JPS6065094A - 噴流層石炭ガス化炉 - Google Patents

噴流層石炭ガス化炉

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JPS6065094A
JPS6065094A JP17216583A JP17216583A JPS6065094A JP S6065094 A JPS6065094 A JP S6065094A JP 17216583 A JP17216583 A JP 17216583A JP 17216583 A JP17216583 A JP 17216583A JP S6065094 A JPS6065094 A JP S6065094A
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char
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、噴流層石炭ガス化炉に係り、特にガス化効率
が高く、かつ信頼性の高いガス化炉に関するものである
噴流層型のガス化炉は、第1図ないし第4図に示すよう
に各種のものが知られているが、下記のような欠点を有
している。すなわち、第1図および第2図は、炉内に石
炭供給バーナ2を対向配置したものであるが、この炉で
は、ガス化炉本体1に石炭および酸素が供給され、バー
ナ火炎3が生成され、生成ガスは、ガス流れ4に示すご
とく、炉全体にひろがって上昇する。供給された石炭も
矢印のようにバーナ火炎からその直上に上昇し、粒子滞
留時間が短かくなる。さらに絞り部がないため、ガスは
炉全体に均等に流れ、高温化したスラグ(アンシュ、灰
分)がガス化炉本体の水冷壁(メンブレンウオール)に
付着しやすくなる。また第1図に示すように、バーナを
多段に配置しても、上下バーナ共に同一の酸素、石炭量
であるために、スラグタップ11部の温度が上昇せずに
、スラグがクンブ部で固化を生ずるという欠点がある。
第3図は、第1図においてバーナを旋回方向に配置した
例を示すものであるが、旋回によりガス−粒子の滞留時
間はやや大きくなるが、上部に絞り部がないために、ス
ラグの付着や粒子の反転等の現象がなく、滞留時間の大
幅な向上はみられない。
第4図は炉頂部にバーナ2を備えたガス化炉本体1に耐
火材8を内張すしたガス化炉本体の頂部に下向きのバー
ナ2を設けたいわゆるTEXACO炉の概念図を示した
ものであるが、この炉ではバーナ火炎による輻射熱によ
り石炭の溶融スラグが耐火材表面に付着するという欠点
がある。さらに耐火材を強制的に冷却していないために
、耐火材表面温度は常に高温にさらされ、その上付着し
たスラグの温度が高いため、固化することなく耐火材を
侵食し、耐火材の破損、剥離等を生じ、運転停止に到る
という問題がある。
本発明の目的は、石炭と酸素を含む原料の炉内滞留時間
が長く、かつガス化効率の高い噴流層石炭ガス化炉を提
供することにある。
本発明は、異径の旋回流および絞り部の設置、さらにバ
ーナの酸素量を変えることにより、高効率のガス化なら
びにスラグの通切な抜き出しを可能にし、また高温のガ
ス化部の耐火材に強制冷却の水冷壁(熱回収壁)を設置
することにより、耐火材の損傷を防止し、高効率で信頼
性の高い噴流層ガス化炉を提供するものである。
すなわち、本発明は、ガス化部およびその上部にガス冷
却部を有し、該ガス化部に石炭と酸素の混合流体を旋回
方向に供給するバーナが多段配置された噴流層石炭ガス
化炉において、該ガス化部とガス冷却部を絞り部によっ
て区分するとともに、前記バーナを仮想円形の相違する
少なくとも2段に配置し、かつ該各段バーナの酸素供給
量を可変にしたことを特徴とする。
以下、本発明を図面によりさらに詳細に説明する。
第5図は、本発明の2段噴流層石炭ガス化炉の基本的原
理を示す模式図であり、第6図は、炉内温度分布と燃焼
およびガス化反応を示した図である。炉内で起こる反応
は下式で示される。
石炭(C,H,0)−C(、チャー)、C01H2、C
H4、C2等 (1) C(チャー)+02−Co (2) C(チ+−) +02−COz (3)C(チャー)+
co2+H20−4CO+H2(4)(1)式は熱分解
