JPS6051800B2 - Ｘ線装置 - Google Patents
Ｘ線装置Info
- Publication number
- JPS6051800B2 JPS6051800B2 JP51147979A JP14797976A JPS6051800B2 JP S6051800 B2 JPS6051800 B2 JP S6051800B2 JP 51147979 A JP51147979 A JP 51147979A JP 14797976 A JP14797976 A JP 14797976A JP S6051800 B2 JPS6051800 B2 JP S6051800B2
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- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 18
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 238000003745 diagnosis Methods 0.000 description 2
- 238000002591 computed tomography Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
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- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、診断用及び治療用に用いられるＸ線装置に
係り、特にＸ線管電圧、管電流に高安定度を要求される
いわゆるＣＴスキャナ（ＣｏｍｐｕｔｅｄＴｏｍｏｇｒ
ａｐｈＳｃａｎｎｅｒ）等に最適なＸ線装置に関するも
のである。
係り、特にＸ線管電圧、管電流に高安定度を要求される
いわゆるＣＴスキャナ（ＣｏｍｐｕｔｅｄＴｏｍｏｇｒ
ａｐｈＳｃａｎｎｅｒ）等に最適なＸ線装置に関するも
のである。
従来、Ｘ線装置においてＸ線管の管電流を安定化させ
る方法としては、（１）Ｘ線管のフィラメント加熱回路
に定電圧回路を挿入する方法、（２）Ｘ線管の管電流を
検出しこれをフィードバックしてＸ線管のフィラメント
の加熱電流を例えばリアクター、半導体回路等により制
御する方法などが用いられている。
る方法としては、（１）Ｘ線管のフィラメント加熱回路
に定電圧回路を挿入する方法、（２）Ｘ線管の管電流を
検出しこれをフィードバックしてＸ線管のフィラメント
の加熱電流を例えばリアクター、半導体回路等により制
御する方法などが用いられている。
これらの方法はいずれもＸ線管の単一のフィラメントの
加熱電流を制御するものであり、フィラメントの熱慣性
が大きいために例えばパルス電流等瞬時の変動を伴なう
電流変動に対しては制御応答が遅いという問題があつた
。 本発明は、上記問題を解決するためになされたもの
で、従来のＸ線管のフィラメントに対応する主フィラメ
ントと管電流制御用の熱慣性の小さな補助フィラメント
とを有するＸ線管を使用し、前記主フィラメントにて管
電流をおおむね設定し、且つ管電流の変動分は前記補助
フィラメントにてこれを補正するよう制御する如くなし
、Ｘ線管の管電流を常に一定に保ち得るＸ線装置を提供
することを目的としている。
加熱電流を制御するものであり、フィラメントの熱慣性
が大きいために例えばパルス電流等瞬時の変動を伴なう
電流変動に対しては制御応答が遅いという問題があつた
。 本発明は、上記問題を解決するためになされたもの
で、従来のＸ線管のフィラメントに対応する主フィラメ
ントと管電流制御用の熱慣性の小さな補助フィラメント
とを有するＸ線管を使用し、前記主フィラメントにて管
電流をおおむね設定し、且つ管電流の変動分は前記補助
フィラメントにてこれを補正するよう制御する如くなし
、Ｘ線管の管電流を常に一定に保ち得るＸ線装置を提供
することを目的としている。
以下、図面を参照して本発明の一実施例を説明する。
図において、１は交流電源、２は交流電源１からの電
力を定電圧化する定電圧回路３、４はフィラメント電流
設定用の可変抵抗、５はフィラメント電流設定用の可変
抵抗３を介して前記定電圧回路２からの電力が供給され
る管電流制御回路、６は管電流制御回路５の出力が供給
されるフィラメント加熱用トランス、７はフィラメント
電流設定用の可変抵抗４や介して前記定電圧回路２から
の電力が供給されるフィラメント加熱用トランス、８は
後述の２個のフィラメントを有するＸ線管、９はこの場
合、大きな熱慣性を持ち前記フィラメント加熱用トラン
