JPS6051990B2 - ラツプ盤 - Google Patents

ラツプ盤

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JPS6051990B2
JPS6051990B2 JP51136520A JP13652076A JPS6051990B2 JP S6051990 B2 JPS6051990 B2 JP S6051990B2 JP 51136520 A JP51136520 A JP 51136520A JP 13652076 A JP13652076 A JP 13652076A JP S6051990 B2 JPS6051990 B2 JP S6051990B2
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lapping
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lap disk
lower lap
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寛 杉下
安夫 渡辺
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Hamai Co Ltd
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Hamai Co Ltd
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Publication date
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は下ラップ円盤上に被加工物を載置し、”被加
工物上に上ラップ円盤を載置し、中心歯車と内歯歯車と
に噛合されたキャリヤーに被加工物を保持させ、下ラッ
プ円盤と上ラップ円盤とを互に反対方向に回転駆動させ
ると共に、中心歯車と内歯歯車とを互に異なる速度で回
転駆動してキャリヤーを自転させつゝ公転させるように
構成して成るいわゆる4ウェイの強制駆動方式のラップ
盤に関するものである。
周知の如くこの種ラップ盤は、被加工物の表面を鏡面
状にラップ仕上げするものであるが、特に簡単な機械で
極めて高精度の加工(ミクロン単位の加工)を行なえる
と言う点で、高い経済性が買われている。
上記の反面この種ラップ盤では、上下ラップ円盤とそ
の間の被加工物との共摺りの原理によつてラップ精度を
高めているものである為に、ラップ作業の時間の経過と
共に、下ラップ円盤のラップ作業面がその周辺部側から
次第に摩耗されて、通常傘形(円錐形)に必ず変形し、
この際上ラップ円盤のラップ作業面も下ラップ円盤に倣
つて平行に変形することが知られている。
そして上記の如き上下ラップ円盤の傘形の変形が進行す
るに従いラップ精度が落ちることになり、通常は被加工
物及びラップ円盤の材質によつても多少異なるが、ラッ
プ作業をほS゛5叫間位連続して行なうと、上記傘形の
変形がラップ精度のほS゛限界に達するものとされてい
る。
一方従来のこの種ラップ盤では下ラップ円盤をベアリン
グ軸受等の機械軸受によつて回転自在に支持させていた
しかしながら下ラップ円盤上に掛かる負荷力吠きい為に
、機械軸受は比較的早く摩耗し、ガタツキを発生し易い
、また機械軸受の加工精度や組立精度のバラツキによつ
て下ラップ円盤の回転精度の上げ難かつた。この為従来
は下ラップ円盤の高速回転時に、下ラップに振動、面振
れ等が著しく発生し易く、これが上ラップ円盤にも伝達
されて、上下ラップ円盤のラップ作業面に波状凹凸が発
生し、加工精度を劣化させる大きな要因になつていた。
しかして従来は、上記傘形の変形及び波状凹凸がラップ
精度の限界に達すると、その都度上下両ラップ円盤を機
械から取外してこれらを修正機にかけ、その傘形及び波
