JPS6067929A - 高温物体表面撮像法および装置 - Google Patents

高温物体表面撮像法および装置

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JPS6067929A
JPS6067929A JP58176748A JP17674883A JPS6067929A JP S6067929 A JPS6067929 A JP S6067929A JP 58176748 A JP58176748 A JP 58176748A JP 17674883 A JP17674883 A JP 17674883A JP S6067929 A JPS6067929 A JP S6067929A
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speed optical
image
temperature
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Jiro Ono
二郎 大野
Hirokatsu Yashiro
弘克 矢代
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、高温物体載面撮像法および装置に関し、例え
ば高炉炉内の燃焼状態、溶銑とスラグの状態の観察、燃
焼炉バーナーの燃焼過程、加熱炉中の鋼片、熱間圧延中
の鋼片の表面状態の変化等、各種産業における高温状態
にある物体、あるいはその表面状態の観察を行うために
好適なものである。
(従来技術) 燃焼炎中のすすなどの微小粒子や高温に加熱された物体
の表面状態などを精密に観察する必要がある場合、通常
の自発光による像では赤熱像しか得ることができないの
で、観察しようとする物体の輪郭が識別できる程度に過
ぎない。また周囲温度が特に高温で雰囲気全体が均熱に
近い状態では物体の輪郭を識別することすら困難である
。このような場合、外部から強力な光を物体表面に投光
して反射光から物体表面を観察することが行われている
。しかしながら輻射による背光雑音が多く正確な観察を
行うことができない。
(発IJJJの目的) 本発明は高炉炉内の燃焼状態、溶銑とスラグの状態の観
察、燃焼炉バーナー、加熱炉中の鋼片、熱間圧延中の次
面状態等における燃焼炎中のすすなどの微小粒子や加熱
高温物体の表面状態を精密に観測することを目的とする
ものである。
(発明の構成、作用) すなわち本発明は、高温発熱物体の表面に、基本波およ
びその高調波からなる二種の単色光のパルスを照射し、
その反射光を二種の単色光のみを透過する干渉フィルタ
および高速光スイッチを通過させて背光を除去し、反射
光のパルスのみを取出し、画像発生機構に導き画像に変
換させ、またあるいはこの際、高速光スイッチの印刀U
電圧を制御することにより三波長の混色比を調節するこ
とによシ高温物体表面の撮像を行なう。
以下図面によ・シ本発明の詳細な説明する。
第1図は本発明を実施する装置の説明図で1はパルス光
発生装置例えばYAGレーザで、基本波である1、06
μmの波長の他に第2高調波である0、53μmの波長
のビームパルスを発生させる高調波発生装置を付設しで
ある。従って基本波と@2高調波が同程度のエネルギー
強度になっている混色ビームパルスが放射さ′れる。2
は該ビームパルスのビーム径を拡げるためのビームエキ
スパンダーである。3線バーナーの火焔のような高温発
熱物体である。4は該高温発熱物体3で反射したビーム
パルスを集光する集光レンズである。また該集光レンズ
4の後方にはハーフミラ−5、干渉フィklX−6,2
&の平面ミ2−7、ボックルスセルを用いた高速光スイ
ッチ8、アナライザー9、ITVカメラ等の画像発生機
構10等が配設されている。11はハーフミラ−5の分
岐光を受光する光ダイオード、12は該ダイオードから
の信号により高速光スイッチ8への印加電圧を発生させ
るドライバーである。
本発明によシ高温発熱物体、例えばバーナーの火焔を撮
像観察するには前記のようにパルス光発生装f[flと
して高調波発生装置付のYAGレーザーを用い、例えば
1.−06μmの波長と0.53μmの波長からなる二
種の単色光のパルスを発生させ、ビームエキスパンダー
2を介して高温発熱物体3に投射すると、該パルス光は
高温発熱物体3で反射する。一方高温発熱物体3がらも
発光するので、前記反射光およびそれに重畳された自発
光が集光レンズ4に至シ、細径ビームに絞シ込まれ、ハ
ーフミラ−5を経て、さらに前記の三波長のみを透過す
る特性をもつ干渉フィルター6によって背景雑音となる
自発光が除去されて三波長の光のみとなり、平面ミラー
7によシ直線偏光とされて1冑速光スイツチ8に導入す
る。一方この高速光スイッチには、反射パルス光をハー
フミラ−5にょシ分岐した光を受光して信号を出力する
光ダイオード11からの信号によシ作動するドライバー
12で発生した高電圧が印加され、゛その結果該印加時
間だけ高速光スイッチ8が開かれる。従ってこのとき高
速光スイッチ8を通過したパルス光はアナライザー9を
経てITV等の画像発生機構ioに至ジ画像に変換され
るので、該画像を観摂することによシ高温発熱物体3の
表面状態を視認することができる。
ここで本発明の詳細な説明する。パルス光発生装置1と
してYAGレーザーを使用した場合、前記のようにその
基本波は1.06μmでめル、また付設する高調波発生
装置から発生する第2高調波は0.53μmであるので
、この混色ビームが高温発熱物体3に投射される。これ
に対し3000 ’にの黒体放射の示すスペクトル分散
は比較的広い分布を示す(第2図参照)。従って高温発
熱物体3からのビームはレーザービームの反射光と、高
温発熱物体3からの放射光が重量されたものになってい
る。一方干渉フイルター6は干渉膜の設計を適切に行う
と0,53μmと1.06μmの光を同時に透過させる
二波長透過フィルターを作ることができる。第3図はこ
のようにして作った二波長透過金属蒸着膜干#フィルタ
ーの特性を示すものでちる・そこで前記レーザ7ピーム
の反射光と高温発熱物体3の自発光とを該干渉フィルタ
ーに導入すると、該フィルター6を透過した光は二波長
のみの波長成分となシ、背景雑音となる自発光のエネル
ギーを大幅に減少させることが可能となる。
ここで高速光スイッチの作用について説明する。
パルス光発生装置として半値幅10 n+s 、出力5
MWのジャイアントパルス光を発生するYAGレーザー
を用いた。高速光スイッチ8はこのパルス光がスイッチ
に到達した瞬間のみ光を透過させ、その他の時間は不透
明状態にする。従ってパルス光が高速光スイッチ8に到
達する時刻に同期してドライバー12から高速光スイッ
チ8に電圧を印加しなければならない。一方真空中の光