ス７からの電力供給を受ける前記Ｘ線管８の主フィラメ
ント、１０は小さな熱慣性を持ち前記フィラメント加熱
用トランス６からの電力供給を受ける前記Ｘ線管８の補
助フィラメント、１１は前記Ｘ線管８のアノード、１２
、１３は前記Ｘ線管８のアノ−ドーフィラメント間に高
電圧の電力を供給するための直流電源、１４は直流電源
１２，１３により構成される前記Ｘ線管８に対しての高
電圧供給回路に直列に挿入され前記Ｘ線管８の管電流に
応じて両端に生ずる電圧を前記管電流制御回路５にフィ
ードバックする管電流検出用抵抗、１５，１６は互いに
連動し前記Ｘ線管８に対する前記直流電源１２，１３か
らの高電圧の供給路を開閉するＸ線開閉スイッチである
。前記管電流制御回路５は前記定電圧回路２から可変抵
抗３を介して与えられる電力を前記抵抗１４からフィー
ドバックされる電圧に応じて制御してトランス６に供給
するものである。また、上記２個のフィラメント９，１
０を有するＸ線管８は両フィラメント９，１０によつて
定まる焦点寸法が所要の焦点寸法内に収まるべく考慮さ
れているものとする。このような構成において、Ｘ線管
８に設けられた２個のフィラメント９，１０は、それぞ
れ、主フィラメント９がＸ線管８の主管電流を決めるた
め、補助フィラメント１０がＸ線管８の管電流の変動分
を補正制御するために用いられる。
力を定電圧化する定電圧回路３、４はフィラメント電流
設定用の可変抵抗、５はフィラメント電流設定用の可変
抵抗３を介して前記定電圧回路２からの電力が供給され
る管電流制御回路、６は管電流制御回路５の出力が供給
されるフィラメント加熱用トランス、７はフィラメント
電流設定用の可変抵抗４や介して前記定電圧回路２から
の電力が供給されるフィラメント加熱用トランス、８は
後述の２個のフィラメントを有するＸ線管、９はこの場
合、大きな熱慣性を持ち前記フィラメント加熱用トラン
ス７からの電力供給を受ける前記Ｘ線管８の主フィラメ
ント、１０は小さな熱慣性を持ち前記フィラメント加熱
用トランス６からの電力供給を受ける前記Ｘ線管８の補
助フィラメント、１１は前記Ｘ線管８のアノード、１２
、１３は前記Ｘ線管８のアノ−ドーフィラメント間に高
電圧の電力を供給するための直流電源、１４は直流電源
１２，１３により構成される前記Ｘ線管８に対しての高
電圧供給回路に直列に挿入され前記Ｘ線管８の管電流に
応じて両端に生ずる電圧を前記管電流制御回路５にフィ
ードバックする管電流検出用抵抗、１５，１６は互いに
連動し前記Ｘ線管８に対する前記直流電源１２，１３か
らの高電圧の供給路を開閉するＸ線開閉スイッチである
。前記管電流制御回路５は前記定電圧回路２から可変抵
抗３を介して与えられる電力を前記抵抗１４からフィー
ドバックされる電圧に応じて制御してトランス６に供給
するものである。また、上記２個のフィラメント９，１
０を有するＸ線管８は両フィラメント９，１０によつて
定まる焦点寸法が所要の焦点寸法内に収まるべく考慮さ
れているものとする。このような構成において、Ｘ線管
８に設けられた２個のフィラメント９，１０は、それぞ
れ、主フィラメント９がＸ線管８の主管電流を決めるた
め、補助フィラメント１０がＸ線管８の管電流の変動分
を補正制御するために用いられる。
すなわち、主フィラメント９に即するフィラメント加熱
電流は、定電圧回路２で得た定電圧出力がフィラメント
電流設定用の可変抵抗４及びトランス７を−介して供給
されることになるため略一定値に設定されており、この
主フィラメント９に対する加熱電流によつてＸ線管８の
主管電流値が定まる。また、定電圧回路２の定電圧出力
はフィラメント電流設定用の可変抵抗３を介して管電流
制御回路５に与えられ、この管電流制御回路５の出力が
補助フィラメント１０のフィラメント加熱用トランス６
に供給される。この補助フィラメント１０に対するフィ
ラメント加熱電流の電流値はＸ線管８の全管電流値に対
して小さな範囲でのみ前記全管電こ流値を変化制御し得
るように予め設定されている。ここで、Ｘ線管８のアノ
ードフィラメント間に直流電源１２，１３からの高電圧
がＸ線開閉スイッチ１５，１６を介して印加されるとＸ
線管８に管電流が流れ、アノード１１のターゲット部分
ｔからＸ線が照射される。このときの管電流は上述した
如く主として主フィラメント９の加熱電流により定まる
。今、何らかの原因、例えば電源電圧変動、回路のイン
ピーダンスドロップ、Ｘ線管の特性等により管電流が変
化した場合、Ｘ線管８に対する（直流電源１２，１３に
よる）高電圧供給回路に直列に挿入された抵抗１４の両
端の電圧が変化し、これが管電流制御回路５にフィード