状凹凸に変形したラップ円盤のラップ作業面を水平面状
に再研磨するようにしているが、この修正作業は極めて
面倒である上に、時間の浪費が甚だしく、その修正作業
中はラップ作業を中断しなければならないと言つた極め
て大きな問題を呈している。
本願発明者は上記実状を如何にすれば解決することがで
きるかを幾段階に亘る思考過程を経ながら研究した末、
本発明を完成したものである。
即ち、先ず本発明の出発点は、ラップ作業により上下ラ
ップ円盤のラップ作業面の摩耗が必ず周辺部側から進行
する事実に着目したことにある。次にこの事実を逆に利
用し、その一度傘形に変形した上下ラップ円盤を上下逆
に入れ替えてラップ作業を行なえば、やはりこれら上下
ラップ円盤のラップ作業面はその周辺部側から摩耗が進
行し、逆傘形の変形が水平面状に修正されるのではない
かと言う、発想の転換を行なつた。そして実験の結果上
記傘形の変形が一度水平面状に修正された後、再び傘形
に変形して行くことが確められた。しかしながら従来の
この種ラップ盤では、上下ラップ円盤をそのま)上下逆
に入れ替えることができない構造になつている。
即ち下ラップ円盤は、上からの荷重を支える為に上ラッ
プ円盤に対して厚さが大となつている。また下ラップ円
盤はその下部に配された下ラップ円盤の駆動体上に水平
状に載置して駆動ピンにて駆動させる構造であるのに対
して、上ラップ円盤はその上部に配された上ラップ円盤
の支持体の下部に吊り下げ方式で水平状に取付ける構造
であつて、これら上下ラップ円盤の取付け構造が異なる
。更にまたラップ作業時にラップ剤を上ラップ円盤の上
方側から供給する為に、上ラップ円盤にはこのラップ剤
を供給する為の複数個の孔が設けられているが、下ラッ
プ円盤にはこの孔がなく、かつまた下ラップ円盤にはこ
の孔を設けてはならない。なお下ラップ円盤に孔を設け
ると、供給されたラップ剤がその孔から下方に逃げ、下
ラップ円盤のラップ作業面全体に行き渡らず、ラップ作
業に支障を来たすことになる等の問題がある。本発明は
上述の如き実状に鑑み発明されたものであつて、下ラッ
プ円盤上に被加工物を載置し、被加工物上に上ラップ円
盤を載置し、中心歯車と内歯歯車とに噛合されたキャリ
ヤーに被加工物を保持させ、下ラップ円盤と上ラップ円
盤とを互に反対方向に回転駆動させると共に、中心歯車
と内歯歯車とを互に異なる速度で回転駆動してキャリヤ
ーを自転させつ)公転さぜるように構成して成るラップ
盤において、上下両ラップ円盤を互に同一の構造体に構
成して、これら上下両ラップ円盤のラップ作業面とは反
対側の面には複数個の駆動ピン挿入穴と、内側2重の複
数個のネジ孔と、上記反対側の面から上記ラップ作業面
側に貫通される複数個のラップ剤供給用孔とを夫々設け
、下ラップ円盤駆動体を基台上に流体軸受によつて回転
自在に支持させ、下ラップ円盤を下ラップ円盤駆動体の
上部に載置してその下ラップ円盤駆動体に設けられた複
数個の駆動ピンを下ラップ円盤の上記複数個の駆動ピン
挿入穴内に挿入させることにより、下ラップ円盤を下ラ
ップ円盤駆動体の上部に着脱自在に取付けて、その下ラ
ップ円盤駆動体にて下ラップ円盤を回転駆動させるよう
に構成し、かつ下ラップ円盤のラップ剤供給用孔は詰物
にて密封させ、上ラップ円盤を上ラップ円盤支持体の下
部に密着させて上記外側の複数個のネジ孔を利用して複
数個の取付ネジにより上ラップ円盤を上ラップ円盤支持
体の下部に着脱自在に取付け、その上ラップ円盤の上面
に上記内側の複数個のネジ孔を利用して着脱自在に取付
けた係合ヘッドを上ラップ円盤駆動体に係合させて、そ
の上ラップ円盤駆動体にて上ラップ円盤を回転駆動させ
るように構成し、以つて所定時間経過毎に上下両ラップ
円盤を相互に入れ替えながらラップ作業を行なうように
構成して成ることを特徴とするラップ盤である。
このように構成することによつて、ラップ円盤の振動、
面振れ等を発生させないようにして、ラップ作業面に波