反応、〈2)式は部分燃焼反応、(3)式は燃焼反応、
(4)式はガス化反応である。
炉上部では主に(1)式、および(4)式の反応が、炉
下部では(2)式および(3)式の反応が起こるものと
思われる。
このようなガス化炉では、(a)炉内の反応領域を分割
し、(b)低酸素で微粉炭が反応して生成したチャーと
、高温のCO2、H20とを効率よく接触させ、(c)
チャーのガス化反応を十分に進めるのに必要な滞留時間
を確保することが重要な課題である。このため本発明で
は、(a)に対してはバーナを上下各段に配置し、(b
)、(C)に対しては、炉内ガス化部出口径を炉径に比
べ細くした絞り構造とし、かつ各段バーナの流れが旋回
流を形成するようにして上段バーナで生成したチャーを
下段に移動させ、下段の高温ガスとの接触を向上させる
と同時にチャーの炉内滞留時間を増大させている。
またバーナを上下に配置した2段反応型噴流層石炭ガス
化炉におけるガス流れおよび粒子滞留時間に及ぼす炉構
造の影響をコールドモデルを用いて調べたところ、上段
バーナから下段バーナの仮想円径を大きくした異径仮想
円構造によってガス下降流が生じること、上段バーナを
炉底と炉出口の中間の高さに配置することによってガス
下降流は上段バーナと炉出口の間にも生じること、炉ガ
ス化部出口径を炉径より小さくした絞り構造によって、
該出口付近の周方向速度が大きくなり粒子に強い壁向き
の力が加わることがわかり、これらの点から、2段反応
型噴流層ガス化炉の構造では、壁側に下降流の形成によ
り粒子滞留時間を増大せしめる絞り異径仮想円構造が適
していることが明らかになった。
第7図は、上述の原理のもとに構成された本発明の噴流
層ガス化炉の一実施例を示す図、第8図および第9図は
、それぞれ第7図の上段バーナおよび下段バーナ付近の
断面を示す図である。
このガス化炉は、スラグタンプロ11を底部に有するガ
ス化部19、絞り部16によっtガス化部16と区分さ
れた上方のガス冷却部(熱回収部)18、上段バーナ1
2、下段バーナ13、および耐火材被覆水冷壁15から
主として構成される。
上記構成において、ガス化の原料がある石炭および酸素
は上段および下段バーナ12および13からガス化部1
9に投入される。バーナ12および13は第6図、第7
図に示すごとく、各々相違した仮想円17および20を
形成するように旋回方向に吹き込まれる。上段バーナ1
2の仮想円17は絞り部16に近いため、絞り部径16
より広く、ガス化部19の水冷壁15の径より小さい径
をとり、また第10図に示すように、バーナ角度23を
零か下向きにO〜20°の範囲に配置される。
すなわち、上部バーナ仮想円径D1、絞り部径d1、ガ
ス化部径りの関係は、D>D+ >d+の関係となる。
上段バーナ12がら吹き込まれた石炭と酸素を含むガス
は遠心力により旋回し、石炭を伴って下向きに回転しな
がら下りていくが、回転力により中心部22は外側部2
1に比べて負の圧力となり、回転力が弱くなった点から
上昇流となる。なお、上段バーナの仮想円が絞り径より
小さい場合は下段バーナからの流れによりショートパス
し、回転しながら絞り部16へ入るので好ましくない。
第11図は、下段バーナ13の燃焼状態を示したもので
あるが、下段バーナ仮想円2oの径D2は、下部のスラ
グタンプロ径焼の径d2よりも大きい径となるように設
定される。これは石炭粒子がタップ口から落ちるのを防
止するためである。下段バーナ13は、酸素量が上段バ
ーナより多くなるように設定され、また滞留時間が長く
なるように下方に位置しているので、スラグが停滞する
スラグタンプロ11を加熱し、スラグ流下を助長させる
。さらに下段バーナの仮想円20は、上段バーナで生じ
たより反応性の活性チャーを下部バーナで発生した高温
ガスと早急に混合させるために、第11図に示したよう
に、ガスの上昇流径とほぼ同一径の仮想円とすることが
好ましい。すなわち、上昇流径は絞り部径d、とほぼ同
一かまたは若干大きくなるように設定することが好まし
い。このような絞り部径d1、下段バーナの仮想円径D
2、スラグタンプロ径d2の関係を式で示せば下記のよ
うになる。
dにD2〉d2 第12図は、上段バーナ仮想円(D+)とガス化部径(
D)との比と粒子の滞留時間との関係を示したものであ