は10nsで3m進行する。従って高温発熱物体3の位
置が変化すると高速光スイッチ8にパルス光が到達する
時間が変化するのでドライバー12からの印加電圧の発
生タイミングも変化させなければならない。ところが高
温発熱物体3の位置は自由に変化し得るので、この影響
を受けないスイッチ開閉方法が必要となる。そこで本発
明においては前記のように、高温発熱物体3による反射
光の一部をハーフミラ−5で取出し、光ダイオードll
に導入させ、該光ダイオード11に信号を発生させ、ド
ライバー12に伝送し、該ドライバー12に高速光スイ
テへの印加電圧を発生させる。このとき、元ダイオード
11が受光してから印加電圧発生までの時間遅れは25
nm:f:Insであシ、従ってバー7ミ2−5と高速
光スイッチ8の間隔はこの遅れ時間の間に進む光の距離
、すなわち7.5mにとることになる。しかしこの間隔
はハーフミラ−5と干渉フィルター6との間に平面ミ2
−7を配置し、多重反射を起させるか、あるいはイメー
ジファイバーを配置してコイル状に束ねる等の方法で見
掛けの間隔を短縮することも可能である。
次に高速光スイッチ8に印加する電圧を変化させる作用
について説明する。光スイッチにはボックルスセルを用
いるが、ポックルスセルへの印加電圧を変化させると透
過光の偏光面が回転する性質を利用して、三波長光の強
度比を変化させることができる。第4図は高速光スイッ
チ8の後方に位置させたアナライザー9を透過した2波
長光の強度と高速光スイッチ8の印加電圧の関係を示す
ものである。この図から明らかなように印加電圧を1.
5 K Vから3KVの間で変化させると、2波長の混
色比が変化する。すなわち電圧を上げると1.06μm
光の割合が増加し、逆に0.53μm光の割合が減少す
る。このように混色比を変化させると測定対象の反射像
を鮮明化することができる。混色比と映像の鮮明度との
関係は一般的に表わすことはできないが、混色比を変化
させることは鮮明な像を得るために効果的であるばかシ
でなく、2色の映像を別々に測定し、力2−合成して擬
似カラー像を得て特定物質のみの像を強調して得ること
本できる。第5図は溶銑と溶滓の分光反射率曲線を示す
ものであるが、このように物質が混在している対象を測
定する場合、例えば溶銑の像を強調するときには印加電
圧を下げて0,53μm光成分を増加させ、また溶滓の
像を強調するときには印加電圧を上げて1.06μm光
成分を増加させればよい。
(実施例) 次に本発明を高炉炉内状況観察に用いた例を示す。
YAGレーザー光を、水冷したプローブに内蔵し7た光
ガイドチューブを通して高炉燃焼帯に投光した。光ガイ
ドチューブは銅パイプ内面を銀メッキして高反射率とな
るように処理した。高炉ffi焼帯で反射した光を水冷
グローブに内蔵した光7アイバーを通して炉外に導きフ
ィルター検光子、光スィッチを介して画像発生機構で受
光する。このようにして燃焼帯を観察したところ、従来
全く検知できなかった微粉コークス溶銑、溶滓の飛沫を
鮮明に観測することができた。このとき高速光スイッチ
8への印加電圧1.5KV、、溶滓の場合3.OKV微
粉コークスの場合2.5KVが最適であった。このよう
に設定すると、溶銑、溶滓の小粒子が高輝度で観察でき
る。コークスは相対的に輝度は低くなるが、■TVの受
光輝度を調節すると外径形状のみならず破断面の観察が
可能である。
(発明の効果) 以上説明したように本発明によれば例えば燃焼バーナー
等の火焔中に発生したすすの細密な静止像や、加熱炉内
の鋼片の表面状態あるいは溶銑と溶滓の状態その他の種
々の高温対象の映像を得ることができ、その結果、細か
い輪郭、表面の凹凸その他精密な観察することができる
【図面の簡単な説明】
第1図は本発8Aを実画する装置の説明図、第2図はY
AGレーザーを使用した場合の波長とエネルギー強度と
の関係を黒体放射とともに示す説明図、第3図は本発明
に使用する二波長透過金属蒸着膜干渉フィルターの特性
を示す説明図、第4図は本発明に使用する高速光スイッ
チの印加電圧とアナライザーの出力の関係を示す説明図
、第5図は溶銑と溶滓の分光反射曲線を示す説明図であ
る。 1:パルス光1[置、2 :ビームエキスパンダー、3
:高温発熱物体、4:集光レンズ、5:ハーフミラ−,
6:干渉フィルター、7:平面ミラー、8:高速光スイ
ッチ、9:アナライザー、lO:画像発生機構、11:
光ダイオード、12: ドライバー。 出願人 新日本製鐵株式会社 代理人弁理士 青 柳 稔 第21ffi 第3図 110 透1011 ゜i’、’=F”j ず。J Hi 窒 I 、警101°専1 1 r 、−#−、、U 7a4t h第4図 第5図 破畏(/IJm) 手続補正書(自発) 昭和59年 8月28 日 1、参件の表示 咄本1158年特許順第176748号2、発明の名称 高温、暖本表面虚像法および装置 3、補正tする者 11粁との関1糸 荷許出願人 住 所 来ボ都千代田区大手町二丁目6着3号名称 (
665)新日本喪減株式会社 代表者 武 1) 豊 4、代 理 人 −?101 5、補正命令の日付 なし 6、補正により Jl!刀口する発明の故 なし7、補
正の討幕 明細Jの発明の詳細な説明の欄および図面の
簡単な説明の欄 (1)明細書第5貞6行、第6頁6行、第9頁4行およ
び第12頁10行〜11−行の「平面ミラー」を「偏光
子」に補正する。 (2)同第1O頁19行〜第11頁11行の「高炉燃焼
帯〜可能である。」を次の様に補正する。 「 高炉燃焼帯で反射した光を水冷プローブに内蔵した
光ファイバーを通して炉外に導き、フィルター、偏光子
、光スィッチ、アナライザーを丙・シて画像発生機構で
受光する。このようにして燃焼帯を観察したところ、従
来技術ではりζ熱した塊コークスの輪郭が見える程度で
あったのに対し、本発明においては、以下に述べるよう
な全く新しい情報が得られた。すなわち、元スイッチへ
の印ガロ′成圧を2.5KVにしたところ、コークスの
像が鮮明となり、塊コークスは勿論、燃焼帯を舞ってい
る微粉コークスの様子も明瞭に観察できた。 また光スィッチへの印加電圧を1.5 K Vとしたと
ころ、0.53μmの反射光が強くなった。このとき得
られた像は溶銑が強調されておシ、相対的にコークス、
溶滓の輝度が小さくなった。 この像から溶銑がコークスの間に分布していることがわ
かった。 さらに光スィッチへの印加電圧を3.0 K Vとした
ところ、1.06μmの反射光が強くなp1溶滓を強調
した一稼が得られた。この像により燃焼帯の上方に溶滓
が吹き上げられている様子を具さに観察することができ
た。 このように単に光スィッチに印加する電圧を変化させる
だけで、異質の像が得られ、燃焼帯等の尚温状態におけ
るコークス、浴銑、溶滓の状態を識別し、それらの分布
ki1祭することができた。」