状凹凸が発生することを未然に防止でき、かつまた所定
の時間ラップ作業を行なつた後、上下ラップ円盤を相互
に上下に入れ替えて再びラップ作業を行なうような使い
方を繰り返して行なうことができて、上下ラップ円盤の
ラップ作業面をその都度再研磨することなく、しかもラ
ップ精度を保ちながら極めて長時間に亘つて連続的なラ
ップ作業を行なうことができる。以下本発明を適用した
ラップ盤の一実施例を図面に付き述べる。
先ずこのラップ盤は通常二面ラップ盤と称されるもので
あつて、上下一対のラップ円盤1,2と、中心歯車3、
内歯歯車4、例えば4つのキャリヤー5とを有し、キャ
リヤー5は中心歯車3の周囲にほS゛900間隔で配置
され、かつこれら各キャリヤー5はその外周に形成され
た歯車5aによつて中心歯車3と内歯歯車4との両方に
噛合されている。
そして各キャリヤー5には通常複数個の被加工物(以下
ワークと記載する)6が保持されており、これらのワー
ク6は下ラップ円盤2上に載置され、かつこれらのワー
ク6上には上ラップ円盤1が所定の加圧状態で押圧され
ている。一方このラップ盤は、いわゆる4ウェイ駆動方
式に構成されていて、下ラップ円盤2、中心歯車3及ひ
内歯歯車4を同一方向(例えば第3図矢印a方向)にそ
れぞれ所定の速度で回転駆動し、また上ラソプ円盤1を
上記方向とは逆方向(例えば第3図矢印b方向)に所定
の速度で回転駆動する。この結果キャリヤー5は自転を
伴いながら公転し、ワーク6は互に逆回転する上下ラッ
プ円盤1,2間で偏心運動(トロコイド)を行ない、共
摺り作用によつてこのワーク6の上下表面が所定の鏡面
状にラップ仕上げされるように構成されている。次にこ
のラップ盤の詳細を説明する。
先ず9及び10は固定の基台であり、基台9の上部には
環状をなす流体軸受11によつて下ラップ円盤駆動体1
2が回転自在に支持されている。また基台9の外側で基
台10の上部には内歯歯車駆動体13が回転自在に支持
されている。更にまた基台9,10の中心部にはこれら
を垂直状に貫通する内外3重の軸14,15,16がそ
れぞれ相対回転自在に設けられている。なお前記駆動体
12は前記外軸16にキーにて固着されている。そして
前記ラップ円盤2は前記駆動体12の上部に着脱自在な
状態で水平状に載置され、かつこの駆動体12の上部に
突設された複数個の駆動ピン18に係合されている。ま
た前記内歯歯車4は前記駆動体13の上部に水平状に固
着されている。更に前記中心歯車3は前記中間軸15の
上端に固着されている。なお中軸14の上端には前記上
ラップ円盤1を駆動する為の回転ヘッド17が固着され
ている。一方19は支柱てあり、この支柱19の上部に
は旋回アーム20が取付けられ、この旋回アーム20に
は前記上ラップ円盤1の昇降駆動用の油圧シリンダー2
1が垂直状に取付けられている。
そしてこの油圧シリンダー21によつて昇降される昇降
軸22の下端には上ラップ円盤支持体23が回転自在に
支持されており、この支持体23の下部に前記上ラップ
円盤1が着脱自在な状態で水平状に取付けられている。
なおこの上ラップ円盤1の中心部の上部には前記回転ヘ
ッド17と係合する為の係合ヘッド24が着脱自在に取
付けられている。そして油圧シリンダー21の下降駆動
によつて上ラップ円盤1が下降されて、ワーク6上に所
定の加圧状態で押圧されるように構成されている。
なおこの下降伏態で回転ヘッド17が係合ヘッド24内
に相対的に挿入されて、これが互に係合される。他方ラ
ップ剤はラップ剤循環タンク26内に収納されていて、
ポンプモータ27によつて送液バイブ(図示せず)にて
前記旋回アーム20部分に送られ、中空軸に構成されて
いる前記昇降軸22内を通して前記支持体23のラップ
剤受28内に供給される。
そしてここに供給されたラップ剤はこれから垂下された
複数個のラップ剤滴下管29及び後述するラップ剤滴下
孔を通じて上ラップ円盤1のラップ作業面1aに供給さ
