JPS6078310A - 螢光ｘ線膜厚計 - Google Patents
螢光ｘ線膜厚計Info
- Publication number
- JPS6078310A JPS6078310A JP18649283A JP18649283A JPS6078310A JP S6078310 A JPS6078310 A JP S6078310A JP 18649283 A JP18649283 A JP 18649283A JP 18649283 A JP18649283 A JP 18649283A JP S6078310 A JPS6078310 A JP S6078310A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- collimator
- diameter
- fluorescent
- ray
- film thickness
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B15/00—Measuring arrangements characterised by the use of electromagnetic waves or particle radiation, e.g. by the use of microwaves, X-rays, gamma rays or electrons
- G01B15/02—Measuring arrangements characterised by the use of electromagnetic waves or particle radiation, e.g. by the use of microwaves, X-rays, gamma rays or electrons for measuring thickness
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Length-Measuring Devices Using Wave Or Particle Radiation (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は螢光ｘｉＩＪ膜厚計に関し、特に、コリメータ
孔の直径を試料に応じて変えられるようにするための改
良に関するものである。
孔の直径を試料に応じて変えられるようにするための改
良に関するものである。
従来の螢光Ｘ線膜厚計は第１１ｆｆｌＡ、Ｂに示される
。！二９に、Ｘ線源１から放射されたＸ線ビーム２は試
料面３に照射され、この試料面３から発生する螢光ｘ１
４が検出器５に導かれて検出されておシ、前記試料面３
の状態を観察するには試料面３上に配設された観察手段
６によって行なっていた。しかしながら、このような従
来構成においてはＸ線源１のｘ ｔｑ軸と観察手段６の
光軸とが一致していないために、Ｘ線ビームが照射され
た試料面３の状態は第１図Ｂに示されるように種口形と
なり、例えばＩＣ基板上における細かい配線ノ（ターン
の金メツキ膜厚全測定する場合、配線）（ターン自体が
極めて小さいために種口状Ｘ線ビームでは正確な場所に
、正確なＸ線ビームを照射することができず、正確な膜
厚を測定することができなかった。
。！二９に、Ｘ線源１から放射されたＸ線ビーム２は試
料面３に照射され、この試料面３から発生する螢光ｘ１
４が検出器５に導かれて検出されておシ、前記試料面３
の状態を観察するには試料面３上に配設された観察手段
６によって行なっていた。しかしながら、このような従
来構成においてはＸ線源１のｘ ｔｑ軸と観察手段６の
光軸とが一致していないために、Ｘ線ビームが照射され
た試料面３の状態は第１図Ｂに示されるように種口形と
なり、例えばＩＣ基板上における細かい配線ノ（ターン
の金メツキ膜厚全測定する場合、配線）（ターン自体が
極めて小さいために種口状Ｘ線ビームでは正確な場所に
、正確なＸ線ビームを照射することができず、正確な膜
厚を測定することができなかった。
又、さらに詳しく述べると、従来の構成においては、コ
リメータ孔の直径は固定でちるため、微少試料によって
正確に測定することが困難であった。
リメータ孔の直径は固定でちるため、微少試料によって
正確に測定することが困難であった。
本発明は以上の欠点をすみやかに除去するための極めて
効果的な手段全提供することを目的とするもので、特に
、コリメータ体に複数の互いに異なる直径のコリメータ
孔を設け、回転出来るようにし、任意の直径のコリメー
タ孔を得ることができるようにしｆｃ構成である。
効果的な手段全提供することを目的とするもので、特に
、コリメータ体に複数の互いに異なる直径のコリメータ
孔を設け、回転出来るようにし、任意の直径のコリメー
タ孔を得ることができるようにしｆｃ構成である。
以下、図面と共に本発明による螢光Ｘ線膜厚計について
詳細に説明する。