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)高温発熱物体の表面に、基本波およびその高調波
    からなる二種の単色光のパルスを照射し、その反射光を
    二種の単色光のみを透過する干渉フィルタおよび高速光
    ス、イッテを通過させて背光を除去し、反射光のパルス
    のみを取出し、画像発生機構に導き画像に変換式せるこ
    とを特徴とする高温物体表面撮像法。
  2. (2)高温発熱物体の表面に、基本波およびその高調波
    からなる二種の単色光のパルスを照射し、その反射光を
    二種の単色光の与を透過する干渉フィルタおよび高速光
    スイッチを通過させて背光を除去し、反射光のパルスの
    みを取出し、画像発生機構に導き画像に変換させるとと
    もに、高速光スイッチの印加電圧を制御することによシ
    ニ波長の混色比を調節することを特徴とする高温物体表
    面撮像法。
  3. (3)高速光スイッチへの印加電圧を駆動するトリガー
    パルスを該スイッチの前方に設置した光ダイオードから
    得ることによシ、測定物体の距離と無関係に反射光パル
    スが高速光スイッチ前面に到達したときに、該高速光ス
    イッチを透過状態にすることを特徴とする特許請求の範
    囲第2項記載の高速物体表面撮像法。
  4. (4)高温発熱物体に対向してパルス光発生装置を設け
    、かつその反射光軸上に干渉フィルタ、・・−7ミラー
    、高速光スイッチ、画像発生機構を配置したことを特徴
    とする高温物体表面撮像装置。
  5. (5)ハーフミラ−による分岐光の光軸上に光ダイオー
    ドを設け、核ダイオードを高速スイッチの駆動機構に接
    続したことを特徴とする特W[請求の範囲第4項記載の
    高温物体表面撮像装置。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009060162A (ja) * 2007-08-29 2009-03-19 Fujikura Ltd 物体の撮影方法及び装置