れる。また下ラップ円盤2のラップ作業面2aから排出
されたラップ剤は前記基台10の上部外周に形成された
ラップ剤受30部分で受取られ、排液バイブ31によつ
て前記循環タンク26に回収されるように構成されてい
る。なお32はラップ剤の飛散防止用カバーである。次
に4ウェイ駆動方式の駆動系を説明する。
先ず34は駆動用モータを示している。35はギヤーボ
ックスを示しており、このギヤーボックス35の入力軸
36と、モータ34のモータ軸37とはプーリ38,3
9及びベルト40を介して連動されている。
なおこの入力軸36は出力軸41にウォーム42及びウ
ォームホィール43を介して直角状に方向変換されてい
る。一方前記駆動体13の下部には歯車45が固着され
、また前記内外3重の軸14,15,16のそれぞれの
下端にも歯車46,47,48が固着されている。
そして前記基台10の一側部には伝動軸50が垂直状に
配されており、この伝動軸50の上端に固着された歯車
52が前記歯車45に噛合されている。またこの伝動軸
50の下端側に固着された歯車53が前記ギヤーボック
ス35内に軸支された歯車54,55を介して前記歯車
46に常時噛合されている。更にこの伝動軸50の中間
部に固着された歯車56,57が前記歯車47,48に
噛合されている。なお上記歯車57は前記出力軸41に
固着された歯車58にも噛合されている。次に以上述べ
たラップ盤によるワーク6のラップ作業要領を説明する
先ずモータ34を作動させると、モータ軸37の回転力
がプーリ38、ベルト40、プーリ39、入力軸36、
ウォーム42、ウォームホィール43、出力軸41を介
して歯車58に伝動される。
そしてこの回転力は歯車57を介して伝動軸50に伝動
され、この伝動軸50が回転される。これにより歯車5
2により歯車45が駆動され、歯車53により歯車54
,55を介して歯車46が駆動され、歯車56により歯
車47が駆動され、歯車57により歯車48が駆動され
る。そしてこの結果中軸1牡回転ヘッド17、係合ヘッ
ド24を介して上ラップ円盤1が例えば第3図矢印b方
向に所定の速度で回転駆動される。また中間軸15を介
して中心歯車3が例えば第3図矢印a方向に所定の速度
で回転駆動される。また外軸16、駆動体12を介して
下ラップ円盤2が例えば第3図矢印a方向に所定の速度
で回転駆動され・る。更にまた駆動体13を介して内歯
歯車4が例えば第3図矢印a方向に所定の速度で回転駆
動される。しかしてこの際駆動体12が基台9上に流体
軸受11を介して回転自在に支持され、その駆動体12
によつて下ラップ円盤2が回転駆動される構造になつて
いる為、その回転時に下ラップ円盤2には振動や面振れ
等が全く発生しない。
従つて下ラップ円盤2及び上部に載置された上ラップ円
盤1は振動や面振れ等が全く発生しない状態で高精゛度
に安定回転する。以上の回転駆動によりキャリヤー5は
自転を伴いながら公転され、ワーク6は上下ラップ円盤
1,2間で所定の偏心運動を行ない、このワーク6の上
下面は上下ラップ円盤1,2による共摺り作用によつて
、所望の鏡面状にラップ仕上げされることになる。
そして上下ラップ円盤1,2に振動や面振れ等が全く発
生しないので、これらのラップ作業面1a,2aに波状
凹凸が発生するようなことが全くなくて、そのラップ作
業面1a,2aは常に平坦面状態を維持し、ワーク6は
高精度にラップ仕上げされる。
しかしてこの際ラップ作業の時間の経過に伴い、下ラッ
プ円盤2のラップ作業面2aはその周辺部側から次第に
摩耗して、第7A図に示されるように傘形に変形する。
そして上ラップ円盤1のラップ作業面1aも下ラップ円
盤2に倣つて平行に変形する。そして通常はワーク6と
上下ラップ円盤1,2の材質によつても多少異なるが、
ラップ作業をほS′印時間位連続して行なうと、上記ラ
ップ作業面1a,2aの傘形の変形がラップ精度のほS
