JPS6076137A - 半導体ペレツトの位置検出装置 - Google Patents

半導体ペレツトの位置検出装置

Info

Publication number
JPS6076137A
JPS6076137A JP18477583A JP18477583A JPS6076137A JP S6076137 A JPS6076137 A JP S6076137A JP 18477583 A JP18477583 A JP 18477583A JP 18477583 A JP18477583 A JP 18477583A JP S6076137 A JPS6076137 A JP S6076137A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
bit pattern
horizontal
window
circuit
vertical
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP18477583A
Other languages
English (en)
Inventor
Kiyotomi Hayashida
喜代富 林田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
Nippon Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp, Nippon Electric Co Ltd filed Critical NEC Corp
Priority to JP18477583A priority Critical patent/JPS6076137A/ja
Publication of JPS6076137A publication Critical patent/JPS6076137A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/68Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment
    • H01L21/681Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment using optical controlling means

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の属する技術分野〕 本発明は半導体ペレットの位置検出装置、特に金属製リ
ングに固定された粘着性シート上に一定間隔を保ちマト
リックス状に配列された半導体ペレットの位置決めおよ
びベレーノト列の傾き修正全行なうだめの半導体ペレッ
トの位置検出装置に関する。
〔従来技術〕 従来、10. 半導体ペレット等の自動組立装置の中で
、特にIC,半導体ペレット葡リードフレーム上に溶融
金箔又は銀ペースト1−媒介として固着させる装置(ダ
イボンディング装置)において。
ペレットの位置決め認識方式として例えば%特願昭56
−123271明細書記載の認識方法が提案されている
この方法はIC,半導体ベレツ)1−光学系全弁してI
TVカメ2で撮歇し、得られた映像信号音ある一定の閾
値によシ2値化画像信号に変換し。
第1図に示すようなベレット像lOの4辺にU。
D、几、Lのウィンドウ全それぞれ配置し、各辺に設定
されたウィンドウ内の白ビツト計数(FL (以下2値
化画S信号の論理値“l″を白ビット、論理値“0“全
黒ビットと称す。)會基準直と比較して、基準値以上t
″(JN、それ以外fj)OFFとして、各ウィンド、
つの0N10FF状態全判別し。
このU N10 F Fの状態tもとに予め定められた
移動量、移動方向にベレット1−移動させて、4辺のウ
ィンドウがすべて(JNと判定される状態にペレットの
粗位置決め全行なう。
その後、第2図に示すよりにベレット像10の4辺にA
、B、C,D、E、Fの各ウィンドウを設定し、これら
のウィンドウの内、AとB%CとD% EとFの各組の
