JPS6058286B2 - 雰囲気ガス加湿装置 - Google Patents

雰囲気ガス加湿装置

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JPS6058286B2
JPS6058286B2 JP11213482A JP11213482A JPS6058286B2 JP S6058286 B2 JPS6058286 B2 JP S6058286B2 JP 11213482 A JP11213482 A JP 11213482A JP 11213482 A JP11213482 A JP 11213482A JP S6058286 B2 JPS6058286 B2 JP S6058286B2
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JP
Japan
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atmospheric gas
gas
dew point
atmosphere gas
hot water
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JP11213482A
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JPS591626A (ja
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哲夫 室
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Chugai Ro Co Ltd
Original Assignee
Chugai Ro Co Ltd
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Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C21METALLURGY OF IRON
    • C21DMODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
    • C21D1/00General methods or devices for heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering
    • C21D1/74Methods of treatment in inert gas, controlled atmosphere, vacuum or pulverulent material
    • C21D1/76Adjusting the composition of the atmosphere

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Control Of Non-Electrical Variables (AREA)
  • Feeding, Discharge, Calcimining, Fusing, And Gas-Generation Devices (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は雰囲気ガス加湿装置に関するものである。
従来、たとえば、金属ストリップコイルの焼鈍に当り
、材料に光揮性を付与するため、HNガス、HNXガス
等の雰囲気ガスを炉内に導入している。
また、この場合、材料表面の空気中での酸化を防止す
るために、前記雰囲気ガスを加湿(露点+10〜−10
℃)することが特公昭49−1616訝公報により提案
されている。
すなわち、ボイラで発生した蒸気を混合器で雰囲気ガス
中に混合させて雰囲気ガスを加湿するものである。 と
ころで、前記の方法では蒸気の発生源としてボイラを使
用しているため高価であるばかりか、官庁の立合検査を
受ける必要があり、その間、操業を停止しなければなら
ない。
また、加湿雰囲気ガスの加湿制御は、蒸気を混合した
加湿雰囲気ガス流量を測定し、その流量に対応してボイ
ラの電気ヒータの出力を制御して蒸気の発生量を制御す
ることにより行なつている。
そして、加湿雰囲気ガス流量の測定値は時間平均値であ
るため、ガス流量が瞬時に大巾に変動する場合には電気
ヒータ出力が追従せず露点が変動し、加湿制御特性が悪
い。さらに、ボイラの特性上、電気ヒータの出力が変化
しても蒸気発生量は瞬時に変化せず、加湿温度設定値の
変更時における加湿制御の追従性が悪いという欠点を有
していた。 本発明は、前記従来の欠点を除去するため
になされたもので、雰囲気ガスの加湿を、ドライ雰囲気
ガス中にボイラで生成した蒸気を添加することによつて
行わず、ドライ雰囲気ガスの一部を温度制御された密閉
貯水槽の温水内に供給してウェット雰囲気ガスとしたの
ち両雰囲気ガスを均一に混合して加湿雰囲気ガスとする
とともに、加湿雰囲気ガスの使用量が変動し、加湿雰囲
気ガス中の露点が変化すると、この変化を加湿雰囲気ガ
スの露点変化で捕え、ウェット雰囲気ガスの添加量を制
御するようにしたもので、加湿雰囲気ガスの使用量が大
巾に増大しても安定した露点をもつ加湿雰囲気ガスを得
ることのできる雰囲気ガス加湿装置を提供することを目
的とする。
っぎに、本発明を一実施例である図面にしたがつて説
明する。 図において、1はHNガスあるいはHNXガ
ス等の雰囲気ガス発生機で、このガス発生機1からのド
ライ雰囲気ガス(露点:ー40゜C以下)はヒータ2に
より加熱し、混合器3へ供給される。
一方、前記ドライ雰囲気ガスの一部は減圧弁4を経て密
閉貯水槽5に供給され、多数の孔を有する噴出管6から
温水7中をバブリングしてウェット雰囲気ガス(露点:
30〜80℃)となる。そして、このウェット雰囲気ガ
