JPS605881B2 - 傾き検出装置 - Google Patents

傾き検出装置

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JPS605881B2
JPS605881B2 JP10162779A JP10162779A JPS605881B2 JP S605881 B2 JPS605881 B2 JP S605881B2 JP 10162779 A JP10162779 A JP 10162779A JP 10162779 A JP10162779 A JP 10162779A JP S605881 B2 JPS605881 B2 JP S605881B2
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imaging
inclination
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JP10162779A
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道明 宮川
正夫 仁藤
裕 柚木
辰男 山村
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Fuji Electric Co Ltd
Original Assignee
Fuji Electric Co Ltd
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Publication date
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、文字列あるいは規則的図形列のような2次元
パターンの正規方向からの傾きを、その文字列または図
形列を撮像装置で撮像して得た撮像信号を処理して非接
触的に検出する煩き検出装置に関するものである。
瓶等に貼付されたラベルまたは印刷物などに記載された
商標等の文字列または規則的な図形列の正規方向からの
傾きを、非接触的に検出する方法として、従釆、所謂パ
タ−ンマツチングによる方法が知られている。
この方法は、正規位置姿勢時に於ける文字列等の標準2
次元パターンを予め用意しておき、この標準2次元パタ
ーンと被検査対象物を撮像装置で擬像して得た2次元パ
タ−ンとのマッチングをパターンマッチング装置でとり
、その相違の程度により文字列等の傾きを検出しようと
するものである。しかしこの方法は、標準2次元パター
ンと撮像して得られた2次元パターンとを高精度に位置
合せしなければならない欠点があり、従って微少な傾き
を検査することが困難であった。また、この種の他の方
法として、撮像装置を被検査対象物平面に垂直な軸を中
心として回転させ、被検査対象物の撮像パタ−ンが撮像
画面中に於いて所定の姿勢になったときの撮像装置の回
転角をその検査対象物の方向として検出するものが知ら
れている。
しかしこの方法は、1個の被検査対象物の方向を検出す
る為に上述した如く撮像装置を機械的に回転させその視
野を変えてやる必要がある為、懐きを高速に検出するこ
とができない欠点がある。本発明はこのような従釆の欠
点を改善したものであり、その目的は、2次元パターン
情報中に於ける文字列及び規則的な図形列の正規方向か
らの懐きを高速に且つ精度良く検出することにある。
以下これについて詳細に説明する。第1図乃至第7図は
、.本発明の原理を説明する為の図である。
第1図A及び第2図Aは、例えば白地に黒のように光学
的に区別し得る状態で描かれた「FUJI」の文字列を
、その上方から撮像装置で撮像して得た撮像画面を示し
、特に第1図Aは「FUJI」の文字列が、その列方向
が撮像画面の横方向すなわち撮像装置の走査線方向と一
致する姿勢(以下このような姿勢を正規の姿勢という。
)で撮像された場合を示し、第2図Aは「FUJI」の
文字列が正規の姿勢で撮像されず、正規の方向から角度
0だけ傾斜した場合を示している。尚、以下の説明に於
いては、撮像装置である2次元順次走査手段として代表
的なテレビカメラを使用するものとし、このテレビカメ
ラはパターン情報画を走査信号に従って画面横方向に走
査し、これが終ると前回の走査開始点付近に戻って前回