ウィンドウ内の白ビツト計数値の差からそれぞれX方向
、Y方向および角度θの修正移動量全算出し、精密位置
決めt行なう方法である。
しかしながら、第3図に示すような関係位置にA、B、
C,D、E、Fの各ウィンドウと半導体ベレッ)10が
あるような場合、それぞれのウィンドウA、B、C,D
はONと見なせることから粗位置決めは完了したものと
判定され、精密位置決めにおいてはウィンドウAとB、
CとDは平衡状態にあ凱ウィンドウEとFにおいて差が
生じていることから角度0の修正移動量が算出され。
算出結果に応じて角度θを修正する誤紹識が生じる。従
って、従来方法では最初にペレツトと各ウィンドウとの
位置決めを必要とした。
また、従来方法によると、粘着性シート上のペレット列
が傾いた状態では、個々のベレットの位置決めに時間を
要し1必然的にトータルインテックスが長くなるという
ことから、初期のスタート位置となるペレ・・・トの位
置合わせ、及びペレット列の傾き全作業者がモニターテ
レビに写し出された画面をもとに調整全行なう必要があ
った。
〔発明の目的J 本発明の目的は1作業者にとって煩わしいペレット列の
傾きの調整や、ペレヅ)1−所定の位置に位置決めする
作業を解消するため、自動的に半導体ペレット群の中か
ら任意の半導体ペレッ)1−選択し所定の位置に位置決
めする位置修正装置、および更にペレット列の傾@を修
正するためのペレット位置検出装置を提供するものであ
る。
〔発明の構成〕
本第1の発明によるとマトリックス状に配列された半導
体ベレッ)1−撮像する撮像装置と、該撮像装置よシの
アナログ映像信号全所定の閾値にて2値化画慮信号に変
換する2値化回路と、互に直交しその中心が一致するよ
う配置され2値化された画像信号の限定された領域内の
白及び黒の連なシ状態を水平方向と垂直方向にそれぞれ
抽出する友めの水平ビットパター/ウィンドウと垂直ビ
ットパターンウィンドウト、該垂直ビットパターンウィ
ンドウ内の白および黒の画像信号の連なり状態全垂直方
向に2値(“l“、“0“)の連続パターンとして検出
するための垂直ビットパターン抽出回路と、前記水平ビ
ットパターンウィンドウ内の画像信号の白および黒の画
像の連なシ状態を水平方向に2値(“1m、0“)の連
続パターンとして検出するための水平ビットパターン抽
出回路と、前記水平および垂直ビットパターン抽出回路
によシ得られた画像信号tもとに所定の演算処理を行な
う演算処理回路とを含むこと全特徴とする半導体ペレッ
トの位置検出装置が得、られる。
本第2の発明によるとマトリックス状に配列された半導
体ペレッ)1−撮像する撮像装置と、撮像装置よルのア
ナログ映像信号を所定の閾値にて2値化画像信号に変換
する2値化回路と、互に直交しその中心が一致するよう
配置され2値化された画像信号の限定された領域内の白
及び黒の連なり状態全水平方向と垂直方向にそれぞれ抽
出するだめの水平ビットパターンウィンドウと垂直ビッ
トパターンウィンドウと、前記垂直ビットパターンウィ
ンドウ内の白および黒の画像信号の連なり状態を垂直方
向に2値(“l”、“0°)の連続パターンとして検出
するための垂直ビットパター/抽出回路と、前記水平ビ
ットパターンウィンドウ内の画は信号の白および黒の画
像の連なり状態全水平方向に2値(1″、“0”〕の連
続パターンとして検出するための水平ビットパターン抽
出回路と、前記水平ビットパターンウィンドウと垂直ビ
ットパター7ウインドウの叉点と半導体ペレットの二値
化画像中心が位置合わせされた時に該半導体ベレットの
二値化画像の一辺上に位置するよう配置された複数個の
ウィンドウと、該複数個のウィンドウ内のそれぞれの白
ビツト計数値を得る計数回路と、前記水平および垂直ビ
ットパターン抽出回路および計数回路によシ得られた画
像信号をもとに所定の演算処理を行なう演算処理回路と
を含むことを特徴とする半導体ベレットの位置検出装置
が得られる。
〔実施例の説明〕
2の発明の一実施例の構成図を示す。すな抄ち、ITV
カメ240から出力されたアナログ映像信号は2値化回