るが、上記のように下段および上段バーナの仮想円を設
定することにより、第12図のAに示すように、粒子の
滞留時間は、ガス化部でのピストンフロ一時(Bで示す
)にくらべて1.5〜3倍程度となる。また、この図か
ら上部バーナ仮想円(D+)とガス化部径(D)の比(
P+/D)は0.3〜0.8が好ましいことがわかる。
さらに絞り部径(dl)とガス化部径(D)の比の滞留
時間への効果を第13図に示すが、この結果から、絞り
部径(dl)はガス化部径(D)の0.2〜0.7程度
の範囲が好ましいことがわかる。
但し、これらの場合、絞り部径(dl)はD+より小さ
く、下段バーナ仮想円(D2)は前述のように設定され
る。
次に上下段バーナの酸素量を変えた場合、トータルの石
炭と酸素の重量比は、噴流層ガス化では酸素/石炭=0
.6〜1.4程度であり、上下段同一の比率に設定して
もよいが、上段バーナで酸素量を少なくし、火炎温度1
000〜1300℃程度でガス化して活性チャーを生成
させ、一方、下部バーナへは酸素を多めに供給し、温度
を1200〜2400℃程度にすることにより、石炭を
高温でガス化し、C02、H2Oを多く含んだガスとす
ることが好ましい。この場合、下段バーナで生成した高
温ガスは前述のように上段バーナで発生した反応性のよ
いチャーと混合し、活性ナヤー+CO2+H20−CO
+H2(前述の(4)式)等の反応をおこし、効率向上
をはかることができる。
第14図は、低温(1000〜1300°C)および高
@(1500〜2400℃)で生成したチャーの反応性
を調べた結果を示すものである。図中、Cは上段バ=す
のチャー、Dは下段バーナのチャーの各場合を示す。図
のように低温生成チャーである上段バーナのチャーCの
方が高温生成チャーである下段バーナチャーDよりも反
応性がよいことがわかる。これは低温により生成したチ
ャーは多孔質(電子顕微鏡写真で確認された)であるた
めと思われる。上記のような結果から上段バーナは酸素
/石炭比(重量比)−0,3〜0,8、下段バーナの酸
素/石炭比−0,6〜1.4の範囲がカーボンガス化率
の点で特に効果があることがわかった。
第15図は、本発明のように2段で上下段バーナの仮想
円径を変化させて石炭を旋回方向に供給し、さらに絞り
部を設置し、酸素量をかえた本発明の場合Eと、従来の
単段バーナの場合Fのカーボンガス化率(ガスとして発
生するカーボン量/石炭中のカーボン量)および冷ガス
効率を比較したものである。図から明らかなように、本
発明方法ではカーボンガス化率、冷ガス効率共に5%以
上の効率向上が見られる。またこの場合、スラノグタッ
プロからのスラグ排出も非常に円滑に行われることがわ
かった。
本発明において、炉のガス化部は高aL(12゜0〜2
500℃)になり、石炭中の灰分が溶融して腐食性のス
ラグを生成する。このように石炭中の灰分がスラグ化す
れば、ガス化効率(カーボンガス化率)は向上するが、
反面、炉壁の腐食が問題になる。すなわち、第16図は
、従来の耐火材内張のみの場合の炉壁の温度分布カーブ
を示したものであるが、耐火材25は外側の断熱材24
によって断熱されるため常に高温状態にあり、スラグ2
6は耐火材25の表面温度3oが高温(30)になるた
め、固体化することなく常に液化状態となる。このため
耐火材は内外共に高温(12゜0〜2500°C)とな
り、液状スラグの侵食をうけ、腐食が進行しやすくなる
。このため、本発明では、高温となるガス化部19の炉
壁は耐火材被覆の水冷壁とすることが望ましい。第17
図は、本発明において水冷壁7(メンブレンウオール)
を設けた炉壁を示すものであるが、水冷壁による冷却に
より、耐火材表面温度は低温(1500℃以下)に保持
され(符号30)、このためスラグは耐火材25表面で
スラグ自体のセルフコーティング層(固体スラグ層)2
7が形成され、耐火材25の表面温度が低温に保持され
る。
なお、ガス化部の上端の絞り部16からは高温で粒子(
スラグ、チャー)を含んだガスがガス冷却部18に流出
するが、このガスは、第18図に示すように、絞り部径
にそったガス流れ4と裸管水冷壁14との間に形成され
るデッドゾーンを隔てて輻射伝熱31により、スラグ等
が付着しない温度領域(1000℃以下)まで冷却され