の走査線と平行な走査を繰返すものとする。また、撮像
画面上で方向を指す場合には、画面の横方向すなわち走
査線の方向を×方向とし、画面の縦方向すなわち走査線
に垂直な方向をY方向といい「XY座標系を考えた場合
は画面の左上を原点とする。さて、第1図A及び第2図
Aに示した撮像画面を例えばX方向にM分割し、Y方向
にN分割して得たM×Nの升目をそれぞれ画素として考
え、且つ、斜線で示す文字列に含まれる画素は有意画素
として、また斜線以外の背景部分に含まれる画素は祭意
画素として考えると、撮像画面G中に於ける文字列の姿
勢状態は、一水走査線に現われる有意画素の個数を各水
平線毎に求め、これを水平走査線の番号順に並べて得た
有意画素の発生度数を表わすパターンで表現することが
できる。第1図B及び第2図Bは、それぞれ第1図A及
び第2図Aの文字列「FUJI」について上記作業を行
なって得たパターンの一例を示すものであり、縦軸はY
方向、機軸は各走査線に於ける有意画素の発生度数を示
している。このパターンは、換言すれば、撮像画面上の
文字列「FUJI」の有意画素を走査線方向すなわち×
方向に寄せたものと等価であり、文字列「FUJI」を
重み付けを行なってY軸に投影したものと考えられる。
そこで、以下上記パターンを投影積分パターンと呼ぶこ
とにする。ところで「第1図B及び第2図Bに示した各
投影積分パターンを対比観察すると、次のような事実が
明らかとなる。
(1} 文字列が正規の姿勢である場合は、その投影積
分パターンはY軸上で立上り及び立下りの急峻な方形状
パターンになり、文字列が正規方向に対し傾斜するに従
って、その投影積分パターンの立上り及び立下りは緩や
かになり山形パタ−ンになる。
即ち、第1図B及び第2図Bの各投影積分パターンに於
ける有意画素の発生度数の変化率を表わす第1図C及び
第2図Cに示すように、投影積分パターンの立上り、立
下り点に於ける発生度数の変化量△は、文字列が正規姿
勢である場合とそうでない場合とで大きく相違する。そ
してこの相違の程度は、一般に文字列の傾きの程度と一
致する。■ 第2図Bの投影積分パターンの幅W,は、
第1図Bの投影積分パターンの幅Woより広い。
即ち、W,>Woである。このことから、一般に文字列
が傾斜するに従ってその投影積分パターンの幅Wは増大
し「その増大の程度は文字列の懐きの程度と一致すると
言える。以上の関係は、通常の文字列及び規則的図形列
に共通して言えることであるが、例えば第3図A及び第
4図Aに示す「ELECTRIC」の文字列のように、
文字列の長さが文字の高さに対し相当に長いような文字
列の場合、その投影積分パターンはそれぞれ第3図B及
び第4図Bに示すものとなるので、更に次のような事実
が明らかになる。
糊 文字列が正規方向に対して傾斜するに従って、その
投影積分パターンの高さ日は文字の種類にもよるが一度
上昇して最大値に達したのち減少していく。一般的に高
さ日が最大値になるのは文字列の対角線の部分が投影積
分されたときである。従って、第3図Bに示す高さ瓜よ
り大きい部分では「同じ高さ日が異なる二つの穣斜角に
おいて得られることになるため(すなわち高さ日が増加
して最大値に達するまでと、最大値から減少するときに
同じ値をとることになる)、H>比となるような範囲で
は高さ日だけで煩斜の程度を知ることができない。文字
列の長さが文字の高さに対して相当に長いような文字列
の場合には、H>Hoとなるような範囲の煩斜角は微少
であるので、このような範囲は無視して鏡斜無しと判定
するか、或は第1図や第2図に示すような変化量△や幅
Wと組合せて懐斜角を判定する。なお、文字列の長さが
文字の高さに対してあまり差がないような場合には、高
さ日がH>Hoとなるような範囲の傾斜角はかなり大き
い値となるので高さ日だけで傾きを検出することは不可
能となるので、変化量△や幅Wと組合せたり「或は変化
量△や幅Wを用いることにすれば良い。また更に、例え
ば第5図A及び第6図Aに示すように、複数個の文字列
の場合は、その投影積分パターンはそれぞれ第5図B及
び第6図Bに示すものとなる。
同図から明らかなように、複数の文字列が正規姿勢の場
合は、その投影積分パターンは2つに分割されて深い谷
が形成されるが、複数の文字列が頭斜した場合には、そ