路41にて2値化画像信号に変換され、該2値化画慮信
号は水平ビットパターンウィンドウ回路42.垂直ビッ
トパターンウィンドウ回路43.ウィンドウ回路44に
それぞれ入力する。
前記水平ビットパターンウィンドウ回路42は第6図(
b)に図示されたウィンドウ61t−設定して構成され
るものであり、設定されたウィンドウ61内の2値化画
像の図形情報のみ全次段の水平ビットパターン抽出回路
45に入力する。又、垂直ビットパターンウィンドウ回
路43は第6図(b)に図示されたウィンドウ62′t
−設定して構成されるものであり、設定されたウィンド
ウ62内の2値化画像の図形情報のみを次段の垂直ビッ
トパターン抽出回路46に入力する。そして、ウィンド
ウ回路44は第6図(b)に図示されたウィンドウ63
.64t″設定して構成されるものであシ、設定された
ウィンドウ63.64内の2値化画像の図形情報のみを
次段の計数回路47に入力する。
水平ビットパターン抽出回路45は入力された2値化画
像の図形情報の白、黒の連なシ状態を白を“l“、黒を
“0”として水平方向に“1“。
“0”のビットパターン列として抽出する。又。
垂直ビットパターン抽出回路46においても、水平ビッ
トパターン抽出回路45と同様に、入力された2値化画
像の図形情報の白、黒の連なり状態を垂直方向にl“、
10′″のとットバター/列として抽出する。計数回路
47は2進カウ/りの集積回路を用い構成し、入力され
た2値化画像の図形情報の白ビットの個数を計数する。
演算回路48は、NECIIμFD8085AD 等の
集積回路を用いて構成した演算装置で、水平ビットパタ
ーン抽出回路45. 垂直ビットパターン抽出回路46
.計数回路47の出力データをもとに、所定の演算処理
プログラムに従ってX、Y。
σテーブルの移動量を算出するようにしたものである。
次に本発明の動作を図面を参照して更に詳しく説明する
第5図は前述した水平ビットパターン抽出回路45、垂
直ビットパターン抽出回路46による水平ビットバター
y列、垂直ビットパターン列t−抽出する状態を表わし
たものである。垂直ビットパターン列の抽出方法として
1図中垂直ビットパター/クィンドク62の画家情報を
走査ライン方向(水平方向9図示Xw方向)の1走査線
ごとに白ビット(“l“〕の個数を計数して、その計数
値を規定値1例えばI垂直ビットパターンウィンドウ幅
に相当する画素数の1 / 2の値、と比較して。
規定値以上の場合を“1“、規定値未満の場合を0′″
として得られた“11 ato“のビットパターン列を
順次レジスタまたは、メモリ等に格納する。
次に、水平ビットパターン列の抽出方法として。
図中水平ビットパターンウィンドウ61の画1象情報t
″1ffi査線上の各ビットの走査順に対応した6各の
番地に存在する白ビット(“l“)全同一アドレス毎に
順次加算して行くことにより、各アドレス毎(垂直方向
9図示Yw方向)の白ビットの個数をめ、その個数を各
アドレス毎に規定値2例えばl水平ビットパターンウィ
ンドウ幅に相当する画素数の1/2の値と、比較して、
規定値以上の場合を“ビ、規定値未満の場合上“0“と
じて、順次レジスタまたはメモリ等に格納する。
図中、Pvsは1本発明にょシ抽出された垂直ビットパ
ターン列を示し、Phxは本発明により抽出された水平
ビットパターン列を示す。
第6図(a)、 (b)、 (C)は本実施例の動作説
明図で。
第6図(a)、 (C)は半導体ペレットが位置決めさ
れる −前の状態を示し、第6図(b)は半導体ペレッ
トが位置決めされた状態を示す。図中60 Fi1半導
体ベレットの2値化画慮、61は水平ビットパターンウ
ィンドウ、62は垂直ビットパターンウィンドウを表わ
し、63.64はウィンドウ全表わす。
またPviは垂直ビットパターン抽出回路46にて抽出
された垂直ビットパターン列、Phxは水平ビットパタ
ーン抽出凹路45にて抽出された水平ビットパターン列
をそれぞれ表わす。
次にb第6図18)、 lb、、 (C)t−もとに3
 ツOX f yプに分けて半導体ペレットの位置決め
方法について説明する。