バックされる。管電流制御回路５は前記フィードバック
される電圧に応じ前記管電流が増加した場合には補助フ
ィラメント１０に対する加熱電流を低下させ、また前記
管電流が減少した場合には逆の作用をさせて前記管電流
の変動分を常に補正すべくｌ制御する。このようにして
、Ｘ線管８の全管電流が常に一定に保たれるように制御
される。
電流は、定電圧回路２で得た定電圧出力がフィラメント
電流設定用の可変抵抗４及びトランス７を−介して供給
されることになるため略一定値に設定されており、この
主フィラメント９に対する加熱電流によつてＸ線管８の
主管電流値が定まる。また、定電圧回路２の定電圧出力
はフィラメント電流設定用の可変抵抗３を介して管電流
制御回路５に与えられ、この管電流制御回路５の出力が
補助フィラメント１０のフィラメント加熱用トランス６
に供給される。この補助フィラメント１０に対するフィ
ラメント加熱電流の電流値はＸ線管８の全管電流値に対
して小さな範囲でのみ前記全管電こ流値を変化制御し得
るように予め設定されている。ここで、Ｘ線管８のアノ
ードフィラメント間に直流電源１２，１３からの高電圧
がＸ線開閉スイッチ１５，１６を介して印加されるとＸ
線管８に管電流が流れ、アノード１１のターゲット部分
ｔからＸ線が照射される。このときの管電流は上述した
如く主として主フィラメント９の加熱電流により定まる
。今、何らかの原因、例えば電源電圧変動、回路のイン
ピーダンスドロップ、Ｘ線管の特性等により管電流が変
化した場合、Ｘ線管８に対する（直流電源１２，１３に
よる）高電圧供給回路に直列に挿入された抵抗１４の両
端の電圧が変化し、これが管電流制御回路５にフィード
バックされる。管電流制御回路５は前記フィードバック
される電圧に応じ前記管電流が増加した場合には補助フ
ィラメント１０に対する加熱電流を低下させ、また前記
管電流が減少した場合には逆の作用をさせて前記管電流
の変動分を常に補正すべくｌ制御する。このようにして
、Ｘ線管８の全管電流が常に一定に保たれるように制御
される。
この場合補助フィラメント１０による管電流の補正分は
通常全管電流に対して数％以下で良いから、補助フィラ
メント１０は主フィラメント９に比して充分に小さなも
ので良く、このため補助フィラメント１０の熱慣性も非
常に小さくなり、管電流の急な変動も充分に補正できる
。また、補助フィラメント１０による管電流の制御範囲
が狭いことから、アノード１１のターゲット焦点部分の
温度上昇も主フィラメント９により略決定されるのでＸ
線管８がＸ線管として製作容易であるという利点もある
。さらに上記同様管電流の大部分は主フィラメント９に
より決定されるので、Ｘ線管８の焦点も主フィラメント
９によりおおむね決定され、補助フィラメント１０があ
つても主フィラメント９による焦点と同一面積内に収め
ることができるので焦点寸法の変動は起らない。以上、
述べたように本発明によれば従来のＸ線管のフィラメン
トに対応する主フィラメントと管電流制御用の熱慣性の
小さな補助フィラメントとを有するＸ線管を使用し、前
記主フィラメントにて管電流をおおむね設定し、且つ管
電流の変動分は前記補助フィラメントにてこれを補正す
るよう制御する如くなし、Ｘ線管の管電流を常に一定に
保ち得るＸ線装置を提供することができる。
通常全管電流に対して数％以下で良いから、補助フィラ
メント１０は主フィラメント９に比して充分に小さなも
ので良く、このため補助フィラメント１０の熱慣性も非
常に小さくなり、管電流の急な変動も充分に補正できる
。また、補助フィラメント１０による管電流の制御範囲
が狭いことから、アノード１１のターゲット焦点部分の
温度上昇も主フィラメント９により略決定されるのでＸ
線管８がＸ線管として製作容易であるという利点もある
。さらに上記同様管電流の大部分は主フィラメント９に
より決定されるので、Ｘ線管８の焦点も主フィラメント
９によりおおむね決定され、補助フィラメント１０があ
つても主フィラメント９による焦点と同一面積内に収め
ることができるので焦点寸法の変動は起らない。以上、
述べたように本発明によれば従来のＸ線管のフィラメン
トに対応する主フィラメントと管電流制御用の熱慣性の
小さな補助フィラメントとを有するＸ線管を使用し、前
記主フィラメントにて管電流をおおむね設定し、且つ管
電流の変動分は前記補助フィラメントにてこれを補正す
るよう制御する如くなし、Ｘ線管の管電流を常に一定に
保ち得るＸ線装置を提供することができる。
尚、本発明は上記し且つ図面に示す実施例にのみ限定さ
れることなく、その要旨を変更しない範囲内で種々変形