る。このように絞り部16は、ガス化部19での粒子滞
留時間の上昇効果以外に、上記のような冷却部へのスラ
グ付着防止等の効果も有する。
このようにして炉壁のガス化部の炉壁耐火材を損傷する
ことなく、またその上方のガス冷却部の炉壁にスラグ付
着することなく、信頼性の高い運転を行なうことができ
る。
さらに第19図は、バーナを3段以上、多段配置した本
発明の他の実施例を示すものであるが、2段バーナの場
合と同じように、第1段バーナ33の仮想円が一番小さ
く、順次、第n段バーナ32に行くに従って大きくなる
ように構成される。
このようにしても2段バーナの場合と同様の効果が得ら
れる。
以上のように、本発明によれば、石炭供給バーナを多段
に旋回方向に配置し、各段(上下段)の旋回仮想円を異
径し、かつガス化部上部に絞り部を設け、また各段(上
下段)の酸素量を変えるように構成したことにより、粒
子(石炭、チャー)の滞留時間を増加させ、ガス化効率
(カーボンガス化率および冷ガス効率)を著しく向上さ
せることができる。さらにガス化部を耐火材被覆水冷壁
で構成することにより、スラグによるガス化部、ガス冷
却部の侵食、損傷等によるトラブルを防止し、信頼性の
高いガス化炉とすることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、従来の石炭ガス化炉の説明図、第2図および
第3図は、第1図のガス化炉の断面図、第4図は、従来
の他のガス化炉(テキサコ炉)の説明図、第5図は、本
発明の詳細な説明する噴流層石炭ガス化炉の説明図、第
6図は、第5図のガス化炉の温度分布を示す図、第7図
は、本発明の一実施例を示す石炭ガス化炉の断面図、第
8図および第9図は第7図の石炭ガス化炉の上段および
下段バーナを示す平面図、第10図および第11図は、
上段および下段バーナの流体の状態を示す説明図、第1
2図は仮想円による粒子滞留時間の影響を示す図、第1
3図は絞り部径による滞留時間の影響を示す図、第14
図は上段および下段バーナのチャーの反応性を示す図、
第15図は本発−明の実施例における効率を示す図、第
16図および第17図は耐火材の温度分布を示す図、第
18図は本発明のガス化炉におけるガスの冷却を示す図
、第19図は本発明の他の実施例を示す説明図である。 ■・・・ガス化炉本体、2・・・石炭供給バーナ、4・
・・ガス流れ、5・・・スラグ、7・・・水冷壁、8・
・・耐火材、10・・・生成ガス出口、11・・・スラ
グタンプロ、12・・・上段バーナ、13・・・下段バ
ーナ、14・・・裸管水冷壁、15・・・耐火材被覆水
冷壁、16・・・絞り部、17・・・上段バーナ仮想円
、18・・・ガス冷却部、19・・・ガス化部、20・
・・下段バーナ仮想円、21・・・下降流(正圧)、2
2・・・上昇流(負圧)、23・・・バーナ角度、24
・・・断熱材、26・・・液状スラグ、27・・・固体
スラグ、28・・・ガス化炉内部温度、29・・・外気
温度、30・・・耐火材表面温度、31・・・輻射伝熱
、32・・・第n段バーナ、33・・・第1段バーナ。 代理人 弁理士 川 北 武 長 第1図 第2図 第3図 第4図 第5図 第6図 流 ル(1C) 第18図 18 第19囚

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)ガス化部およびその上部にガス冷却部を有し、該
    ガス化部4こ石炭と酸素の混合流体を旋回方向に供給す
    るバーナが多段配置された噴流層石炭ガス化炉において
    、該ガス化部とガス冷却部を絞り部によって区分すると
    ともに、前記バーナを仮想円形の相違する少なくとも2
    段に配置し、かつ該各段バーナの酸素供給量を可変にし
    たことを特徴とする噴流層石炭ガス化炉。 (2、特許請求の範囲第1項において、前記ガス化部の
    高温部を耐火材で被覆された水冷壁で構成したことを特
    徴とする噴流層石炭ガス化炉。
JP17216583A 1983-09-20 1983-09-20 噴流層石炭ガス化炉 Granted JPS6065094A (ja)

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