山 水子ビットパターンウィンドウst内o画僚信号を
水平ビットパターン抽出回路45にて抽出した水平ビッ
トパターン列Pluの中心(図中he )の論理値(“
1″、“0″)と。
垂直ビットパターンウィンドウ62内の画家信号1−、
垂直ビットパターン抽出回路46にて抽出した垂直ビッ
トパターン列PYIの中心(図中ve )の論理値(1
”−”0”)の論理和をめる。そして、ヤの論理和か“
1″であれば、被位置決め対象となる半導体ペレットの
Imm倍信号一部分が水平ビットパターンウィンドウ6
1.垂直ビットパターンウィンドウ62の交点下に位置
してしるものと判定し、論理和が“0“であれば、水平
ビットパターンウィンドウ61と垂直ビットパター−ン
ウィンドウ62の交点下に半導体べVットの画家信号が
存在しないものと判定する。
(リ 論理和が“1“の場合は、抽出された水平。
垂直ビットパターン列の中心の論理値がl“と検出され
た方向のビットパターン列についてのみ、そのビットパ
ターン列の中心から両側に“1′″が連続して′0“に
変化するまでのl“の個数上計数して、白の連続長をめ
る。その連続長金第6図(a)に示すよう垂直ビットパ
ターン列Pvsではその中心Weから両側の白の連続長
iVu、Vdとし、また水平ビットパターン列Ptuで
はその中心り、から両側の白の連続長をHn−Ht、、
L−す入−rのVu、 Vd、 HR,Ht カラ、下
記演算式(1)(2)ICよシ、半導体ペレットの修正
移動量が算出される。
また、抽出されたビットパターン列の中心が0“と検出
された方向には、半導体ベレットが存在しないものと見
なし、前述したVu、 VdまたはHR,HAO値t″
o”とfる。
Yu −Vd lVMl=ヒーT−」 ・・・(1) n −Ht l HM l = 12−+ ・・・(2)なお、修正
移動方向については、VuとVdの値の大きい方、Ha
とHtの値の大きい方と定める。又、前記修正移動方向
を下記のように符号付けしておく。すなわちVuの方向
t−X+、Vd C)方向kX+、HRO方向tY+、
HLの方向t−Y−と符号付けする。
面 前述した演算式+IH2)によシ得られたIVMI
IHMIの値全下記(3)(4)式に基づ@vi、vz
と比較し平衡状態の有無を判定する。
l VM l < Yl =13) I HM l < VM −(4) 但し、Vl、VMは許容誤差の値となる例えば、l、2
. 3などの極力小サイ値で、l VM l。
IHMIがそれぞれVl、 V2以下の時は補正の処理
は行なわない。
+3)、 +4)式の関係式が2式とも満たされないと
きは、不平衡状態にあるものと見なし、(1)式(2)
弐にで得られft:、、 lVMl 、1HJf7)r
fik4とに位置補正上行なう。すなわち* (911
えば、第6図18)のような場合水平ビットパターン抽
出回路45にて、2値化画像信号の白、黒の連な夛状態
を抽出した水平ビットパターン列Pb1の中心り、から
両側臼の連続長jiHt、 =22、HR=17そして
、垂直ビットパターン抽出回路46にて2値化画像信号
の白、黒の連なり状態を抽出した垂直ビットパターン列
Pv1の中心Weから両側臼の連続長f V u=12
.Vd=27とすると。
IH,1=−J二11= 2.5 1 VM l = 41≦1i = 7. sとなり、
lHMl=2.5.lVMl=7.5とVl=l、v4
 =lと比較するとIHMIはVl より、又lVMl
はv2より大きいので不平衡状態と判定すtL、lHM
I=2.5. lVMl=7.5が修正移動量となる。
そして修正移動方向はHL >HR,Vd > Vu 
テj:+ルCとからY−。
X−の方向となる。
以上説明したような(1)、 (II)、 taの処理
を位置補正毎に繰り返し行ない、(3)、 (43式の
関係式が満だされた所をもって平衡状態に達したものと
し、位置決め終了か否かの判定のため Vt=Vu+Vd Hz=Hu+Hd 全算出する。前記Vt、 Htの値を下記の(5)、(
6)式からYa、Wb、 ha、 Thbと比較し、半