゛限界に達する。そこでこのラップ盤では、上記要領で
ラップ作業を行なつた後、上下ラップ円盤1,2を第7
B図に示されるように相互に上下に入れ替えた後、上記
同様のラップ作業を引き続いて行なうことが出来るよう
に構成している。
なおこのようにして上下ラップ円盤1,2を相互に上下
に入れ替えて、ラップ作業を引き続いて行なうと、今度
は下側に配されていて、最初のラップ作業時に傘形に変
形され、今は逆傘形になつている上ラップ円盤1のラッ
プ作業面1aがやはりその周辺部側から次第に摩耗して
行く。そしてこのラップ作業面1aはその2回目のラッ
プ作業の時間の経過に伴い一度第7C図の如く水平面状
に修正された後、再び第7A図の如く傘形に変形して行
く。なおこの際今度は上側に配されている下ラップ円盤
2のラップ作業面2aはやはり上ラップ円盤1に倣つて
平行に変形する。従つて所定時間毎に上下ラップ円盤1
,2を相互に上下に入れ替えながら、ラップ作業を引き
続いて行なうような使い方をすることによつて、上下ラ
ップ円盤1,2のラップ作業面1a,2aをその都度再
研磨することなく、しかもラップ精度を保ちながら極め
て長時間に亘つて連続的なラップ作業を行なうことがで
きる。
次に上述の如き上下ラップ円盤1,2を相互に上下に入
れ替えることができるようにした構造を第2図、第5図
及び第6図によつて説明する。
先ずこのラップ盤においては上下両ラップ円盤1,2を
互に同一(又はほS゛同一)の構造体に構成している。
即ちこれら両ラップ円盤1,2は直径及び厚さが等しく
(なお厚さは多少違つていても差支えがない)。かつラ
ップ盤に取付ける為の等しい構造を有し、更にラップ剤
供給に関する等しい構造を有している。以下上記構造を
説明するが、両ラップ円盤1,2は同一構造であるので
、こ)では一方のラップ円盤1についてのみ説明する。
このラップ円盤1のラップ作業面1aとは反対側の面1
bには駆動ピン挿入穴60が例えば3つ同一円周上に1
200間隔で形成されている。
またこのラップ円盤1にはこれを上下厚さ方向に貫通す
るラップ剤滴下孔61が例えば3つ同一円周上に120
0間隔で形成されている。なおこれらラップ剤滴下孔6
1は前記反対側の面1b側て径が拡大された孔となつて
いる。またこのラップ円盤1の前記反対側の面1bには
2個のネジ孔62,63がそれぞれ例えば4つづつ内外
2つの同心円上に90ぞ間隔で形成されている。しかし
てこのラップ円盤1を前述したラップ盤の上ラップ円盤
1として使用する時には、第2図に示されるように先ず
このラップ円盤1のラップ作業面1aを下向きにして、
その反対側の面1bである上面に前記係合ヘッド24を
載置し、これを前記4つのネジ孔63を利用して例えば
4つの取付ネジ64によつてネジ止めする。
そしてこのラップ円盤1をその上面1bによつて前記支
持体23の下面に水平状に当つけ、前記4つのネジ孔6
2を利用して例えば4つの取付ネジ65によつてネジ止
めする。そして最後に前記ラップ剤受28から垂下され
た例えば3つの前記ラップ剤滴下管29の下端を、前記
ラップ剤滴下孔61の上側端内に挿入する。一方前述し
たラップ円盤1を前述したラップ盤の下ラップ円盤2と
して使用する時には、第2図に示されるように、このラ
ップ円盤2のラップ作業面2aを上向きにし、その反対
側の面である下面2bによつて前記駆動体12の上面1
2a上に水平状に載置する。
この時前記駆動体12の上面12a上に突出されている
前記例えば3つの駆動ピン18を前記駆動ピン挿入穴6
0内にそれぞれ挿入する。なお下側に配されるラップ円
盤2については、これに形成されている前記ラップ剤滴
下孔61を例えばシリコンゴム等の詰物を用いて密封す
る。
従つてこのラップ盤においては、上下ラップ円盤1,2
が支持体23及び駆動体12にそれぞれ着脱自在に取付
けられ、かつこれら上下ラップ円盤1,2を相互に上下
に入れ替えることが自由である。また上下ラップ円盤1