スはヒータ8により飽和温度以上に加熱されて配管中で
の結露を防止されたうえで前記混合器3に供給され、こ
こでドライ雰囲気ガスと混合し、所定の露点を有する混
合(加湿)雰囲気ガスとなつて図示しない焼鈍炉等に供
給される。また、前記混合器3からの配管には露点計9
が設けてあり、加湿雰囲気ガス中の露点に検出してウェ
ット雰囲気ガス供給管に設けた流量調節弁10を開閉し
、加湿雰囲気ガスの露点が所定値になるように制御する
なお、11は密閉貯水槽5に設けたヒータで、熱電対1
2により温水温度を検知し、温度調節計13にもとずき
電力調整器14で、常に、密閉貯水槽5の水温を所定値
(たとえば60℃)になるように調節する。
さらに、前記混合器3からの配管にガス流量計15が設
けてあり、比率設定器16で予め設定された値と比較演
算し、演算結果に見合う信号を前記電力調整器14に与
え、前記ヒータ11への供給電力を制御するようになつ
ている。
したがつて、いま、焼鈍炉等が通常操業を行なつており
、使用加湿雰囲気ガス流量が安定あるいは変動が緩やか
な場合においては、ガス流量計15、にもとずく比率設
定器16の信号により電力調整器14が動作し、水温を
一定に保持するとともに、露点計9の信号により流量調
節弁10が微少に開閉し、混合雰囲気ガス中の露点(H
2O値)を正確に制御する。
そして、加湿雰囲気ガス流量が急激に増大した場合にお
いては、ガス流量計15からの信号は時間的平均値てあ
るため急激な変動には対応できず、バブリング量の急激
な増加により水温が低下し、加湿雰囲気ガスの露点も大
巾に低下する。
このように露点が低下すると、露点計9の信号により流
量調節弁10が大きく開き、ウェット雰囲気ガスの添加
量が増加し、所望の加湿雰囲気ガスとすることができる
。また、前記とは逆に、大巾に加湿雰囲気ガスの使用量
が減少すると、流量調節弁10が大きく閉じることは勿
論てある。前記の場合において、流量調節弁10の大巾
な開閉にもとすく温水7中を通過する雰囲気ガス量の変
化により温水7の温度も変化するが、この温水温度は熱
電対12で検出され、温度調節計13によつてヒータ1
1を制御し、早期に温水温度が一定化される。
そして、加湿雰囲気ガスの使用量および露点が安定する
と、前述のように定常運転に入ることになる。なお、ド
ライ雰囲気ガスとウェット雰囲気ガスとの混合割合は、
前記比率設定器16および露点計9の設定値を変更する
ことにより容易に変更することができる。
以上の説明で明らかなように、本発明にかかる雰囲気ガ
ス加湿装置によれば、加湿器としてボイラを使用せず、
密閉貯水槽の温水内にドライ雰囲気ガスの一部を供給し
てバブリングすることによりウェット雰囲気ガスとし、
これをドライ雰囲気ガスに添加するものであるため価格
が安く、ボイラ使用に伴う種々の煩わしさ等がない。
また、加湿雰囲気ガスの使用量に変動が生じ、露点が変
動しても、露点計の検出信号にもとずいてウェット雰囲
気ガスのドライ雰囲気ガスへの添加量を増減するもので
あるから加湿精度がよく、かつ瞬時の露点変動に対して
も早期に追従できるという利点を有する。
【図面の簡単な説明】
図面は本発明にかかる雰囲気ガス加湿装置の概略図であ
る。 1・・・・・・雰囲気ガス発生機、3・・・・・・混合
器、5・・・・・・密閉貯水槽、6・・・・・・・・・
噴出管、7・・・・・・温水、9・・・・・露点計、1
0・・・・・流量調節弁、11・・・・・・ヒータ、1
3・・・・・温度調節計、14・・・・・・電力調整器
、15・・・・・・ガス流量計、16・・・・・・比率
設定器。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 ドライ雰囲気ガスの供給源と、温水温度制御用ヒー
    タを備えた密閉貯水槽と、前記ドライ雰囲気ガスの一部
    を貯水槽の温水内に供給するドライ雰囲気供給管と、前
    記貯水槽で前記ドライ雰囲気ガスをバブリングすること
    により得られたウェット雰囲気ガスとドライ雰囲気ガス
    とを均一に混合する混合器と、使用場所への混合雰囲気
    ガス供給管中に設けた露点計と、この露点計での測定露
    点にもとずき前記混合器へのウェット雰囲気ガス供給量
    を制御する流量調節弁と、から構成したことを特徴とす
    る雰囲気ガス加湿装置。
JP11213482A 1982-06-28 1982-06-28 雰囲気ガス加湿装置 Expired JPS6058286B2 (ja)

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JPS591626A JPS591626A (ja) 1984-01-07
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JPH0674451B2 (ja) * 1983-04-27 1994-09-21 大同ほくさん株式会社 ガス調湿法
FR2623209B1 (fr) * 1987-11-17 1993-09-03 Air Liquide Procede de traitement thermique sous atmosphere gazeuse a base d'azote et d'hydrocarbure
JP5376821B2 (ja) * 2008-03-26 2013-12-25 光洋サーモシステム株式会社 ガス発生装置及び希釈ガスの発生方法
DE102010032919B4 (de) * 2010-07-30 2023-10-05 Air Liquide Deutschland Gmbh Verfahren und Vorrichtung zum Befeuchten eines brennbaren Gases

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