導体ペレットの位置決めの終了、未終了を判定する。
v @< V t < V b=・(5)h a (H
A < h b −(6)但しk %’ a 、 h 
aはベレット外形寸法より定まる垂直方向、水平方向の
最小値、vb、hbは、ベレットの傾き検出限界値から
定められる垂直方向。
水平方向の最大値で第6図(b)に示されたvb、 h
bである。
(5)、 (63式の関係が満たされたとき半導体ペレ
ットが位置決めされたものと判定され、第6図(b)の
よりな状態となる。
+5)、 (6)式の関係又は(3)、 14)式の平
衡条件が予め定められた処理回数、又は、一定の時間内
に完了しない場合は、半導体ペレットの位置決め不能と
判定し、隣接ベレットの位置にピッチ送シされる。
次に、第6図(C)の様に抽出された水平ビットバター
y列、垂直ビットパターン列の中心の論理値(“1′″
、O′″)の論理和か“0“の場合は、水平ピットパタ
ーン列P石の中心he と垂直ビットパターン列Pvl
の中心V6からそれぞれ両側のようにする。ノにおいて
、“0“(黒)から“I“(白)への変化点が存在する
方向のみを選択する。
そして、選択された各方向の内で、水平ビットパターン
列Ph1の中心he、および垂直ビットパターン列Pv
lの中心Veから“0“が連続して。
“l“に変化するまでの“0“の個数を計数して、その
計数値が最小値、言らなれば、黒の最短長を有する方向
を選定し、更に黒の最短長と、最初に“0“から“10
に変化した時までの“0“を加算して得られた値を修正
移動量として算出する。
この場合、同一長さの“0“の連続した最短長が2つ以
上存在するときは、優先順位の高い方に準じて一方向を
選択し、移動方向を定める。第6図に図示したX+→Y
−→X−→Y+の順にその優先度を定める。
以上のような処理に基づ8、第6図(C)の、様な場合
、位置補正すべき黒の最短長はX−の方向に存在し、算
出された修正移動量をもとに半導体ペレッl−に移動せ
しめると1図中位置決め対象となる半導体ベレットの端
(図示P)が、水平ビットパターンウィンドウ61と垂
直ビットパターンウィンドウ62の交点下に位置決めさ
れる。
このようにして、抽出された水平ビットパターン列、垂
直ビットバグ−7列の中心の論理匝(“1“、“0“)
の論理和が“0“の場合は、水平ビットパターンウィン
ドウ61と垂直ビットバター/ウィンドウ62の交点下
に、その交点よシ4方向の内で最短距離にある半導体ペ
レットの端が配置されるように半導体ペレッ)k移動さ
せた後、前述した水平ビットバター7列と、垂直ビット
パターン列の中心値の論理和がl“となるアルゴリズム
に従って、半導体ペレットの位置決めがなされる。
以上が本第1の発明の実施例の動作の説明であるが、本
第2の発明では第1の発明の処理を行なった後次の処理
を行なう。すなわち半導体ペレットの位置決めが終了し
たら、半導体ペレットの傾き量θを算出する。それは、
半導体ペレットが位置決めされたと@、半導体ペレット
慮の1辺に配置されるように第q図(b)に図示された
ウィンドウ63とウィンドウ64’に設定しておき、設
定されたウィンドウ63とウィンドウ64の領域内に占
める2値化画像の白ビット金計数回路45にて計数する
。今計数したウィンドウ63の白ビット計数値t″Sム
、ウィンドウ64の白ビツト計数値を8m、 第6図(
b)に示すようウィンドウ63とウィンドウ640間隔
tW、ウィンドウ63とウィンドウ64の縦の長さ’t
Hとすると、下記の計算式によシ、半導体ベレットの傾
き量0は算出される。
#=tOn”’退旦 但し、1el=18ムーSBl なお、傾き方向十〇、−〇はSAとSBの大小によシ判
定され、8A>8a の場合+〇、SA <88の場合
−〇となる。
〔発明の効果〕
以上説明したように2本第1の発明によれば、半導体ペ
レットの位置を検出で@1本第2の発明によると半導体
ベレット列の傾き量も検出され。
検出された量をもとに、位置と傾きの補正を施すことに
より、作業者にとって煩しかった半導体ペレットの位置
決め、更にはペレット列の傾きの調整が容易に達成でき
