JPS606223U - フオトマスク検査機 - Google Patents

フオトマスク検査機

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JPS606223U
JPS606223U JP1983099210U JP9921083U JPS606223U JP S606223 U JPS606223 U JP S606223U JP 1983099210 U JP1983099210 U JP 1983099210U JP 9921083 U JP9921083 U JP 9921083U JP S606223 U JPS606223 U JP S606223U
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
photomask
inspection machine
gap
photomask inspection
rigging
Prior art date
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Application number
JP1983099210U
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English (en)
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JPS6336683Y2 (ja
Inventor
松山　隆義
Original Assignee
富士通株式会社
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Publication date
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  • A Measuring Device Byusing Mechanical Method (AREA)
  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第１図はフォトマスク検査規格の一例の説明図、第２図
は本考案によるフォトマスク検査機の一例の構成を示す
平面図および側断面図、第３図はこれにフォトマスクを
載置した図、第４図ａはフォトマスクが良と判定される
状態を示した図、第４図すはフォトマスクが不良と判定
される状態を示した図である。 図面において、１はフォトマスク、２．　２ａ。 ２ｂ、２Ｃ９２ｄはマスクパターン、３は検査機、４は
台、５は載置面、６は支持部、７は間隙、８は光源、９
は接触面、１０は移動子、１１はねじ、Ａ、　Ｂ、　Ｃ
，Ｄは測定点、Ｅは基準端面、ａ、　　ｂ。 ｃ、　　ｄは距離をそれぞれ示す。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 載置されるフォトマスクの面の縁部を支持する微少高さ
    の支持部を有する平板状の台と、談合に載置された該フ
    ォトマスクの基準端面を接触させる接触面と、談合の該
    フォトマスク載置領域面に該接触面と平行に設けられた
    一定幅の間隙とを備え、該接触面の該間隙との距離が調
    整可能で、該間隙の幅は該フォトマスクの該基準端面に
    対するマスクパターン配列平行度規格に合わせられてい
    ることを特徴とするフォトマスク検査機。
JP1983099210U 1983-06-27 1983-06-27 フオトマスク検査機 Granted JPS606223U (ja)

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JP1983099210U JPS606223U (ja) 1983-06-27 1983-06-27 フオトマスク検査機

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JP1983099210U JPS606223U (ja) 1983-06-27 1983-06-27 フオトマスク検査機

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Publication Number Publication Date
JPS606223U true JPS606223U (ja) 1985-01-17
JPS6336683Y2 JPS6336683Y2 (ja) 1988-09-28

Family

ID=30235213

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JP1983099210U Granted JPS606223U (ja) 1983-06-27 1983-06-27 フオトマスク検査機

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JPS6336683Y2 (ja) 1988-09-28

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