の谷の深さは浅くなる。即ち、Do>D,となる。この
ことから一般に、(4} 複数の文字列の場合は、文字
列が傾斜するに従って、その投影積分パターンの谷の深
さは浅くなる。
そしてその浅くなる程度は、文字列の傾斜の程度にほぼ
一致する。と言える。
なお、第6図Bにおいて「谷の深さD,を図示の位置に
選択したのは、懐きにより二つの文字列の投影積分パタ
ーンが重なると第6図Bのように谷の中に山(谷の深さ
D,の箇所)ができ、この山の頂上は二つのパターンの
重なりの最も大きい部分であるので安定した点となるた
めである。勿論、より深い谷の深さを評価値としても良
く、後述するように投影積分パターンに対し移動平均を
行なって小さな凹凸を埋めた後の谷の深さを使用しても
良い。以上のように、文字列の投影積分パターンはその
文字列の姿勢に対応して変化し、特にその投影積分パタ
ーンに於ける立上り及び立下りの変化量△、幅W、高さ
日、谷の深さDは、文字列の傾きの程度に対応して変化
するものとなる。
このことは先に掲げた文字列だけに限らず、他の文字列
であっても同様であり、また例えば第7図に示すような
ICマスタパターンの如き規制的な図形列でも同様であ
る。そこで、投影積分パターンの前記変化量△、幅W、
高さ日、谷の深さDを、文字列または図形列の傾きの評
価値として用いることができ、この評価値と、予め傾き
の程度の分っている文字列または図形列について統計的
に求めておいた変化量△、幅W、高さ日、谷の深さDの
基準値とを比較することにより、文字列または図形列の
実際の懐き程度を求めることができる。本発明は、この
ような原理を利用して、文字列等の傾きを非接触的に検
出しようとするものである。以下実施例について詳細に
説明する。第8図は、本発明の一実施例を表わすブロッ
ク図である。
一般に製品の容器に貼付されるラベルには、その商品名
などを明確に表示する為に、背景に対してコントラスト
比を大きくとった比較的形状の大きな文字列が記載され
ているが、本実施例は、このような文字列の傾きを検査
する場合を示す。なお同図に於いて、1は瓶等の容器、
2は商標等の文字列、3はラベル、4は撮像装置、5は
2値化回路、6は量子化回路、7はカウンタ、8は投影
積分パターン記憶用のメモリ、9はマイクロプロセッサ
及びプログラムメモリ等を有するCPU回路、10は基
準値記憶用のメモリ、11は入出力装置、12はシーケ
ンス制御回路である。このシーケンス制御回路12は、
装置全体のシーケンス制御を行なうと共に、撮像装置4
等に与える水平同期信号、垂直同期信号及び後述する画
素単位の量子化を行なわせる為のクロツク信号等を各部
の供V給するものである。容器1の側面には、例えば第
1図A及び第2図Aに示したような「FUJI」の文字
列2が記載されたラベル3が貼付されており、この容器
1は、そのラベル3が撮像装置4に対向する姿勢で図示
しない搬送手段により矢印方向に搬送されている。
撮像装置4は、ラベル3の文字列2を撮像するもので、
ラベル3が容器1に正常な姿勢で貼付された場合に、走
査線の方向が文字列2の列方向と平行になるように取付
けられている。即ち、ラタベル3が正常に貼付された場
合に文字列2が水平になる場合には、走査線も水平にな
るようにし、ラベル3が正常に貼付された状態を縁像し
て得た撮像画面が、例えば第1図Aに示すものとなるよ
うに設定しておくものである。0 この撮像装置4の撮
像信号は、2値化回路4に於いて、適切な闇値レベルと
比較されて文字パターンと背景とが分離され、その結果
、文字領域を表わす2値化信号が形成される。また、こ
の2値化信号は、次段の量子化回路6に於いて、画素単
位に量子化される。これらの回路5,6の動作の一例を
図を用いて説明すると、例えば第1図Aの直線1の部分
を走査して得られた一水平走査期間に亘る撮像信号が、
例えば第9図Aに示すような信号aである場合、2値化
回路5は、その信号aと閥値しベルslとを比較し、嵐
図Bに示すような2値化信号bを形成し、量子化回路6
は、その2値化信号bを同図Cに示すようなクロツク信
号cによりサンプリングして、同図〇に示すような量子
化された信号dに変換するものである。ここで量子化信
号dの各パルスが一画素に対応するものであり、クロッ