して実施できる。例えば上記実施例においては、主、補
助２個のフィラメント９，１０を設けたＸ線管８を用い
た場合について説明したが、３個以上フィラメントを設
けたＸ線管を用いる構成としてもよい。また、同実施例
においては主フィラメント９と補助フィラメント１０と
を熱慣性の異なるものとして制御効果を高めるようにし
ているが、これら両フィラメント９，１０の大きさ、熱
慣性を全く同一のものとしても、フィラメント１個当り
の大きさ、熱慣性等は従来のものより小さくすることが
でき、しかも管電流を補正するための補助フィラメント
には少なくとも補正範囲のみの電流を供給すればよいか
ら、実質的に熱慣性が充分に小さくなるように設定でき
る。したがつて、従来診断用等に用いられている二重焦
点、Ｘ線管をそのまま応用することも可能である。
れることなく、その要旨を変更しない範囲内で種々変形
して実施できる。例えば上記実施例においては、主、補
助２個のフィラメント９，１０を設けたＸ線管８を用い
た場合について説明したが、３個以上フィラメントを設
けたＸ線管を用いる構成としてもよい。また、同実施例
においては主フィラメント９と補助フィラメント１０と
を熱慣性の異なるものとして制御効果を高めるようにし
ているが、これら両フィラメント９，１０の大きさ、熱
慣性を全く同一のものとしても、フィラメント１個当り
の大きさ、熱慣性等は従来のものより小さくすることが
でき、しかも管電流を補正するための補助フィラメント
には少なくとも補正範囲のみの電流を供給すればよいか
ら、実質的に熱慣性が充分に小さくなるように設定でき
る。したがつて、従来診断用等に用いられている二重焦
点、Ｘ線管をそのまま応用することも可能である。
図は本発明の一実施例の構成を示すブロック図である。
Claims (1)
- １ 複数のフィラメントを備えたＸ線管と、このＸ線管
に高電圧の電力を供給する高電圧供給回路と、この高電
圧供給回路中に設けられ前記Ｘ線管の管電流を検出する
管電流検出手段と、前記Ｘ線管の複数のフィラメントに
それぞれ接続され各別にフィラメント加熱電流を供給す
る複数のフィラメント加熱回路と、これらフィラメント
加熱回路のいずれかに挿入され前記管電流検出手段の検
出信号に応じて該フィラメント加熱回路のフィラメント
加熱電流を変化させて前記管電流を制御する管電流制御
回路とを備えてなるＸ線装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP51147979A JPS6051800B2 (ja) | 1976-12-09 | 1976-12-09 | Ｘ線装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP51147979A JPS6051800B2 (ja) | 1976-12-09 | 1976-12-09 | Ｘ線装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5372491A JPS5372491A (en) | 1978-06-27 |
| JPS6051800B2 true JPS6051800B2 (ja) | 1985-11-15 |
Family
ID=15442415
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP51147979A Expired JPS6051800B2 (ja) | 1976-12-09 | 1976-12-09 | Ｘ線装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6051800B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59156330A (ja) * | 1983-02-28 | 1984-09-05 | 株式会社東芝 | Ｘ線ｃｔ装置 |
| EP3823002A1 (en) * | 2019-11-14 | 2021-05-19 | Koninklijke Philips N.V. | Constant discharge current bleeder |
-
1976
- 1976-12-09 JP JP51147979A patent/JPS6051800B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5372491A (en) | 1978-06-27 |
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