詳細に説明する。
図面において符号１ｏで示されるものは本体１１に設け
られＸ線源１２を有するＸ線源部であシ、このｘ綜源工
２は油１３中に浸漬されていると共に蓋体工４により密
閉状態に保持されている。
られＸ線源１２を有するＸ線源部であシ、このｘ綜源工
２は油１３中に浸漬されていると共に蓋体工４により密
閉状態に保持されている。
このｘ線源部１ｏの下部位置には一対の案内軸受１５
、１６に摺動自在に保持された一対の摺動体１７゜１８
にシャッタ一体１９が矢印Ａの方向に往復移動自在に設
けられている。
、１６に摺動自在に保持された一対の摺動体１７゜１８
にシャッタ一体１９が矢印Ａの方向に往復移動自在に設
けられている。
このシャッタ一体１９は本体１１に設けられた回転移動
手段であるロータリーソレノイド加の作動レバー２１の
一端に連結されておシ、ロータリーソレノイドかの作動
によシ前記シャッタ一体１９ハ矢印Ａの方向に往復移動
できるものである。本体１１の下部には一対のストッパ
ーη、路が設けられ、シャッタ一体１９の左右方向の移
動範囲を制限している。
手段であるロータリーソレノイド加の作動レバー２１の
一端に連結されておシ、ロータリーソレノイドかの作動
によシ前記シャッタ一体１９ハ矢印Ａの方向に往復移動
できるものである。本体１１の下部には一対のストッパ
ーη、路が設けられ、シャッタ一体１９の左右方向の移
動範囲を制限している。
さらに、前記シャッタ一体１９の一面には較正用試料板
−Ａが設けられていると共に、この較正用試料板冴に隣
接してミラー板５が設けられていると共に、このミラー
板石に対向して前記シャッタ一体１９内にランプがか内
蔵・されており、試料面２７全照射することができる。
−Ａが設けられていると共に、この較正用試料板冴に隣
接してミラー板５が設けられていると共に、このミラー
板石に対向して前記シャッタ一体１９内にランプがか内
蔵・されており、試料面２７全照射することができる。
このシャッタ一体１９における前記ミラー板δの下部位
置にはハーフミラ−坂路および反射ミラー２９ヲ有する
ミラーボックス３０が一体に設けられており、このミラ
ーボックス（至）に図示しない観察手段であるＴＶカメ
ラが装着され、Ｘ線軸と観察用の光軸とが一致している
。
置にはハーフミラ−坂路および反射ミラー２９ヲ有する
ミラーボックス３０が一体に設けられており、このミラ
ーボックス（至）に図示しない観察手段であるＴＶカメ
ラが装着され、Ｘ線軸と観察用の光軸とが一致している
。
前記シャッタ一体１９の下端部には各々直径の異なる複
数のコリメータ孔３１ 、３２ 、３３．３４ 、３５
′ｆ：有するコリメータ体３６が回転自在に軸支部３
７により軸支されておシ、コリメータ体３６と一体に形
成されたツマミ部３８ヲ介して矢印Ｂの方向に回転させ
ることによ！ｌＦマークの位置に合わせたコリメータ孔
３３がその時のＸ線ビームが適過するコリメータ孔とな
るものである。
数のコリメータ孔３１ 、３２ 、３３．３４ 、３５
′ｆ：有するコリメータ体３６が回転自在に軸支部３
７により軸支されておシ、コリメータ体３６と一体に形
成されたツマミ部３８ヲ介して矢印Ｂの方向に回転させ
ることによ！ｌＦマークの位置に合わせたコリメータ孔
３３がその時のＸ線ビームが適過するコリメータ孔とな
るものである。
従って、このコリメータ体１９の移動する距離はハーフ
ミラ−板邦の中心点とＰマークのコリメータ孔３３の中
心点との間に設けられた距離りが移動範囲となり、”Ｈ
源１２に対してハーフミラ−板あが位置している時、す
なわち較正用試料板ＵにＸ線ビームが照射している状態
はシャッタ一体１９が閉状態でｈｖ、Ｘ線源１２からの
Ｘ線ビームがコリメータ体３６のＰマークのコリメータ
孔３３を通過して試料板ｎに照射している時はシャッタ
一体１９が開状態である。
ミラ−板邦の中心点とＰマークのコリメータ孔３３の中
心点との間に設けられた距離りが移動範囲となり、”Ｈ
源１２に対してハーフミラ−板あが位置している時、す
なわち較正用試料板ＵにＸ線ビームが照射している状態
はシャッタ一体１９が閉状態でｈｖ、Ｘ線源１２からの
Ｘ線ビームがコリメータ体３６のＰマークのコリメータ
孔３３を通過して試料板ｎに照射している時はシャッタ
一体１９が開状態である。
さらに、このシャッタ一体１９に隣接して比例計数管等
からなる検出器３９が設けられ、この検出器３９には較
正用試料板冴からの螢光Ｘ線全入射させるための第１入
射開口部４０および試料面ｎからの螢光Ｘ線を入射させ
るための第２入射開口部４１が各々形成され、この第２
入射開口部４１の前面側には、例えば、コバルトからな
るフィルター４２が矢印Ｃの方向に可動式に設けられて
いる。
からなる検出器３９が設けられ、この検出器３９には較
正用試料板冴からの螢光Ｘ線全入射させるための第１入
射開口部４０および試料面ｎからの螢光Ｘ線を入射させ
るための第２入射開口部４１が各々形成され、この第２