るすぐれた効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図、第2図は従来の方式による位置決め時のマスク
配置の説明図、第3図は半導体ペレットとマスクの配置
が不適切である為誤った位置決めがなされることを説明
した図、第4図は本発明の一実施例の構成図、第5図は
水平ビットパターン列と垂直ビットパターン列と全説明
する説明図、第6図(a)、 (C)は本発明において
半導体ペレットが位置決めされる前の状態を示した説明
図、第6図(b)はI半導体ペレットが位置決めされた
状態を示した説明図である。 42・・・・・・水平ビットパターンウィンドウ回路。 43・・・・・・垂直ビットパターンウィンドウ回路、
44・・・・・・マスク回路、45・・・・・・水平ビ
ットパターン抽出回路、46・・・・・・垂直ビットパ
ターン抽出回路、47・・・・・・カウンタ回路、48
・・・・・・論理演算回路、10.60・・・・・・ペ
レッ)像、61・旧・・水平ビットパターンウィンドウ
、62・旧・・垂直ピットバターンウィンドウ、Pvl
・・・・・・垂直ビ、ソトバター7列、 Phx・・・
・・・水平ビットパターン列、We ・・・・・・垂直
ビットパターン列の中心、he−・・・・・水平ビット
パターン列の中心、 U、D、几、b・・・・・・粗位
置決め用マスク、 A、B、 C,D、E、F・・・・
・・精密位置決め用マスク。 v・5回 )t h回

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1) マトリックス状に配列された半導体ペレットを
    撮像する撮像装置と、該撮U装置よりのアナログ映像信
    号を所定の閾値にて2値化画像信号に変換する2値化回
    路と、互に直交しそ9中心が一致するよう配置され2@
    化された画像信号の限定された領域内の白及び黒の連な
    夕状態を水平方向と垂直方向にそれぞれ抽出するための
    水平ビットバター/ウィンドウと垂直ビットバター/ウ
    ィンドウと、該垂直ビットパターンウィンドウ内の白お
    よび黒の画像信号の連なル状態を垂直方向に2値(l“
    、0“)の連続パターンとして検出するための垂直ビッ
    トパターン抽出回路と、前、記水平デッドパターンウィ
    ンドウ内の画像信号の白および黒の画像の連なり状態を
    水平方向に2値(“l“、0“)の連続パターンとして
    検出するための水平ビットパターン抽出回路と、前記水
    平および垂直ビットパターン抽出回路により得られた画
    像信号をもとに所定の演算処理を行なう演算処理回路と
    t含む仁と11−特徴とする!P導体ベレットの位置検
    出装置。
  2. (2) マトリックス状に配列された半導体ペレットを
    撮像する撮像装置と、撮像装置よりのアナログ映像信号
    を所定の閾値にて2値化画像信号に変換する2値化回路
    と、互に直交しその中心が一致するよう配置され2値化
    された画像信号の限定された領域内の白及び黒の連なり
    状態全水平方向と垂直方向にそれぞれ抽出するための水
    平ビットパターンウィンドウと垂直ビットパターンウィ
    ンドウと、前記垂直ビットパターンウィンドウ内の白お
    よび黒の画像信号の連なり状態を垂直方向に2値(1“
    、“θ″)の連続パター/として検出するための垂直ビ
    ットパターン抽出回路と、前記水平ビットパターンウイ
    ンドウ内の画像信号の白および黒の画像の連なり状態を
    水平方向に2値(“l”、0“ンの連続パターンとして
    検出するための水平ビットパターン抽出回路と、前記水
    平ビットノくターンウィンドウと垂直ビットパターンウ
    ィンドウの交点と半導体ペレットの二値化画像中心が位
    置合わせされた時に該半導体ペレットの二値化画像の一
    辺上に位置するよう配置された複数個のウィンドウと、
    該複数個のウィンドウ内のそれぞれの白ビット計数値?
