローダと操作棒と
を連動させれば、ウェファの出し入れ操作を全自動化す
ることも可能となる。
また、キャップで炉口を完全閉塞したときにキャップの
筒体は炉心管内の炉口付近に位置するので、該炉口近傍
か２重管構造になり、不純物ガスの拡散時に発生する炉
心管内の炉口付近の汚れを可及的に低減することができ
る。
筒体は炉心管内の炉口付近に位置するので、該炉口近傍
か２重管構造になり、不純物ガスの拡散時に発生する炉
心管内の炉口付近の汚れを可及的に低減することができ
る。
更に、キャップの蓋壁の炉口閉塞面か炉口の開口縁に接
離可能に密接する構成となっているので、キャップを炉
口から不都合なく取外すことができる七いった効果を奏
する。
離可能に密接する構成となっているので、キャップを炉
口から不都合なく取外すことができる七いった効果を奏
する。
第１図は従来のキャップの一例を示す断面図である。第
２図および第３図はこの発明の実施例を示し、第２図は
縦断側面図、第３図は要部斜視図である。 ２・・炉心管、Ｇ 炉口、１０ 排気ダクト、１１・・
拡散ボート、１４・・操作棒、１５・キャップ、１６・
・蓋壁、１６ａ ・蓋壁の炉口閉塞ｉｎｉ、１７・・筒
体。 出 願 人 ローム株式会社
２図および第３図はこの発明の実施例を示し、第２図は
縦断側面図、第３図は要部斜視図である。 ２・・炉心管、Ｇ 炉口、１０ 排気ダクト、１１・・
拡散ボート、１４・・操作棒、１５・キャップ、１６・
・蓋壁、１６ａ ・蓋壁の炉口閉塞ｉｎｉ、１７・・筒
体。 出 願 人 ローム株式会社
Claims (1)
- （１）炉口と排気ダクト＆が互いに重合しない部位に設
けた炉心管と、該炉心管内に拡散ボートを出し入れする
だめの操作棒と、炉口を開閉するキャップとを有する拡
散炉において、前記キャップは炉口の開口縁に接離可能
に密接する蓋壁と、これの炉口閉塞面から突設されかつ
炉口閉塞時に炉心管内に挿入される筒体とからなり、こ
のキャップを前記操作棒の長手方向中間部に不離一体に
固着したことを特徴とする拡散炉。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18906683A JPS6079715A (ja) | 1983-10-06 | 1983-10-06 | 拡散炉 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18906683A JPS6079715A (ja) | 1983-10-06 | 1983-10-06 | 拡散炉 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6079715A true JPS6079715A (ja) | 1985-05-07 |
Family
ID=16234724
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18906683A Pending JPS6079715A (ja) | 1983-10-06 | 1983-10-06 | 拡散炉 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6079715A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0372884A2 (en) * | 1988-12-05 | 1990-06-13 | Cryco Twenty-Two, Inc. | Processing semi-conductor wafers and other substrates |
| EP0399671A2 (en) * | 1989-05-22 | 1990-11-28 | Cryco Twenty-Two, Inc. | Processing semi-conductor wafers and other substrates |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5137565A (ja) * | 1974-09-27 | 1976-03-29 | Hitachi Ltd | Yokogatakakusanro |
| JPS5790935A (en) * | 1980-11-27 | 1982-06-05 | Mitsubishi Electric Corp | Device for drawing quartz boat |
-
1983
- 1983-10-06 JP JP18906683A patent/JPS6079715A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5137565A (ja) * | 1974-09-27 | 1976-03-29 | Hitachi Ltd | Yokogatakakusanro |
| JPS5790935A (en) * | 1980-11-27 | 1982-06-05 | Mitsubishi Electric Corp | Device for drawing quartz boat |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0372884A2 (en) * | 1988-12-05 | 1990-06-13 | Cryco Twenty-Two, Inc. | Processing semi-conductor wafers and other substrates |
| EP0372884A3 (en) * | 1988-12-05 | 1991-04-17 | Cryco Twenty-Two, Inc. | Processing semi-conductor wafers and other substrates |
| EP0399671A2 (en) * | 1989-05-22 | 1990-11-28 | Cryco Twenty-Two, Inc. | Processing semi-conductor wafers and other substrates |
| EP0399671A3 (en) * | 1989-05-22 | 1991-04-17 | Cryco Twenty-Two, Inc. | Processing semi-conductor wafers and other substrates |
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