ク信号cの周波数により一画素の大きさを選定すること
ができる。カウンタ7は、各水平走査開始時にリセット
され、一水平走査期間中に於ける童子化信号に含まれる
パルスの数、すなわち文字列に対応する有意画素数をカ
ウントするものであり、このカウント内容は、各水平走
査終了時にメモリ8に記憶される。
この記憶は、例えばDMA等によりハード的に行なわれ
る。このような動作により−垂直走査期間に亘つてカウ
ンタ7にカウント内容がメモリ8に記憶されると、メモ
リ8には、例えば第1図Bに示したような投影積分パタ
ーンが形成されたことになる。一方メモリ1OIこは、
入出力装置11を介して、予め文字列2に対応する投影
積分パターンの基準値、すなわち予め傾きの程度の分っ
ている文字列について統計的に求めた基準値を記憶させ
ておく。この場合、評価値として変化量△を用いる場合
には、変化量△の基準値を記憶しておき、他の評価値、
例えば幅W、高さ日あるいは谷の深さDを用いる場合に
は、これらの基準値を記憶しておく。なお、複数の評価
値を用いて懐き検査を行なう場合には、それに必要な基
準値を記憶しておけば良い。CPU回路9は、メモリ8
に記憶された文字列の投影積分パターンを続出して前述
した評価値を算出し、文字列の正規方向からの額き程度
を識別するものである。
即ち、例えば文字列2が懐斜している場合、撮像装置4
の撮像画面は例えば第2図Aに示すものとなるから、メ
モリ8には、例えば第2図Bに示すような投影積分パタ
ーンが記憶されていることになる。CPU回路9は、こ
の投影積分パターンから評価値を求め、その評価値とメ
モリ1川こ記憶された基準値とを比較して、文字列の傾
きの程度を検出し鏡き検査を行なうものである。この場
合、複数値の評価値について比較を行なっても良いが、
特定の評価値、例えば変化量△あるいは幅Wだけを比較
して額きを検査することもできる。一般的に言って、「
ELECTRIC」等のように文字の高さに比較して文
字列の列方向の長さが相当に長い場合には、高さ日又は
幅Wを評価値として用いるのが有効である。尚、変化量
△を評価値として用いる場合には、被検査対象パターン
の投影積分パターンを作成する段階で水平、垂直の量子
化誤差が既に含まれる為、変化量△を算出するに当って
は、Y軸の区分を1以上として移動変化量を求めるよう
にすれば良い。
また複数の文字列に対して有効な谷の深さDを評価値と
して用いる場合は、第5図B及び第6図Bに示すように
投影積分パターンに小さな凹凸が生じるので、谷の深さ
Dを算出するときは投影積分パターンに対し移動平均を
行なってその小さな凹凸を埋めた後、谷の深さDを算出
すれば良い。ここで移動平均とは、投影積分パターンの
ある走査線に於ける有意画素の発生度数を算出する場合
、その走査線の発生度数とそれ以前の走査線に於ける発
生度数との和を走査線数で割った値を、その発生度数と
する方法である。以上のようにして、容器1に貼付され
たラベル3に記載された文字列2の傾きを非接触的に検
査することができる。
なお、ラベル3に於ける文字列2の位置及び姿勢は通常
定まっているから「文字列2の傾きを検査することによ
り、ラベル3の貼付状態をも検査できることになる。と
ころで、容器等に貼付されたラベル中の文字列は、常に
横書きとは限らず、なかには縦書きのものもある。
このような文字列に対しては、第8図に於ける撮像装置
4を90o回転させ、その走査線が縦書の文字列に平行
になるように構成すれば良いが、撮像装置4をこのよう
に回転させ、その走査線の方向を水平あるいは垂直に正
しく設定する作業はかなりの時間を要し、適当でない。
また、撮像装置4と検査ラインの物理的形状によって撮
像装置4の方向が制限されるとき、或は、傾き検査以外
に他の検査を同じ画面を使用して行なわねばならない場
合で他の検査により撮像装置の方向が制限されるときな
ど、製品にラベルが正&層に貼られたときに、撮像装置
の走査線方向と文字列が平行になるような位置関係にす
ることができない場合が生じることがある。このような
場合、例えば第10図に示すように量子化回路6の次段
に撮像装置4の一画面分の容量を有する画像メモリ13
を設け、文字列を撮像して得た例えば第11図Aに示す
ような撮像画面全体を一旦この画像メモリ13に記憶さ
せ、次に撮像装置4の走査線方向と垂直に文字パターン