    得る計数回路と、前記水平および垂直ビットパターン抽
    出回路および計数回路により得られた画像信号ケもとに
    所定の演算処理全行なう演算処理回路と金含むことt−
    特徴とする半導体ペレットの位置検出装置。
JP18477583A 1983-10-03 1983-10-03 半導体ペレツトの位置検出装置 Pending JPS6076137A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP18477583A JPS6076137A (ja) 1983-10-03 1983-10-03 半導体ペレツトの位置検出装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP18477583A JPS6076137A (ja) 1983-10-03 1983-10-03 半導体ペレツトの位置検出装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS6076137A true JPS6076137A (ja) 1985-04-30

Family

ID=16159089

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP18477583A Pending JPS6076137A (ja) 1983-10-03 1983-10-03 半導体ペレツトの位置検出装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS6076137A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62210638A (ja) * 1986-03-11 1987-09-16 Fujitsu Ltd チツプ位置認識方法
JPS6356934A (ja) * 1986-08-28 1988-03-11 Nikon Corp アライメント装置
JPH05259262A (ja) * 1992-03-11 1993-10-08 Nec Corp 半導体ペレット配列状態の検出装置

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS538061A (en) * 1976-07-09 1978-01-25 Mitsubishi Electric Corp Automatic positioning apparatus of articles
JPS54105470A (en) * 1978-02-06 1979-08-18 Matsushita Electric Ind Co Ltd Automatic wire bonding unit

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS538061A (en) * 1976-07-09 1978-01-25 Mitsubishi Electric Corp Automatic positioning apparatus of articles
JPS54105470A (en) * 1978-02-06 1979-08-18 Matsushita Electric Ind Co Ltd Automatic wire bonding unit

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62210638A (ja) * 1986-03-11 1987-09-16 Fujitsu Ltd チツプ位置認識方法
JPS6356934A (ja) * 1986-08-28 1988-03-11 Nikon Corp アライメント装置
JPH05259262A (ja) * 1992-03-11 1993-10-08 Nec Corp 半導体ペレット配列状態の検出装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US8144255B2 (en) Still subtitle detection apparatus and image processing method therefor
US4736443A (en) Pattern discriminator
US11521327B2 (en) Detection target positioning device, detection target positioning method, and sight tracking device
CN102595061A (zh) 图像处理装置、图像处理方法和程序
US9779477B2 (en) Image enlarging apparatus, image enlarging method, surveillance camera, program and recording medium
EP0468652B1 (en) Image processing apparatus and method
JPH10198809A (ja) 輪郭線トレーシング方法
US4628533A (en) Pattern recognition apparatus
JP4659793B2 (ja) 画像処理装置及び画像処理方法
JPS6076137A (ja) 半導体ペレツトの位置検出装置
US4866783A (en) System for detecting edge of image
US7532773B2 (en) Directional interpolation method and device for increasing resolution of an image
US10404936B2 (en) Method and apparatus for processing video signal
US20080165277A1 (en) Systems and Methods for Deinterlacing Video Data
US6181437B1 (en) Image processing apparatus capable of producing images without jaggies at edges
EP2261855A1 (en) Detection of non-uniform spatial scaling of an image
JPH04309078A (ja) ビデオデータの動き検出装置および方法
US20120106648A1 (en) Image processing device and video reproducing device
US7215380B2 (en) Method for detecting video frame types with median filtering
JP6467940B2 (ja) 画像処理装置、画像処理方法及びプログラム
US11195251B1 (en) Image processing apparatus and method capable of rapidly determining bounding box for motion objects without iteration
US8358850B2 (en) Determination method of edge direction
WO2019066642A2 (en) SYSTEM AND METHOD FOR DETECTION OF LICENSE PLATE
JPH07200830A (ja) 欠陥検査装置
CN110647866B (zh) 一种检测文字笔画的方法