,2を上下に入れ替える時には、下側に配されるラップ
円盤2のラップ剤滴下孔60を詰物にて密封すれば、ラ
ップ作業時においてこの下側ラップ円盤2のラップ作業
面2a上に供給されたラップ剤がこのラップ剤滴下孔6
0から下方に逃げることは全くなく、この供給されたラ
ップ剤は必ずこのラップ作業面2a全体に確実に行き渡
ることになる。本発明は上述の如く、下ラップ円盤上に
被加工物を載置し、被加工物上に上ラップ円盤を載置し
、中心歯車と内歯歯車とに噛合されたキャリヤーに被加
工物を保持させ、下ラップ円盤と上ランプ円盤とを互に
反対方向に回転駆動させると共に、中心歯車と内歯歯車
とを互に異なる速度で回転駆動してキャリヤーを自転さ
せつ)公転させるように構成して成るいわゆる4ウェイ
の強制駆動方式のラップ盤において、従来互に異なる構
造体にて構成されていた上下両ラップ円盤を互に同一の
構造体に構成して、これら上下両ラップ円盤のラップ作
業とは反対側の面に、複数個の駆動ピン挿入穴と、内側
2重の複数個のネジ孔と、上記反対側の面から上記ラッ
プ作業面側に貫通される複数個のラップ剤供給用孔とを
夫々設けることによつて、これら上下両ラップ円盤を下
ラップ円盤駆動体の上部と上ラップ円盤支持体の下部と
の何れへにも自由に交換して取付け得るように構成し、
そして下ラップ円盤駆動体を基台上に流体軸受によつて
回転自在に支持させ、その下ラップ円盤駆動体上に下ラ
ップ円盤を着脱自在に載置して回転駆動させるように構
成して、上下両ラップ円盤を振動や面振れ等が全く発生
しない状態で、高精度に安定回転出来るように構成し、
そして下ラップ円盤を下ラップ円盤駆動体の上部に載置
してその下ラップ円盤駆動体に設けられた複数個の駆動
ピンを下ラップ円盤の上記複数個の駆動ピン挿入穴内に
挿入させることにより、下ラップ円盤を下ラップ円盤駆
動体の上部に着脱自在に取付けて、その下ラップ円盤駆
動体にて下ラップ円盤を回転駆動させるように構成し、
かつこの際下ラップ円盤のラップ剤供給用孔は詰物に密
封させて、ラップ剤が下方に逃げることがないように構
成し、そして上ラップ円盤を上ラップ円盤支持体の下部
に密着させて上記外側の複数個のネジ孔を利用して複数
個の取付ネジにより上ラップ円盤を上ラップ円盤支持体
の下部に着脱自在に取付け、その上ラップ円盤の上面に
上記内側の複数個のネジ孔を利用して着脱自在に取付け
た係合ヘッドを上ラップ円盤駆動体に係合させて、その
上ラップ円盤駆動体にて上ラップ円盤を回転駆動させる
ように構成し、以つて所定時間経過毎に上下両ラップ円
盤を相互に入れ替えながら、これらを夫々強制的に回転
駆動してラップ作業を行なうことが出来るように構成し
たことを特徴とするラップ盤である。
従つて本発明によれば、いわゆる4ウェイの強制駆動方
式のラップ盤であつて、従来は上下両ラップ円盤を相互
に入れ替えることが出来なかつたものにおいて、これら
上下両ラップ円盤を相互に入れ替えることが出来なかつ
たものにおいて、これら上下両ラップ円盤を相互に自由
に入れ替えて、なおかつこれらを夫々強制的に回転駆動
させることが出出来るように構成し、かつその際下側に
配されるラップ円盤のラップ剤供給用孔からラップ剤が
下方に逃げるようなことがないように構成したものであ
るから、所定の時間ラップ作業を行なつた後、上下両ラ
ップ円盤を相互に入れ替えて再びラップ作業を行なうよ
うな使い方を繰返して行なうことが出来て、その上下両
ラップ円盤の相互の入れ替えにより、上下両ラップ円盤
のラップ作業面の傘形の変形をその都度自動的に修正さ
せながら、ラップ作業を連続して行なうことが出来る。
即ち本発明はラップ作業と並行して、ラップ作業面の傘
形変形の自動修正作業を行なうことが出来るものである
従つて本発明によれば、従来のようにほS゛5011寺
間位連続してラップ作業を行なつた後、上下両ラップ円
盤をラップ盤から取外してこれらを夫々修正機にかけ、