入射開口部４１の前面側には、例えば、コバルトからな
るフィルター４２が矢印Ｃの方向に可動式に設けられて
いる。
以上のような構成において、本発明による螢光Ｘ線膜厚
計を作動させる場合について述べると、まず、シャッタ
一体１９ヲ第２図で示す閉状態に保ち、Ｘ線源１２ヲオ
ンにすると、Ｘ線ビーム１２αは較正用試料板夙に照射
され、この較正用試料板冴からの螢光Ｘ線は第１入射開
口部４０を経て検出器３９に入射して測定され、本膜厚
計の測定コンディションが一定値に整えられる。
計を作動させる場合について述べると、まず、シャッタ
一体１９ヲ第２図で示す閉状態に保ち、Ｘ線源１２ヲオ
ンにすると、Ｘ線ビーム１２αは較正用試料板夙に照射
され、この較正用試料板冴からの螢光Ｘ線は第１入射開
口部４０を経て検出器３９に入射して測定され、本膜厚
計の測定コンディションが一定値に整えられる。
次に、シャッタ一体１９ヲ回転移動手段であるロータリ
−ソレノイド２０ヲ作動させると、第２図において右側
に移動し、ストッパー沼に接合した状態に保持される。
−ソレノイド２０ヲ作動させると、第２図において右側
に移動し、ストッパー沼に接合した状態に保持される。
この状態では、Ｘ線ビーム１２αは較正用試料板冴に照
射されず、シャッタ一体１９ヲ経て、コリメータ体３６
のＰマーク位置のコリメータ孔３３ヲ介して一定径のビ
ームとなって試料面ｎに照射され、試料面２７からの螢
光Ｘ線は第２入射開口部４１を介して検出器３９内に入
射される。
射されず、シャッタ一体１９ヲ経て、コリメータ体３６
のＰマーク位置のコリメータ孔３３ヲ介して一定径のビ
ームとなって試料面ｎに照射され、試料面２７からの螢
光Ｘ線は第２入射開口部４１を介して検出器３９内に入
射される。
この場合、前記コリメータ体３６は、ツマミ部３Ｂ全矢
印Ｂの方向に回転させることによシ、コリメータ孔３１
は０゜１ミリ、コリメータ孔３２は０．２ミリ、コリメ
ータ孔３３は０．３ミリ、コリメータ孔３４（は０．５
ミリ、コリメータ孔３５は１．０ミリの直径であるため
、任意のコリメータ孔をＰマークに合わせれば、任意の
直径のコリメータ孔に合わせることができ、被測定試料
の測定部の大きさによシ任意に選択できるものである。
印Ｂの方向に回転させることによシ、コリメータ孔３１
は０゜１ミリ、コリメータ孔３２は０．２ミリ、コリメ
ータ孔３３は０．３ミリ、コリメータ孔３４（は０．５
ミリ、コリメータ孔３５は１．０ミリの直径であるため
、任意のコリメータ孔をＰマークに合わせれば、任意の
直径のコリメータ孔に合わせることができ、被測定試料
の測定部の大きさによシ任意に選択できるものである。
本発明は以上のような槽底と作用とを備えているため、
Ｘ線軸と観察用の光軸とが一致していると共に、被測定
試料の測定部分の大きさによシワンクツチで任意にコリ
メータ孔の直径を変えてＸ線ビーム径全任意に変えるこ
とができるため、極めて微少な部分のメッキ厚を正確に
測定することができるものである。
Ｘ線軸と観察用の光軸とが一致していると共に、被測定
試料の測定部分の大きさによシワンクツチで任意にコリ
メータ孔の直径を変えてＸ線ビーム径全任意に変えるこ
とができるため、極めて微少な部分のメッキ厚を正確に
測定することができるものである。
第１図Ａは従来の膜厚計を示す構成図、第１図Ｂは第１
図Ａの、膜厚計によるｘｉ照射状態を示す試料の平面図
、第２図は本発明による螢光Ｘ線膜厚計を示す正面断面
図、第３図は第２図のＡ−Ａ線による断面図、第４図は
第３図のコリメータ体の裏面図である。 １０ ｉ Ｘ線源部、Ｌｌｉｉ、Ｘ体、１２ Ｕ Ｘ線
源、１３ハ油、 １４は蓋体、１９ＴＩ′ｉシヤツタ一
体、旬はロータリーソレノイド、冴は較正用試料板、ｂ
はミラー板、２７は試料面、２８はハーフミラ−板、２
９は反射ミジー、加はミラーボックス、３１〜３５はコ
リメータ孔、３６はコリメータ体、羽はツマミ部、３９
は検出器、４０は第１入射開口部、４１は第２入射開口
部、４２はフィルターである。 以上 出願人 セイコー電子工業株式会社 代理人 弁理士 最 上 務
図Ａの、膜厚計によるｘｉ照射状態を示す試料の平面図
、第２図は本発明による螢光Ｘ線膜厚計を示す正面断面
図、第３図は第２図のＡ−Ａ線による断面図、第４図は
第３図のコリメータ体の裏面図である。 １０ ｉ Ｘ線源部、Ｌｌｉｉ、Ｘ体、１２ Ｕ Ｘ線
源、１３ハ油、 １４は蓋体、１９ＴＩ′ｉシヤツタ一
体、旬はロータリーソレノイド、冴は較正用試料板、ｂ
はミラー板、２７は試料面、２８はハーフミラ−板、２
９は反射ミジー、加はミラーボックス、３１〜３５はコ
リメータ孔、３６はコリメータ体、羽はツマミ部、３９
は検出器、４０は第１入射開口部、４１は第２入射開口
部、４２はフィルターである。 以上 出願人 セイコー電子工業株式会社 代理人 弁理士 最 上 務
Claims (1)
- 本体に設けられＸｍ源を有するＸ線源部と、このＸ線源