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6954545B2 (en) * 1999-02-26 2005-10-11 Conocophillips Company Use of a scanner to determine the optical density of calcined coke as a measure of coke quality
US6859285B1 (en) 1999-08-31 2005-02-22 Og Technologies, Inc. Optical observation device and method for observing articles at elevated temperatures
US6351580B1 (en) 2000-03-27 2002-02-26 Jds Uniphase Corporation Microelectromechanical devices having brake assemblies therein to control movement of optical shutters and other movable elements
US6809820B2 (en) * 2002-04-18 2004-10-26 National Research Council Of Canada Small particle analysis by laser induced incandescence
CN111473864B (zh) * 2020-05-26 2021-05-28 中国人民解放军国防科技大学 基于均匀光源的火焰激发态粒子辐射速率测量方法

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5574527A (en) * 1978-11-30 1980-06-05 Toshiba Corp Underwater photographing device
JPS5721711A (en) * 1980-07-12 1982-02-04 Sumitomo Metal Ind Ltd Treating method of excess sludge from activated sludge and waste water treatment facilities

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL280130A (ja) * 1961-06-26
GB1421950A (en) * 1973-07-20 1976-01-21 Carves Simon Ltd Discharge from hoppers
US4129780A (en) * 1977-06-21 1978-12-12 Varo, Inc. Active imaging system using time programmed dwell
US4306151A (en) * 1978-02-03 1981-12-15 Measurex Corporation Method of measuring the amount of substance associated with a material in the presence of a contaminant
US4338030A (en) * 1978-06-26 1982-07-06 Loos Hendricus G Dispersive instrument for measurement of particle size distributions
JPS5697851A (en) * 1979-12-31 1981-08-06 Seiichi Okuhara Device identifying content components of molten metal

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5574527A (en) * 1978-11-30 1980-06-05 Toshiba Corp Underwater photographing device
JPS5721711A (en) * 1980-07-12 1982-02-04 Sumitomo Metal Ind Ltd Treating method of excess sludge from activated sludge and waste water treatment facilities

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009060162A (ja) * 2007-08-29 2009-03-19 Fujikura Ltd 物体の撮影方法及び装置

Also Published As

Publication number Publication date
EP0138412B1 (en) 1989-05-31
EP0138412A2 (en) 1985-04-24
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EP0138412A3 (en) 1986-02-19
DE3478503D1 (en) 1989-07-06

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