その傘形に変形したラップ作業面を水平面状にいちいち
再研磨しなければならないような、極めて面倒である上
に、時間の浪費が甚だしい修正作業を一切行なう必要が
なくなり、常にラップ精度を保ちながら、長時間に亘つ
て連続的なラップ作業を行なうことが出来て、その経済
性は絶大なものである。しかも本発明によれば、いわゆ
る4ウェイの強制駆動方式のラップ盤において、特に、
下ラップ・円盤駆動体を基台上に流体軸受によつて回転
自在に支持させて、上下両ラップ円盤を振動や面振れ等
が全く発生しない状態で、高精度に安定回転出来るよう
に構成したので、上下ラップ円盤のラップ作業面に波状
凹凸が全く発生しない。
従つてラップ作業を常に平坦状に維持させた状態で、上
記傘形の変形の修正を常に高精度に行うことが出来て、
極めて高い加工精度が得られる。
【図面の簡単な説明】
図面は本発明を適用したラップ盤の一実施例をノ示した
ものであつて、第1図は全体の縦断面図、第2図は要部
の拡大縦断面図、第3図は第1図■−■線矢視状態の平
面図、第4図は駆動系を示した概略図、第5図はラップ
円盤の平面図、第6図は第5図■−■線断面図、第7A
図〜第7C図はラップ円盤のラップ作業面の自動修正作
用を説明する断面図である。 また図面に用いられた符号において、1は上ラップ円盤
、2は下ラップ円盤、1a,2aはラップ作業面、1b
,2bはラップ作業面とは反対側の面、6は被加工物、
12は下ラップ円盤駆動体、17は回転ヘッド(上ラッ
プ円盤駆動体)、23は上ラップ円盤支持体、24は係
合ヘッド、60は駆動ピン挿入穴、61はラップ剤滴下
孔、62はネジ孔、63はネジ孔、64は取付ネジ、6
5は取付ネジである。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 下ラップ円盤上に被加工物を載置し、被加工物上に
    上ラップ円盤を載置し、中心歯車と内歯歯車とに噛合さ
    れたキャリヤーに被加工物を保持させ、下ラップ円盤と
    上ラップ円盤とを互に反対方向に回転駆動させると共に
    、中心歯車と内歯歯車とを互に異なる速度で回転駆動し
    てキャリヤーを自転させつゝ公転させるように構成して
    成るラップ盤において、上下両ラップ円盤を互に同一の
    構造体に構成して、これら上下両ラップ円盤のラップ作
    業面とは反対側の面には複数個の駆動ピン挿入穴と、内
    外2重の複数個のネジ孔と、上記反対側の面から上記ラ
    ップ作業面側に貫通される複数個のラップ剤供給用孔と
    を夫々設け、下ラップ円盤駆動体を基台上に流体軸受に
    よつて回転自在に支持させ、下ラップ円盤を下ラップ円
    盤駆動体の上部に載置してその下ラップ円盤駆動体に設
    けられた複数個の駆動ピンを下ラップ円盤の上記複数個
    の駆動ピン挿入穴内に挿入させることにより、下ラップ
    円盤を下ラップ円盤駆動体の上部に着脱自在に取付けて
    、その下ラップ円盤駆動体にて下ラップ円盤を回転駆動
    させるように構成し、かつ下ラップ円盤のラップ剤供給
    用孔は詰物にて密封させ、上ラップ円盤を上ラップ円盤
    支持体の下部に密着させて上記外側の複数個のネジ孔を
    利用して複数個の取付ネジにより上ラップ円盤を上ラッ
    プ円盤支持体の下部に着脱自在に取付け、その上ラップ
    円盤の上面に上記内側の複数個のネジ孔を利用して着脱
    自在に取付けた係合ヘッドを上ラップ円盤駆動体に係合
    させて、その上ラップ円盤駆動体にて上ラップ円盤を回
    転駆動させるように構成し、以つて所定時間経過毎に上
    下両ラップ円盤を相互に入れ替えながらラップ作業を行
    なうように構成して成ることを特徴とするラップ盤。
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