を読出すよう構成することにより、撮像装置4を回転さ
せずとも実質的に文字列に平行に走査することが可能と
なり、カウンタ7及びメモリ8によって例えば第11図
Bに示すように先の実施例と同様な投影積分パターンを
得ることができる。
以上の実施例は、本発明装置を適用して容器に貼付され
たラベル中の文字列の傾きを検査する場合のものである
が、本発明の原理から明らかなように、本発明はその他
各種の分野に適用することが可能である。例えば、工業
用ロボットの目としてロボットの腕が掴もうとする物体
の姿勢を検出したり、OCRに於けるドキュメントの傾
き検出または印刷物を切断する際の紙面の傾き検出等に
適用することができる。以上設明したように本発明は、
文字列あるいは規則的図形列の2次元パターンの正規方
向からの傾きを非接触的に検出する為に、前記2次元パ
ターンを撮像して得た撮像信号を処理してその投影積分
パターンを求め、この投影積分パターンの立上り及び立
下りの変化量、幅、高さ、谷の深さのうちいずれか一つ
または複数を評価値として算出し、予め懐き程度の既知
であるパターンについて求めておいた基準値と比較する
ことにより前記2次元パターンの正規方向からの懐きを
検出するように構成したものであり、従来のように機械
的可動部がないので高速に煩きを検出することができる
。また、前記2次元パターンが僅かに便し、てもその投
影積分パターンは大きく変化するので微少な傾きをも検
出できる利点がある。
【図面の簡単な説明】
第1図乃至第7図は本発明の原理を説明する為の図、第
8図は本発明の一実施例を表わすブロック図、第9図は
その動作説明図、第10図は本発明の別の実施例を表わ
すブロック図、第11図はその動作説明図である。 1….・・容器、2・・・・・’文字列、3・・…・ラ
ベル、4・・・・・・撮像装置、5・・・・・・2値化
回路、6・・・・・・量子化回路、7・・・・・・カウ
ンタ、8・・・・・・投影積分パターン記憶用のメモリ
、9・・…・CPU回路、10・・・・・・基準値記憶
用のメモリ、11・・・・・・入出力装置、12・・・
・・・シーケンス制御回路、13・・・・・・画像メモ
リ。 オ1図オ2図 オ3図 才4図 才5図 オ6図 オ7図 才8図 オ9図 才 10 図 オー1図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 文字列あるいは規則的図形列から成る2次元パター
    ンの正規方向からの傾きを非接触的に検出する装置に於
    いて、走査線が前記正規方向と平行になるように前記2
    次元パターンを撮像する撮像装置と、該撮像装置の撮像
    信号を処理して前記2次元パターンの投影積分パターン
    を形成し且つ該投影積分パターンの立上り及び立下りの
    変化量、幅、高さ、谷の深さのうちのいずれか一つまた
    は複数を評価値として算出する手段と、傾き程度が既知
    である前記2次元パターンと同一の2次元パターンにつ
    いて求めた投影積分パターンの評価値を基準値として予
    め記憶しておく記憶手段と、該記憶手段に記憶された基
    準値と前記算出された評価値とを比較して前記2次元パ
    ターンの正規方向からの傾き程度を識別する手段とを具
    備したことを特徴とする傾き検出装置。
JP10162779A 1979-08-09 1979-08-09 傾き検出装置 Expired JPS605881B2 (ja)

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JPS5626209A JPS5626209A (en) 1981-03-13
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5060276A (en) * 1989-05-31 1991-10-22 At&T Bell Laboratories Technique for object orientation detection using a feed-forward neural network

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