部の下部位置においてこのＸ線源からのＸ線ビームを横
切る方向に往復移動自在に設けられたシャッターと、こ
のシャッターに往復ｓｉさせるための往復移動手段と、
このシャッターの下端に回転自在に設けられ複数の互い
に直径の異なるコリメータ孔を有するコリメータ体と、
試料からの螢光Ｘ線を検出するため本体に設けられた検
出器とを備え、このコリメータ体を回転させることによ
り任意の直径のコリメータ孔を介してＸ、１源のＸ線ビ
ーム全任意の直径のビームにして試料に照射することが
できるように構成した螢光Ｘ線膜厚計。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18649283A JPS6078310A (ja) | 1983-10-05 | 1983-10-05 | 螢光ｘ線膜厚計 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18649283A JPS6078310A (ja) | 1983-10-05 | 1983-10-05 | 螢光ｘ線膜厚計 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6078310A true JPS6078310A (ja) | 1985-05-04 |
Family
ID=16189430
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18649283A Pending JPS6078310A (ja) | 1983-10-05 | 1983-10-05 | 螢光ｘ線膜厚計 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6078310A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4962518A (en) * | 1987-12-07 | 1990-10-09 | Twin City International, Inc. | Apparatus for measuring the thickness of a coating |
| JP2002107134A (ja) * | 2000-07-27 | 2002-04-10 | Seiko Instruments Inc | 蛍光ｘ線膜厚計 |
| JP2016118422A (ja) * | 2014-12-19 | 2016-06-30 | 株式会社マーストーケンソリューション | Ｘ線検査装置 |
| KR20190027316A (ko) * | 2017-09-06 | 2019-03-14 | 가부시키가이샤 히다치 하이테크 사이언스 | 형광 x 선 분석 장치 및 형광 x 선 분석 방법 |
| US10625944B2 (en) | 2015-05-15 | 2020-04-21 | Mitsuboshi Belting Ltd. | Profiled belt and method for manufacturing same |
-
1983
- 1983-10-05 JP JP18649283A patent/JPS6078310A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4962518A (en) * | 1987-12-07 | 1990-10-09 | Twin City International, Inc. | Apparatus for measuring the thickness of a coating |
| JP2002107134A (ja) * | 2000-07-27 | 2002-04-10 | Seiko Instruments Inc | 蛍光ｘ線膜厚計 |
| JP2016118422A (ja) * | 2014-12-19 | 2016-06-30 | 株式会社マーストーケンソリューション | Ｘ線検査装置 |
| US10625944B2 (en) | 2015-05-15 | 2020-04-21 | Mitsuboshi Belting Ltd. | Profiled belt and method for manufacturing same |
| KR20190027316A (ko) * | 2017-09-06 | 2019-03-14 | 가부시키가이샤 히다치 하이테크 사이언스 | 형광 x 선 분석 장치 및 형광 x 선 분석 방법 |
| JP2019045402A (ja) * | 2017-09-06 | 2019-03-22 | 株式会社日立ハイテクサイエンス | 蛍光ｘ線分析装置及び蛍光ｘ線分析方法 |
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